光刻机是大规模集成电路生产的核心设备,它能够制造和维护需要高水平的光学和电子产业基础,全球只有少数制造商掌握了这一基础。
光刻机的作用是对芯片晶圆进行扫描曝光,对集成电路进行蚀刻。精度更高的光刻机可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。
EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。
目前,最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下,能够产出2-5nm芯片。
本文综合自百度百科、大嘴猴侃科技、CSDN
编辑:何安
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