英特尔完成高数值孔径EUV光刻机，将用于14A制程

芯片巨头英特尔于18日宣布，在其俄勒冈州研究机构中成功组装了全球首台用于商业领域的高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）光刻机。

半导体设备制造商阿斯麦（ASML）于去年底在社交媒体上发布照片，揭示已向英特尔提供第一套高数值孔径EUV系统的关键部件。如今英特尔宣布已完成组装，这无疑展示了其在行业中的领先地位。

英特尔正在实施一项为期四年的五个制程节点发展计划，预计最尖端的工艺将达到Intel 18A级别。在此基础上，英特尔计划在Intel 14A制程中正式引入高数值孔径EUV技术。据分析师预测，这套设备的售价可能高达2.5亿欧元。

英特尔近期表示，将在2027年前推出14A和Intel 14A-E两个制程。

英特尔强调，目前正在对高数值孔径EUV设备TWINSCAN EXE:5000进行校准，该设备与公司晶圆厂内的其他技术相结合，有望实现比现有EUV设备更小的特征尺寸，缩小至原来的1.7倍。

此外，英特尔还计划购买下一代TWINSCAN EXE:5200B系统。