0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

传感器专家网 来源:IT之家 作者:IT之家 2024-03-14 08:42 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。

bf11a18e-e19b-11ee-b759-92fbcf53809c.jpg

▲ ASML 在 X 平台上的相关动态

ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面。

除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列,ASML 也为其 NXE 系列传统数值孔径 EUV 光刻机持续更新升级,未来目标在 2025 年推出 NXE:4000F 机型。

上两代 NXE 系列机型 3400C 和 3600D 分别适合 7~5、5~3 纳米节点生产,德媒 ComputerBase 因此预测 3800E 有望支持 3~2 纳米的尖端制程。

根据 ASML 此前分享的 2021 版路线图,Twinscan NXE:3800E 系统将相较上代 3600D 在对准精度(Overlay)和产能上进一步提升,可实现 195 片晶圆的每小时吞吐量,相较 3600D 的 160 片大幅提升近 22%,并有望达到 220 片的目标(对应提升 37.5%)。

审核编辑 黄宇

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1196

    浏览量

    48733
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    614

    浏览量

    88525
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    734

    浏览量

    43342
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。   以光刻胶为例,这是决定芯片 图案能否被精准 刻下来的“感光神经膜”。并且随着芯片步入 7nm及以下先进制程芯片 时代,不仅需要EUV光刻机,更需要
    的头像 发表于 10-28 08:53 5834次阅读

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML
    的头像 发表于 10-04 03:18 9383次阅读
    俄罗斯亮剑:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飙升!ASML光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造难题,光刻机龙头企业
    的头像 发表于 07-24 09:29 7256次阅读
    AI需求飙升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 739次阅读

    今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全国首台国产商业电子束光刻机问世,精度比肩国际主流   近日,全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试
    发表于 08-15 10:15 2827次阅读
    今日看点丨全国<b class='flag-5'>首台</b>国产商业电子束<b class='flag-5'>光刻机</b>问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    奥松半导体8英寸MEMS项目迎重大进展 首台光刻机入驻

    光刻机的成功搬入,意味着产线正式进入设备安装调试阶段,距离8月底通线试产、第四季度产能爬坡并交付客户的既定目标指日可待。这一目标的实现,将实现各类MEMS半导体传感器产品从研发到量产的无缝衔接,对重庆乃至整个集成电路行业都具
    的头像 发表于 07-17 16:33 1450次阅读
    奥松半导体8英寸MEMS项目迎重大进展 <b class='flag-5'>首台</b><b class='flag-5'>光刻机</b>入驻

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
    发表于 06-29 06:39 1827次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    EUV光刻技术面临新挑战者

      EUV光刻有多强?目前来看,没有EUV光刻,业界就无法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻机
    的头像 发表于 02-18 09:31 1893次阅读
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技术面临新挑战者

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 957次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    半导体设备光刻机防震基座如何安装

    半导体设备光刻机防震基座的安装涉及多个关键步骤和考虑因素,以确保光刻机的稳定运行和产品质量。首先,选择合适的防震基座需要考虑适应工作环境。由于半导体设备通常在洁净的环境下运行,因此选择的搬运工具如
    的头像 发表于 02-05 16:48 1149次阅读
    半导体设备<b class='flag-5'>光刻机</b>防震基座如何<b class='flag-5'>安装</b>?

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 2263次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 5732次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

    纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统   光源系统是光刻机的心脏,负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源,但随着技术的进步,目前多采用深紫外(DUV)或极紫外(
    的头像 发表于 01-07 10:02 4159次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍

    日本首台EUV光刻机就位

    据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行
    的头像 发表于 12-20 13:48 1412次阅读
    日本<b class='flag-5'>首台</b><b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>就位