近日,据外媒路透社报道称,全球最先进的光刻机生产厂商ASML正致力于进行新一代光刻机的制造,预计第一台会在明年完工,将在2025能够正式投入使用,每台新光刻机售价预计在4亿美元左右。
新光刻机采用了High-NA光刻技术,High-NA指的是高数值孔径,据了解,这种High-NA光刻技术能降低66%的尺寸,也就意味着芯片制程能够进一步得到升级,芯片也将获得更高的性能,2nm之后的技术都得用这种技术来实现。High-NA光刻技术被认为是延续摩尔定律的关键。
不过采用了High-NA光刻技术的光刻机体积会比之前的光刻机要大30%左右,据悉重量会达到200吨,大小将会和双层巴士差不多大。
目前AMSL在High-NA光刻技术上还有一些压力,因为虽然光刻机是ASML生产的,但是ASML有着几百家零件供应商,对供应商的依赖性比较严重,所以一旦供应链出了问题,那么ASML的整个光刻机产业链都将受到影响。
审核编辑 黄昊宇
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
光刻机
+关注
关注
31文章
1117浏览量
46360 -
ASML
+关注
关注
7文章
669浏览量
40701
发布评论请先 登录
相关推荐
光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 ASML公司一季度订单下滑
光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 ASML公司一季度订单下滑 光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷了,阿斯麦(ASML)在4月17日披露的一季度订单远低于市场预期,这使得阿斯麦(
Intel和ASML宣布全球第一台High-NA光刻机“首光”
荷兰ASML是世界上最先进的光刻设备制造商,最近该公司启动了第一台high-NA(numerical aperture,数值孔径)设备,以确保其正常工作。Intel也加入了这一行列,因
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面。 除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列,ASML 也为其 NXE
英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商
英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂,据报道它们的
ASML光刻机技术的领航者,挑战与机遇并存
ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色,其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
发表于 03-05 11:26
•202次阅读
英特尔:预计2027年末10A节点投产,投资千亿美元扩大晶圆制造
根据先前记载,10A将会是英特尔继使用High-NA EUV光刻技术的首批主要节点之后的第二例,预计可呈现出超过10%的每瓦性能改善。
佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机
来源:DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货,与ASML的EVU设备竞争市场,因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。 佳能董事长兼首席执行官Hiroaki
ASML 2023年Q4 财报发布,光刻机订单大增
来源:AIot工业检测,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 随着芯片需求的不断增长,芯片制造商正加大采购晶圆厂设备的力度,以提高产能。作为EUV光刻机制造商,ASML受益于这一趋势,其2023
英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿
今日看点丨华为强烈反对,东方材料宣布终止收购鼎桥;传ASML将推出2nm制造设备 英特尔已采购6台
其中6台。新一代的高数值孔径 (High-NA) EUV光刻机可以将聚光能力从0.33提高至0.55,能够获得更精细的曝光图案,用于2nm制程节点。未来几年,ASML希望将这种最新设备
发表于 12-20 11:23
•731次阅读
IBM、美光、应用材料、东京电子宣布合作建设 High-NA EUV 研发中心
Albany NanoTech Complex 建设下一代 High-NA EUV 半导体研发中心。 根据声明,负责协调该设施建设的非营利性机构 NY Creates 将利用 10 亿美元州政府资金
生产2纳米的利器!成本高达3亿欧元,High-NA EUV***年底交付 !
ASML是欧洲最大半导体设备商,主导全球光刻机设备市场,光刻机是半导体制造关键步骤,但高数值孔径(High
ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV ***;苹果与Arm签署新的芯片技术长期协议,延续至2040年以后
热点新闻 1、ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿
ASML和IMEC宣布共同开发high-NA EUV光刻试验线
据悉,签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶设置imec测试线及asml的所有尖端光标及测量设备的服务。最新款0.55 na euv (twinscan exe:5200)、最新款0.33 na euv
评论