1. 丰田汽车将从下周一重启日本汽车工厂的生产
丰田汽车表示将于下周一重新启动日本的汽车工厂,但考虑到地震带来的影响,将另行决定1月15日之后的运营情况。1月7日,丰田汽车表示,尽管部分供应商因最近在日本能登半岛发生的强烈地震而受到干扰,但将从下周一开始按计划恢复日本本土的汽车生产。
由于余震仍在持续,且丰田许多供应商和附属公司在地震中遭受损害,丰田表示将使用库存区域以外的零部件。同时,丰田也将评估其供应商在1月15日之后的情况,然后再确定其持续的生产活动。丰田此前曾表示,由于供应商在地震中受到损害,无法按计划开始生产。丰田新任CEO(Koji Sato)本周五谈到,公司正试图了解供应链情况,因为供应商爱信和住友电气受到了地震的破坏。
2. 英特尔率先拥抱 High-NA EUV 光刻机,台积电持观望态度
芯片巨头英特尔近日喜获业内首台具有 0.55 数值孔径(High-NA)的 ASML 极紫外(EUV)光刻机,将助力其在未来几年实现更先进的芯片制程。与之形成鲜明对比的是,另一巨头台积电则按兵不动,似乎并不急于加入这场下一代光刻技术的竞赛。业内分析师预计,台积电可能要到 2030 年甚至更晚才会采用这项技术。
英特尔此次获得的 High-NA EUV 光刻机将首先用于学习和掌握这项技术,预计在未来两三年内用于 18A (1.8nm 工艺)之后的芯片制程节点。相比之下,台积电则采取了更加谨慎的策略,华兴资本和 SemiAnalysis 的分析师认为,台积电可能要到 N1.4 制程之后(预计在 2030 年后)才会采用 High-NA EUV 技术。
3. 7.48~10.48 万元,东风纳米 01 纯电小车上市:CLTC 续航 330/430km
东风纳米旗下首款车型 —— 纳米 01正式宣布上市,指导价 7.48 万元起。这款小车基于东风旗下的「量子 3 号」纯电架构打造,长宽高分别为 4030/1810/1570mm,轴距 2660mm。
动力方面,纳米 01 将会采用单电机布局,最大功率 70kW,最大扭矩 160N・m。根据版本不同,该车将会搭载不同容量的电池组,官方 CLTC 续航里程为 330km 和 430km。值得一提的是,这款纯电小车采用了马赫 E 十合一电驱动总成,能效百分比高达 91.9%。根据官方的说法,「量子 3 号」平台还配备了固态电池和轮毂电机(这款新车暂未提供),可实现大转向角度,最低能耗 11 kWh / 100km,CLTC 达成率 89%,最快支持 8 分钟补能 200 km。
4. 华为 P70 手机 Deco 玻璃饰板泄露,采用 50MP 国产超大底 + 国产物理可变光圈
据爆料华为 P70 将搭载 50MP 国产超大底 + 国产物理可变光圈,有网友晒出 Deco 玻璃饰板泄露图片,可以看出与此前公布的线稿大致相同。
此前,有博主分享一张华为 P70 超前瞻线稿,可以看出采用后置三摄,三颗镜头呈三角状排列,布局上类似 P60。据外媒 GSMArena 报道,华为 P70 在摄影模组方面有一定升级,据称新机超广角镜头使用 1G6P 结构(一层玻璃镜片 + 六层塑料镜片),主摄配备 1 英寸传感器。
5. 苹果 M3 iPad Pro 将首次引入 OLED 屏幕,分析师称亮度高、寿命长、机身薄
据爆料,苹果将于今年晚些时候推出搭载 M3 芯片的 iPad Pro,并首次采用 OLED 显示屏技术。知名显示器供应链咨询公司 DSCC 的 CEO 罗斯・杨(Ross Young)透露了最新相关消息,他认为苹果将为 M3 iPad Pro 引进多项首次应用于该系列产品的技术,并对即将采用的 OLED 面板给予了高度评价。
据传,11 英寸和 12.9 英寸的 iPad Pro 机型都将配备 LTPO 背板,类似于苹果最新款 iPhone 15 Pro 和 iPhone 15 Pro Max 所采用的技术。罗斯・杨表示,这些即将上市的设备还将是首批采用串联堆叠技术的平板电脑。
6. 消息称华为在汽车充电方面可能会打造一个联盟,提高充电桩利用率
赛力斯与华为数字能源技术有限公司共同宣布,双方在深圳签署全面战略合作协议。据第一财经报道,有业内人士称,华为在充电方面可能会打造一个联盟,以提高充电桩的利用率,加速走向盈利。
华为数字能源技术有限公司总裁侯金龙发表演讲表示,将推动全面高压化、超快充,推动新能源汽车与充电基础设施高质量协同发展。侯金龙表示,华为数字能源将携手客户、伙伴,计划于 2024 年率先在全国 340 多个城市和主要公路部署超过 10 万个华为全液冷超快充充电桩,实现“有路的地方就有高质量充电”。
今日看点丨英特尔率先拥抱 High-NA EUV 光刻机;消息称华为在汽车充电方面可能会打造一个联盟,提高充电桩利
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14641关于EUV光刻机的分析介绍
格芯首席技术官Gary Patton表示,如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机,那么光刻的步骤将会超过100步,这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具,未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
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ASML研发第二代EUV光刻机的微缩分辨率、套准精度提升了70%
据韩媒报道称,ASML正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。
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7084ASML研发新一代EUV光刻机 分辨率能提升70%左右
在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
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3419曝ASML新一代EUV光刻机预计2022年开始出货 将进一步提升光刻机的精度
在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:19
5447
5447光刻机能干什么_英特尔用的什么光刻机_光刻机在芯片生产有何作用
光刻机是芯片制造的核心设备之一,作为目前世界上最复杂的精密设备之一,其实光刻机除了能用于生产芯片之外,还有用于封装的光刻机,或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前,我国高端的光刻机,基本上是从荷兰ASML进口的。
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47310开发顶级光刻机的困难 顶级光刻机有多难搞?
顶级光刻机有多难搞?ASML的光刻机,光一个零件他就调整了10年!拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例,其内部精密零件多达10万个,比汽车零件精细数十倍!
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12919
12919EUV光刻机的数量有望成为三星半导体成长的关键
据悉,ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商,年产量为40余台,台积电方面希望获得全数供应。EUV光刻机的价格昂贵,每台要价约1.3亿美元,由于是EUV制程必需的关键设备,台积电与三星电子的竞争日益激烈。
2020-10-13 13:51:52
2542
2542EUV光刻机还能卖给中国吗?
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2020-10-19 12:02:49
10752
10752
为何EUV光刻机会这么耗电呢
EUV(极紫外光)光刻机,是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型。近来,有不少消息都指出,EUV光刻机耗电量非常大,甚至它还成为困扰台积电的一大难题。 为何EUV光刻机会这么耗电呢
2021-02-14 14:05:00
4746
4746为什么都抢着买价格更昂贵的EUV光刻机?
目前,还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机,三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约,中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:18
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5443ASML下一代EUV光刻机延期:至少2025年
的出货不及预期的35台,而且他们还宣布了下一代高NA的EUV光刻机要到2025-2026年之间才能规模应用,意味着要延期了。 此前信息显示,ASML下一代EUV光刻机最早是2022年开始出样,大规模
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3621SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机
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2324SK海力士与ASML签合同:SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机
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2709SK海力士砸4.8万亿韩元买EUV光刻机
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2438中国有望独立生产EUV光刻机,打破ASML垄断
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16218ASML第二代EUV光刻机跳票三年,售价恐贵出天际
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1795美国出手阻挠!禁止荷兰将EUV光刻机卖给中国大陆
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2514美国出手阻挠,禁止荷兰将EUV光刻机卖给中国大陆
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日前,在台积电召开的会议上,有一名高管称台积电将于2024年引进ASML正在研发的最新的High-NA EUV光刻机。 会议中,该高管称:为了满足客户所需的相关基础设施的开发等,台积电将于2024年
2022-06-17 16:33:27
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7596ASML的High-NA光刻机居然只卖出5台,大多芯片厂商不为所动
2nm制程的量产。 目前市面上最先进的是EUV光刻机,而其能够支持制造的先进制程工艺最高为3nm,也就是说,再往后的2nm等工艺就要用更加先进的光刻机来完成。 ASML为此正在研发一种特别的EUV光刻机——High-NA EUV光刻机。这种光刻机所采用的技术能够
2022-06-22 14:44:16
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21722纳米即将进入下世代的埃米(angstorm)时代布局
英特尔今年初宣布已率先向 ASML 购买业界首台 High-NA 量产型 EUV 设备 EXE:5200,其为首款具备 High-NA 的 EUV 大量生产系统,每小时晶圆曝光产能超过 200 片,英特尔并宣布将于 2025 年开始以 High-NA EUV 进行生产。
2022-06-22 15:15:10
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3103新EUV光刻机售价超26亿,Intel成为首位买家,将于2025年首次交付
3nm制程,据了解,更加先进的制程就需要更先进的光刻机来完成了。 光刻机厂商ASML为此正在研发新一代High NA EUV光刻机,这种EUV光刻机的NA数值孔径比现在0.33口径的EUV光刻机还要高,达到了0.55口径,也就是说High NA EUV光刻机的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:12
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8591三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息
三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:15
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6764euv光刻机出现时间 ASML研发新一代EUV光刻机
EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:44
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5306euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗
ASML的极紫外光刻机(EUV),这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候,光刻机是用一系列光源能量和形状控制手段,通过带有电路图的掩模传输光束。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制等多项先
2022-07-10 11:17:42
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53101euv光刻机是哪个国家的
说到芯片,估计每个人都知道它是什么,但说到光刻,许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话,就无法生产芯片,因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻机
2022-07-10 11:42:27
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8556euv光刻机是干什么的
可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下,能
2022-07-10 14:35:06
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7938duv光刻机和euv光刻机区别是什么
目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:10
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87067euv光刻机原理是什么
光刻机的原理是接近或接触光刻,通过无限接近,将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上,通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流光刻技术,具有效率高、无损伤等优点。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工
2022-07-10 15:28:10
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18347euv光刻机用途是什么
光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备,其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢?下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制等
2022-07-10 16:34:40
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5149ASML下一代EUV光刻机High-NA来了!
对于3nm后的节点,ASML及其合作伙伴正在研究一种全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透镜,能够达到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多图案。
2022-08-17 15:44:04
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3078密度提升近3倍,高NA EUV光刻机有何玄机
投入使用高NA EUV光刻机已经势在必行了。 据了解,一台高NA EUV的光刻机成本就可能达到3.2亿美元,这样一个天价的光刻系统究竟能带来哪些优势,又存在哪些挑战呢? 规模和密度的平衡,我们为什么需要高NA光刻机? 从今年发布的不少新品来看,即便工艺没有太大的变化,芯片
2022-12-07 07:25:02
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1848ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV ***;苹果与Arm签署新的芯片技术长期协议,延续至2040年以后
热点新闻 1、ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿美元 ASML 首席执行官 Peter Wennink 近日在接受采访时表示,尽管
2023-09-06 16:50:06
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生产2纳米的利器!成本高达3亿欧元,High-NA EUV***年底交付 !
ASML是欧洲最大半导体设备商,主导全球光刻机设备市场,光刻机是半导体制造关键步骤,但高数值孔径(High NA)EUV,Peter Wennink指有些供应商提高产能及提供适当技术遇到困难,导致延误。但即便如此,第一批产品仍会在年底推出。
2023-09-08 16:54:10
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1629IBM、美光、应用材料、东京电子宣布合作建设 High-NA EUV 研发中心
Albany NanoTech Complex 建设下一代 High-NA EUV 半导体研发中心。 根据声明,负责协调该设施建设的非营利性机构 NY Creates 将利用 10 亿美元州政府资金向
2023-12-14 08:44:18
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935英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
2023-12-28 11:31:39
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1609英特尔:预计2027年末10A节点投产,投资千亿美元扩大晶圆制造
根据先前记载,10A将会是英特尔继使用High-NA EUV光刻技术的首批主要节点之后的第二例,预计可呈现出超过10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22
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1220英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商
英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂,据报道它们的售价约为3.8亿美元
2024-03-06 14:49:01
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ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面。 除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列,ASML 也为其 NXE 系列传统数值孔径
2024-03-14 08:42:34
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Intel和ASML宣布全球第一台High-NA光刻机“首光”
荷兰ASML是世界上最先进的光刻设备制造商,最近该公司启动了第一台high-NA(numerical aperture,数值孔径)设备,以确保其正常工作。Intel也加入了这一行列,因为它是世界上第一家订购该设备的代工厂。
2024-04-08 10:12:14
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2069阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果
在半导体领域,技术创新是推动整个行业向前发展的重要动力。近日,荷兰阿斯麦(ASML)公司宣布,成功打造了首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV
2024-04-18 11:50:47
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英特尔完成高数值孔径EUV光刻机,将用于14A制程
半导体设备制造商阿斯麦(ASML)于去年底在社交媒体上发布照片,揭示已向英特尔提供第一套高数值孔径EUV系统的关键部件。如今英特尔宣布已完成组装,这无疑展示了其在行业中的领先地位。
2024-04-19 10:07:37
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1251英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
2024-04-22 15:52:56
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1974英特尔率先推出业界高数值孔径 EUV 光刻系统
来源:Yole Group 英特尔代工已接收并组装了业界首个高数值孔径(高NA)极紫外(EUV)光刻系统。 新设备能够大大提高下一代处理器的分辨率和功能扩展,使英特尔代工厂能够继续超越英特尔 18A
2024-04-26 11:25:56
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956ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案
ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
2024-04-29 10:44:34
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1739台积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键
据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1.7亿欧元(约合13.19亿元人民币)。
2024-05-15 14:42:38
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1174台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产
据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机。
2024-05-17 17:21:47
2030
2030ASML考虑推出通用EUV光刻平台
范登布林克指出,更高的数值孔径能提高光刻分辨率。他进一步解释说,Hyper NA 光刻机将简化先进制程生产流程,避免因使用 High NA 光刻机进行双重图案化导致的额外步骤及风险。
2024-05-23 09:51:32
1003
1003Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
2024-05-27 14:37:22
1245
1245ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机,将芯片密度限制再缩小
,约在2030年将提供新的Hyper-NA EUV技术。目前仍处于开发初期阶段的Hyper-NA将遵循High-NA系统,ASML今年初在英特尔奥勒冈厂首度安装High-NA系统。 报导,van
2024-06-18 09:57:53
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1206日本与英特尔合建半导体研发中心,将配备EUV光刻机
英特尔将在日本设立先进半导体研发中心,配备EUV光刻设备,支持日本半导体设备和材料产业发展,增强本土研发能力。 据日经亚洲(Nikkei Asia)9月3日报导,美国处理器大厂英特尔已决定与日
2024-09-05 10:57:30
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989今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机
1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机,加快开发1nm 芯片 据报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV(极紫外)光刻机设备,这标志着这家韩国
2024-10-31 10:56:06
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1494今日看点丨英特尔将更多Arrow Lake芯片订单外包给台积电;西门子全球裁员高达5000人
据传台积电和英特尔等公司都已下单。外媒本月稍早引述消息人士报导,台积电订购的High-NA EUV设备首批机件,将
2024-11-15 11:24:34
1042
1042如何提高光刻机的NA值
本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高? 什么是NA值? 如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
2025-01-20 09:44:18
2477
2477
押注2nm!英特尔26亿抢单下一代 EUV光刻机,台积电三星决战2025!
了。 芯片制造离不开光刻机,特别是在先进制程上,EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时,尽管目前市面上,EUV光刻机客户仅有三家,但需求不断增加的情况底下,EUV光刻机依然供不应求。 针对后3nm时代的芯片制造工艺,High-NA(高数值孔径)EUV光刻机
2022-06-29 08:32:00
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