0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

曝ASML新一代EUV光刻机预计2022年开始出货 将进一步提升光刻机的精度

半导体动态 来源:快科技 作者:宪瑞 2020-03-17 09:21 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。

根据ASML之前的报告,去年他们出货了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。

目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时,支持7nm、5nm。

此外,NXE:3400C的产能也从之前的125WPH(每小时处理晶圆数)提升到了175WPH。

不论NXE:3400B还是NXE:3400C,目前的EUV光刻机还是第一代,主要特点是物镜系统的NA(数值孔径)为0.33。

ASML最近纰漏他们还在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列,NA指标达到了0.55,主要合作伙伴是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心。

与之前的光刻机相比,新一代光刻机意味着分辨率提升了70%左右,可以进一步提升光刻机的精度,毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的。

不过新一代EUV光刻机还有点早,至少到2022年才能出货,大规模出货要到2024年甚至2025年,届时台积电、三星等公司确实要考虑3nm以下的制程工艺了。

责任编辑:wv

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1201

    浏览量

    49010
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    738

    浏览量

    43629
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够,还需要光刻
    的头像 发表于 10-28 08:53 7032次阅读

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML
    的头像 发表于 10-04 03:18 1.1w次阅读
    俄罗斯亮剑:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飙升!ASML光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造难题,光刻机龙头企业
    的头像 发表于 07-24 09:29 8743次阅读
    AI需求飙升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    看点:台积电展示新一代芯片技术 特斯拉:努力在中国市场推出辅助驾驶

    ‌(低成本方案,适配手机/笔记本),并宣布至2029均无需采用ASML高价High-NA EUV光刻设备。‌‌这意味着台积电‌即便不用阿斯麦昂贵的高数值孔径极紫外
    的头像 发表于 04-23 15:07 110次阅读

    垄断 EUV 光刻机之后,阿斯麦剑指先进封装

    能量产 EUV 光刻机的厂商,早已凭借这垄断地位,深度绑定台积电等头部芯片制造商,左右着全球最先进 AI 芯片的产能与迭代节奏。如今,这家巨头正跳出 EUV 的舒适区,
    的头像 发表于 03-05 09:19 2671次阅读

    EUV光源重大突破!ASML:芯片产量提升50%

    电子发烧友网综合报道 近日,阿斯麦(ASML)的研究人员表示,他们成功找到提升关键芯片制造设备中光源功率的方法,预计到2030可使芯片产量提高多达50%。  
    的头像 发表于 02-25 09:15 2527次阅读

    光刻机的“精度锚点”:石英压力传感器如何守护纳米级工艺

    在7纳米、3纳米等先进芯片制造中,光刻机0.1纳米级的曝光精度离不开高精度石英压力传感器的支撑,其作为“隐形功臣”,是保障工艺稳定、设备安全与产品良率的核心部件。本文聚焦石英压力传感器在光刻机
    的头像 发表于 12-12 13:02 962次阅读

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 2709次阅读

    【「AI芯片:科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术

    %。至少将GAA纳米片提升几个工艺节点。 2、晶背供电技术 3、EUV光刻机与其他竞争技术 光刻技术是制造3nm、5nm等工艺节点的高端半导体芯片的关键技术。是将设计好的芯片版图图形转
    发表于 09-15 14:50

    今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全国首台国产商业电子束光刻机问世,精度比肩国际主流   近日,全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6nm,线宽
    发表于 08-15 10:15 3191次阅读
    今日看点丨全国首台国产商业电子束<b class='flag-5'>光刻机</b>问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全球市占率35%,国内90%!芯上微装第500台步进光刻机交付

    制造过程中至关重要的一步,它通过曝光和显影过程,在光刻胶层上精确地刻画出几何图形结构,随后利用刻蚀工艺这些图形转移到衬底材料上。这过程直接决定了最终芯片的性能与功能。芯上微装已经与
    发表于 08-13 09:41 2566次阅读
    全球市占率35%,国内90%!芯上微装第500台步进<b class='flag-5'>光刻机</b>交付

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    佳能9月启用新光刻机工厂,主要面向成熟制程及封装应用

    7 月 31 日消息,据《日经新闻》报道,日本相机、打印机、光刻机大厂佳能 (Canon) 位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于 9 月正式投入量产,主攻成熟制程及后段封装应用设备,为全球芯片封装
    的头像 发表于 08-04 17:39 1041次阅读

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这
    发表于 06-29 06:39 2143次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而
    发表于 05-07 06:03