台积电张晓强：ASML High-NA EUV成本效益是关键

据悉，台积电业务开发及海外营运办公室资深副总经理暨副共同营运长张晓强博士在5月14日出席阿姆斯特丹技术研讨会时公开称ASML的High-NA EUV设备过于昂贵。尽管对其性能深感满意，但对于价格却并不感冒。

张晓强博士现任职于台积电，主要负责制定公司业务战略，包括技术规划和客户关系维护等工作。此外，他还共同领导海外运营团队，确保海外运营效率。

据今年2月份报道，荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价，高达3.5亿欧元（约合27.16亿元人民币）。而现有EUV光刻机的价格则为1.7亿欧元（约合13.19亿元人民币）。

值得注意的是，英特尔已成功购入ASML的High-NA EUV设备，并于4月19日宣布首台设备实现商业化生产。

关于台积电是否需要采用ASML的High-NA EUV设备来完成A16先进工艺节点（预计将于2026年年底前量产），张晓强博士在接受采访时表示，现阶段的EUV设备完全有能力支持A16的生产需求。

至于何时引入ASML的新技术，将视乎何时最为经济实惠以及如何平衡台积电的技术实力。