0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

euv光刻机原理是什么

璟琰乀 来源:百度百科、时间财富网 作者:百度百科、时间财 2022-07-10 15:28 次阅读

芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢?

EUV光刻机的原理是接近或接触光刻,通过无限接近,将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上,通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流光刻技术,具有效率高、无损伤等优点。

EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。

高端投影光刻机可分为两种类型:步进投影光刻和扫描投影光刻。分辨率一般在在10纳米到几微米之间。高端光刻机被誉为世界上最精密的仪器。

本文综合自百度百科、时间财富网

审核编辑:何安

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1148

    浏览量

    47300
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    604

    浏览量

    85985
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机

    1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机,加快开发1nm 芯片   据报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV(极紫外)光刻机设备,这标
    发表于 10-31 10:56 790次阅读

    日本与英特尔合建半导体研发中心,将配备EUV光刻机

    英特尔将在日本设立先进半导体研发中心,配备EUV光刻设备,支持日本半导体设备和材料产业发展,增强本土研发能力。 据日经亚洲(Nikkei Asia)9月3日报导,美国处理器大厂英特尔已决定与日
    的头像 发表于 09-05 10:57 321次阅读

    半导体产业竞速:Hyper-NA EUV光刻机挑战与机遇并存

    。在这场技术竞赛中,光刻机作为半导体制造的核心设备,其重要性不言而喻,而荷兰巨头阿斯麦(ASML)无疑是这一领域的领航者。
    的头像 发表于 07-03 14:46 2378次阅读

    ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机,将芯片密度限制再缩小

    ASML再度宣布新光刻机计划。据报道,ASML预计2030年推出的Hyper-NA极紫外光EUV),将缩小最高电晶体密度芯片的设计限制。 ASML前总裁Martinvan den Brink宣布
    的头像 发表于 06-18 09:57 469次阅读

    Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

    在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
    的头像 发表于 05-27 14:37 608次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
    的头像 发表于 05-17 17:21 931次阅读

    台积电未确定是否采购阿斯麦高数值孔径极紫外光刻机

    尽管High NA EUV光刻机有望使芯片设计尺寸缩减达三分之二,但芯片制造商需要权衡利弊,考虑其高昂的成本及ASML老款设备的可靠性问题。
    的头像 发表于 05-15 09:34 397次阅读

    李在镕会长访问蔡司总部,强化半导体技术和高端设备合作

    蔡司作为ASML EUV光刻机光学系统唯一供应商,其提供的三万余个组件构成了每台EUV光刻机的核心部分,同时在EUV
    的头像 发表于 04-29 14:25 498次阅读

    ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

    ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
    的头像 发表于 04-29 10:44 781次阅读

    EUV光刻机机密文件被盗!

    内部文件流失,其包括EUV掩模坯料和光掩模(光罩基底及光罩)在内的机密文件, 黑客向该公司勒索 1000 万美元(约 7260 万元人民币)赎金。不过豪雅光学至今尚未提供攻击的调查进展,也未对相关勒索软件攻击报道作出官方回应。 据百能云芯电.子元器.件商.城了解,Hoya 网络攻击是
    的头像 发表于 04-22 17:20 381次阅读
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>机密文件被盗!

    英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

    英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
    的头像 发表于 04-22 15:52 880次阅读

    阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果

    )光刻机,并已经成功印刷出首批图案。这一重要成就,不仅标志着ASML公司技术创新的新高度,也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前,全球仅有两台高数值孔径EUV
    的头像 发表于 04-18 11:50 867次阅读
    阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>实现突破性成果

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
    的头像 发表于 03-14 08:42 525次阅读
    ASML 首台新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

    根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、台积电、三星均斥资入股了ASML。2012年7月,英特尔入股
    的头像 发表于 02-23 17:27 990次阅读

    如何获得高纯度的EUV光源?EUVL光源滤波系统的主流技术方案分析

    目前,商用EUV光刻机采用激光等离子体型-极紫外(LPP-EUV)光源系统,主要由驱动激光器、液滴锡靶、收集镜组成。
    的头像 发表于 02-21 10:18 1094次阅读
    如何获得高纯度的<b class='flag-5'>EUV</b>光源?EUVL光源滤波系统的主流技术方案分析