新EUV光刻机售价超26亿，Intel成为首位买家，将于2025年首次交付
在芯片研发的过程中，光刻机是必不可少的部分，而随着芯片制程工艺的不断发展，普通的光刻机已经不能满足先进制程了，必须要用最先进的EUV光刻机才能完成7nm及其以下的先进制程，而目前台积电和三星都在攻克3nm制程，据了解，更加先进的制程就需要更先进的光刻机来完成了。
光刻机厂商ASML为此正在研发新一代High NA EUV光刻机，这种EUV光刻机的NA数值孔径比现在0.33口径的EUV光刻机还要高，达到了0.55口径，也就是说High NA EUV光刻机的分辨率更高，能够进行更加先进制程的加工。
目前芯片巨头Intel已经抢先成为了第一个订购到High NA EUV光刻机的厂商，该款High NA EUV光刻机型号定为了High-NA EXE:5200，单台售价已经超过了26亿人民币，预计将在2023年完成原型机的制造，并在2025年首次交付给Intel。
不只是Intel，台积电方面也表示将在2024年引入新一代High NA EUV光刻机，三星甚至让副会长李在镕亲自出马，赶往ASML与其高层会面洽谈新一代光刻机相关事宜。
审核编辑 黄昊宇
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