ASML的High-NA光刻机居然只卖出5台，大多芯片厂商不为所动
在电子化程度如此高的现在，人们身边的电子设备比比皆是，而它们又都离不开芯片。现在芯片制程技术也处于飞速发展的阶段，芯片巨头台积电和三星都将在今年下半年开始量产3nm制程芯片，2024或2025年实现2nm制程的量产。
目前市面上最先进的是EUV光刻机，而其能够支持制造的先进制程工艺最高为3nm，也就是说，再往后的2nm等工艺就要用更加先进的光刻机来完成。
ASML为此正在研发一种特别的EUV光刻机——High-NA EUV光刻机。这种光刻机所采用的技术能够将尺寸降低66%，如此一来芯片的制程又能继续往前迈步，这种新型光刻机被认为是延续摩尔定律的关键。
目前EUV光刻机处于供不应求的状态，按道理来说更加先进的High-NA光刻机应该更加抢手才对，不过奇怪的是，ASML表示已经收到了来自5家客户的5个High-NA光刻机订单，High-NA光刻机貌似没有想象中的那么火爆。不过这还是连3nm都没有跨入的时代，可能有些厂商不愿过早购买昂贵的新型光刻机，包括将3nm制程作为重点发展的台积电也是一样。
综合整理自 笨鸟科技 简叔 百家众神
审核编辑 黄昊宇
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