日前,在台积电召开的会议上,有一名高管称台积电将于2024年引进ASML正在研发的最新的High-NA EUV光刻机。
会议中,该高管称:为了满足客户所需的相关基础设施的开发等,台积电将于2024年引进ASML最先进的High-NA EUV光刻机,并且推动台积电的创新能力。不过另一位高管补充道:台积电并不打算在2024年将High-NA EUV光刻机投入到生产工作中去,将首先与合作伙伴进行相关的研究。
据了解,High-NA EUV光刻机的High-NA代表的是高数值孔径,相比于现在的光刻技术,这种光刻机能够降低66%的尺寸,2nm及其之后的技术也都要靠High-NA EUV光刻机才能够实现,所以这种光刻机也被认为是延续摩尔定律的关键技术。
目前ASML还在制造High-NA EUV光刻机,首台将会在明年完工,不过正式投入使用估计要等到2025年了。
综合整理自 同花顺财经 澎湃新闻 IT之家
审核编辑 黄昊宇
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