0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

牛牛牛 来源:网络整理 作者:网络整理 2024-04-22 15:52 次阅读

在俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔研发基地,一项历史性的技术成就正逐渐浮出水面——业界首台商用High NA(高数值孔径)极紫外(EUV)光刻机已成功组装。这一重要里程碑的达成,标志着英特尔在半导体制造领域的尖端技术取得了显著进展。

目前,英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。这款光刻机通过优化硅晶圆上的光学投影设计,极大地提升了下一代处理器的分辨率和功能,为英特尔的工艺技术注入了新的活力。

谈及这一技术突破,英特尔院士兼相关技术研发部门总监Mark Phillips难掩兴奋之情。他表示,High NA EUV光刻机的引入,使得英特尔拥有了业界领先的光刻技术,这将极大地推动公司在未来实现超越Intel 18A的工艺能力。

据了解,ASML的EXE:5000 High NA EUV光刻机具备令人瞩目的8nm分辨率,相比传统的EUV光刻机,其物理特征微缩了1.7倍,单次曝光的晶体管密度更是提升了2.9倍。这一重大进步意味着芯片制造商能够简化制造流程,同时显著提高生产效率。值得一提的是,EXE:5000光刻机每小时可完成超过185个晶圆的光刻工作,相比现有的NXE系统,其产能得到了显著提升。

ASML还计划推出第二代High NA EUV光刻机,预计将在2025年实现每小时220片晶圆的产能。尽管High NA EUV光刻机的售价高达3.5亿欧元,但其带来的生产效益和技术优势使得这一投资变得极具价值。

SML最近在荷兰总部的High NA实验室成功打印出了首条10纳米密集线,这一成就刷新了EUV光刻机最高分辨率的世界纪录。这一里程碑式的成果验证了ASML合作伙伴蔡司的创新高数值孔径EUV光学设计的卓越性能。

英特尔在High NA EUV光刻机方面的这一重大突破,不仅将极大地提升其自身的工艺能力,更将对整个半导体行业产生深远影响。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 处理器
    +关注

    关注

    68

    文章

    19207

    浏览量

    229416
  • 英特尔
    +关注

    关注

    61

    文章

    9925

    浏览量

    171614
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1148

    浏览量

    47321
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    604

    浏览量

    85988
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机

    1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机,加快开发1nm 芯片   据报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High
    发表于 10-31 10:56 791次阅读

    日本与英特尔合建半导体研发中心,将配备EUV光刻机

    英特尔将在日本设立先进半导体研发中心,配备EUV光刻设备,支持日本半导体设备和材料产业发展,增强本土研发能力。 据日经亚洲(Nikkei Asia)9月3日报导,美国处理器大厂英特尔
    的头像 发表于 09-05 10:57 335次阅读

    ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机,将芯片密度限制再缩小

    ,约在2030年将提供新的Hyper-NA EUV技术。目前仍处于开发初期阶段的Hyper-NA将遵循High-NA系统,ASML今年初在
    的头像 发表于 06-18 09:57 472次阅读

    今日看点丨ASML今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司机质疑 LCC,产品经理回应

    1. ASML 今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV   根据报道,芯片制造设备商ASML今年将向台积电、英特尔、三星交付最新的高数值孔径极紫外
    发表于 06-06 11:09 874次阅读

    Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

    在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV
    的头像 发表于 05-27 14:37 612次阅读

    买台积电都嫌贵的光刻机,大力推玻璃基板,英特尔代工的野心和危机

    电子发烧友网报道(文/吴子鹏)此前,台积电高级副总裁张晓强在技术研讨会上表示,“ASML最新的高数值孔径极紫外光刻机high-NA EUV)价格实在太高了,台积电目前的极紫外设备(
    的头像 发表于 05-27 07:54 2497次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NAEUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,
    的头像 发表于 05-17 17:21 936次阅读

    台积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键

    据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1
    的头像 发表于 05-15 14:42 615次阅读

    ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

    ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大
    的头像 发表于 04-29 10:44 786次阅读

    英特尔率先推出业界高数值孔径 EUV 光刻系统

    来源:Yole Group 英特尔代工已接收并组装了业界首个高数值孔径(高NA)极紫外(EUV光刻系统。 新设备能够大大提高下一代处理器的
    的头像 发表于 04-26 11:25 439次阅读

    英特尔完成高数值孔径EUV光刻机,将用于14A制程

    半导体设备制造商阿斯麦(ASML)于去年底在社交媒体上发布照片,揭示已向英特尔提供第一套高数值孔径EUV系统的关键部件。如今英特尔宣布已完成组装,这无疑展示了其在行业中的领先地位。
    的头像 发表于 04-19 10:07 561次阅读

    阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果

    在半导体领域,技术创新是推动整个行业向前发展的重要动力。近日,荷兰阿斯麦(ASML)公司宣布,成功打造了首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(
    的头像 发表于 04-18 11:50 885次阅读
    阿斯麦(ASML)公司<b class='flag-5'>首台</b>高数值孔径<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>实现<b class='flag-5'>突破</b>性成果

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面。 除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列,ASML 也为其 NXE 系列传统数值孔径
    的头像 发表于 03-14 08:42 529次阅读
    ASML <b class='flag-5'>首台</b>新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商

    英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机
    的头像 发表于 03-06 14:49 447次阅读
    <b class='flag-5'>英特尔</b>成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径<b class='flag-5'>光刻机</b>的厂商

    英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

    如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
    的头像 发表于 12-28 11:31 853次阅读