据外媒报道称,三星电子公司董事李在镕今天将起身前往荷兰拜访光刻机厂商ASML,此举表明三星很有可能会大量采购光刻机。
据了解,李在镕将会在荷兰待上11天,此次花费十多天前往荷兰拜访ASML,有多家媒体称三星的目的是为了抢到ASML的EUV光刻机。
目前芯片短缺的现状大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻机才能打造,而本来EUV光刻机就稀少,因此先进芯片发展频频受限,并且前段时间三星才刚刚和Intel洽谈完芯片合作的事宜,因此现在的三星急需扩充芯片产能和发展先进芯片技术。
这也就能够合理的解释三星为什么要特意花费十多天去拜访ASML了,只要尽可能多的争取到EUV光刻机数量,那么自身先进芯片研发制造方面也就能够得到进步,并且能够在多家同行厂商的竞争中取得较大的优势。
综合整理自 21ic电子网 秒看科技界 PConline
审核编辑 黄昊宇
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
三星电子
+关注
关注
34文章
15891浏览量
182875 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1196浏览量
48733 -
ASML
+关注
关注
7文章
734浏览量
43342
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
中国打造自己的EUV光刻胶标准!
其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。 以光刻胶为例,这是决定芯片 图案能否被精准 刻下来的“感光神经膜”。并且随着芯片步入 7nm及以下先进制程芯片 时代,不仅需要EUV光刻机,更需要
俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?
电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰
AI需求飙升!ASML新光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造难题,光
ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动
电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
发表于 06-29 06:39
•1827次阅读
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
出现误差。传统聚焦手段已不能满足电子直写光刻机对电子束质量的要求。
只有对聚焦电极改进才是最佳选择,以下介绍该进后的电极工作原理。通过把电子束压缩到中心线达到缩束的目的,使电子束分布在一条直线
发表于 05-07 06:03
今日看点丨美国宣布:征收高达3403%关税!;传三星停产DDR4
改进EUV光刻制造技术。与此同时,三星还获得了High-NA EUV光刻设备技术的优先权。 据外媒报道,
发表于 04-22 11:06
•1466次阅读
看点:三星李在镕失去韩国首富宝座 小鹏已获4000台飞行汽车订单
给大家带来一些行业资讯: 三星李在镕失去韩国首富宝座 据福布斯中文网最新公布的富豪榜数据显示,2025福布斯韩国富豪32位上榜者的财富有缩水,三星
三星中国公司高层调整,李大成接任新帅
近日,三星(中国)投资有限公司发生了一系列工商变更,其中最为引人注目的是公司法定代表人、董事长及经理职务的变动。据官方消息,崔胜植已正式卸任上述职务,由李大成接任,这一变动标志着三星中
组成光刻机的各个分系统介绍
纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统 光源系统是光刻机的心脏,负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源,但随着技术的进步,目前多采用深紫外(DUV)或极紫外(
日本首台EUV光刻机就位
据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行安装,

三星董事李在镕亲自拜访ASML,只为争取到EUV光刻机
评论