0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻机能干什么_英特尔用的什么光刻机_光刻机在芯片生产有何作用

姚小熊27 来源:网络整理 作者:网络整理 2020-03-18 11:12 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

光刻机能干什么

光刻机又被人们称为“用光雕刻的机器”,可见其重要性了,作为芯片制造的核心设备之一,我国的光刻机技术还处在起步的阶段,主要依靠进口。那么,光刻机是干什么用的呢?

众所周知,光刻机是芯片制造的核心设备之一,作为目前世界上最复杂的精密设备之一,其实光刻机除了能用于生产芯片之外,还有用于封装的光刻机,或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前,我国高端的光刻机,基本上是从荷兰ASML进口的。

英特尔用的什么光刻机

目前是INTEL的32NM,不过INTEL已经准备22NM了。

光刻机.32nm制程目前用的是193nm沉浸式光刻技术

具Intel透露,计划要将193nm沉浸式光刻技术沿用到11nm节点制程

当然,光刻技术还有极紫外光刻技术,不过还处在实验阶段,显然INTEL目前不怎么看好这个技术

LS,现在INTEL的I3和I5 6XX就是32NM的CPU核心+45NM的GPU核心,I7 980X也是32NM制程.

光刻机在芯片生产有何作用

光刻机作为工业制造之花,已经是真正高科技的象征,这个设备非常精密,没有他芯片几乎是制造不出来的。简单来说,光刻机把获得的单一光源,通过把电脑上的芯片逻辑‘与或非’门级电路图的影像,不断的进行聚光,最后形成一个点,聚光到硅晶圆上,对硅片进行烧录,最后在硅片上形成和电脑上的逻辑电路影像一样的图案,这个图案的每个线路最小是在5纳米左右,这个图案就是硅晶圆的逻辑电路,多个硅晶圆叠加在一起,便可以形成芯片。只有光刻机发出的光,才可以在这么小的纳米级的范围内进行任意织出自己想要的电路图。所以有人说,光刻机是芯片之母,是工业之花。

芯片是电子产品所必不可少的组件,芯片制造商要想成功地制造出芯片来,必须用到光刻机。对芯片制造商来说,光刻机就是核心的生产设备。

光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”,制造光刻机更被比作是在微观世界里“造房子”——成像系统由几十个直径为200~300毫米的透镜组成,定位精度都是纳米级。微米级的瞬时传输控制技术,犹如两架空客以1000/小时公里同步高速运动,在瞬间对接穿针引线。

作为集成电路制造过程中最核心的设备,光刻机至关重要,芯片厂商想要提升工艺制程,没有它万万不行,中国半导体工艺为啥提升不上去,光刻机被禁售是一个主要因素。

中芯国际向荷兰ASML进口EUV光刻机意味着中国终于有能力进军7nm及以下的芯片制造工艺,换句话说,中芯国际已经有了和Intel、三星、台积电叫板的硬件实力。

当然,光刻机并非芯片制造的全部,配套的技术、人员的经验和整个生产线上的磨合也需要一定的时间。但是解决了最大的光刻机问题以后,这些对于中国人来说也只是时间的问题。

现在,国内企业将有先进的光刻机,在芯片制造方面可以大踏步的赶上世界一流水平。

但是,我们国内的光刻机水平与国际的先进水平差距还很大,要真正实现技术核心自主创新,还需要相关的设备创新再上新台阶。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    463

    文章

    54379

    浏览量

    469004
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1201

    浏览量

    49005
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,一直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够,还需要
    的头像 发表于 10-28 08:53 6994次阅读

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公
    的头像 发表于 10-04 03:18 1.1w次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战ASML霸主地位?

    AI需求飙升!ASML新光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理何不同?能解决AI芯片生产当中
    的头像 发表于 07-24 09:29 8728次阅读
    AI需求飙升!ASML新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2nm<b class='flag-5'>芯片</b>制造,尼康新品获重大突破

    垄断 EUV 光刻机之后,阿斯麦剑指先进封装

    能量产 EUV 光刻机的厂商,早已凭借这一垄断地位,深度绑定台积电等头部芯片制造商,左右着全球最先进 AI 芯片的产能与迭代节奏。如今,这家巨头正跳出 EUV 的舒适区,将目光投向先进封装设备市场,以一场横跨 10 至 15 年
    的头像 发表于 03-05 09:19 2646次阅读

    光刻机的“精度锚点”:石英压力传感器如何守护纳米级工艺

    7纳米、3纳米等先进芯片制造中,光刻机0.1纳米级的曝光精度离不开高精度石英压力传感器的支撑,其作为“隐形功臣”,是保障工艺稳定、设备安全与产品良率的核心部件。本文聚焦石英压力传感器
    的头像 发表于 12-12 13:02 931次阅读

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 2689次阅读

    【「AI芯片:科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术

    会减半。这一规律最初由英特尔公司创始人之一戈登·摩尔1965年提出,至今已成为了计算机工业的基石。(百度到的,不了解的可以自行去了解下) 1、晶体管架构从FinFET到CFET FinFET:目的
    发表于 09-15 14:50

    今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    8nm,专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节,可通过高能电子束硅基上手写电路,无需掩膜版即可灵活修改设计,其精度已比肩国际主流设备。   据介绍,与传统光刻机相比,电子束光刻机
    发表于 08-15 10:15 3189次阅读
    今日看点丨全国首台国产商业电子束<b class='flag-5'>光刻机</b>问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台

    全球市占率35%,国内90%!芯上微装第500台步进光刻机交付

      电子发烧友网综合报道,近日,上海芯上微装科技股份有限公司(简称:芯上微装,英文简称:AMIES)第500台步进光刻机成功交付,并举办了第500台 步进光刻机 交付仪式。     光刻是半导体器件
    发表于 08-13 09:41 2549次阅读
    全球市占率35%,国内90%!芯上微装第500台步进<b class='flag-5'>光刻机</b>交付

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    佳能9月启用新光刻机工厂,主要面向成熟制程及封装应用

    7 月 31 日消息,据《日经新闻》报道,日本相机、打印机、光刻机大厂佳能 (Canon) 位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于 9 月正式投入量产,主攻成熟制程及后段封装应用设备,为全球芯片封装
    的头像 发表于 08-04 17:39 1031次阅读

    奥松半导体8英寸MEMS项目迎重大进展 首台光刻机入驻

    奥松传感传来好消息,7月14日11时38分,重庆奥松半导体特色芯片产业基地(下称“奥松半导体项目”)迎来具有里程碑意义的时刻——8英寸生产线首台光刻机设备,
    的头像 发表于 07-17 16:33 1881次阅读
    奥松半导体8英寸MEMS项目迎重大进展 首台<b class='flag-5'>光刻机</b>入驻

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
    发表于 06-29 06:39 2139次阅读

    MEMS制造领域中光刻Overlay的概念

    MEMS(微机电系统)制造领域,光刻工艺是决定版图中的图案能否精确 “印刷” 到硅片上的核心环节。光刻 Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层设计图案对准精度的关键指标
    的头像 发表于 06-18 11:30 2169次阅读
    MEMS制造领域中<b class='flag-5'>光刻</b>Overlay的概念

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    出现误差。传统聚焦手段已不能满足电子直写光刻机对电子束质量的要求。 只有对聚焦电极改进才是最佳选择,以下介绍该进后的电极工作原理。通过把电子束压缩到中心线达到缩束的目的,使电子束分布一条直线
    发表于 05-07 06:03