0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

ASML的High-NA光刻机居然只卖出5台,大多芯片厂商不为所动

汽车玩家 来源:网络整理 作者:网络整理 2022-06-22 14:44 次阅读

电子化程度如此高的现在,人们身边的电子设备比比皆是,而它们又都离不开芯片。现在芯片制程技术也处于飞速发展的阶段,芯片巨头台积电和三星都将在今年下半年开始量产3nm制程芯片,2024或2025年实现2nm制程的量产。

目前市面上最先进的是EUV光刻机,而其能够支持制造的先进制程工艺最高为3nm,也就是说,再往后的2nm等工艺就要用更加先进的光刻机来完成。

ASML为此正在研发一种特别的EUV光刻机——High-NA EUV光刻机。这种光刻机所采用的技术能够将尺寸降低66%,如此一来芯片的制程又能继续往前迈步,这种新型光刻机被认为是延续摩尔定律的关键。

目前EUV光刻机处于供不应求的状态,按道理来说更加先进的High-NA光刻机应该更加抢手才对,不过奇怪的是,ASML表示已经收到了来自5家客户的5个High-NA光刻机订单,High-NA光刻机貌似没有想象中的那么火爆。不过这还是连3nm都没有跨入的时代,可能有些厂商不愿过早购买昂贵的新型光刻机,包括将3nm制程作为重点发展的台积电也是一样。

综合整理自 笨鸟科技 简叔 百家众神

审核编辑 黄昊宇

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1148

    浏览量

    47335
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    718

    浏览量

    41211
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机

    1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机,加快开发1nm 芯片   据报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High
    发表于 10-31 10:56 799次阅读

    ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机,将芯片密度限制再缩小

    ASML再度宣布新光刻机计划。据报道,ASML预计2030年推出的Hyper-NA极紫外光(EUV),将缩小最高电晶体密度
    的头像 发表于 06-18 09:57 476次阅读

    今日看点丨ASML今年将向积电、三星和英特尔交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司机质疑 LCC,产品经理回应

    1. ASML 今年将向积电、三星和英特尔交付High-NA EUV   根据报道,芯片制造设备商ASML今年将向
    发表于 06-06 11:09 878次阅读

    积电都嫌贵的光刻机,大力推玻璃基板,英特尔代工的野心和危机

    电子发烧友网报道(文/吴子鹏)此前,积电高级副总裁张晓强在技术研讨会上表示,“ASML最新的高数值孔径极紫外光刻机high-NA EUV)价格实在太高了,
    的头像 发表于 05-27 07:54 2501次阅读

    后门!ASML可远程锁光刻机

    来源:国芯网,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 5月22日消息,据外媒报道,积电从ASML购买的EUV极紫外光刻机,暗藏后门,可以在必要的时候执行远程锁定! 据《联合早报》报道,荷兰
    的头像 发表于 05-24 09:35 545次阅读

    积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的
    的头像 发表于 05-17 17:21 948次阅读

    积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键

    据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1
    的头像 发表于 05-15 14:42 615次阅读

    积电未确定是否采购阿斯麦高数值孔径极紫外光刻机

    尽管High NA EUV光刻机有望使芯片设计尺寸缩减达三分之二,但芯片制造商需要权衡利弊,考虑其高昂的成本及
    的头像 发表于 05-15 09:34 401次阅读

    ASML发货第二High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

    ASML公司近日宣布发货了第二High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向
    的头像 发表于 04-29 10:44 790次阅读

    英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

    英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
    的头像 发表于 04-22 15:52 888次阅读

    阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果

    )光刻机,并已经成功印刷出首批图案。这一重要成就,不仅标志着ASML公司技术创新的新高度,也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前,全球仅有两高数值孔径EUV
    的头像 发表于 04-18 11:50 892次阅读
    阿斯麦(<b class='flag-5'>ASML</b>)公司首台高数值孔径EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>实现突破性成果

    Intel和ASML宣布全球第一High-NA光刻机“首光”

    荷兰ASML是世界上最先进的光刻设备制造商,最近该公司启动了第一high-NA(numerical aperture,数值孔径)设备,以确保其正常工作。Intel也加入了这一行列,因
    的头像 发表于 04-08 10:12 1005次阅读

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面。 除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列,ASML 也为其 NXE
    的头像 发表于 03-14 08:42 532次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首台新款 EUV <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机厂商

    英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机
    的头像 发表于 03-06 14:49 447次阅读
    英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径<b class='flag-5'>光刻机</b>的<b class='flag-5'>厂商</b>

    英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

    如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
    的头像 发表于 12-28 11:31 859次阅读