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电子发烧友网>今日头条>半导体微器件刻蚀过程研究报告

半导体微器件刻蚀过程研究报告

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2023-05-26 09:51:40573

半导体封测行业研究报告:封测回暖,先进封装成长空间广阔

半导体行业库存压力不断上升。2022 年至 2023Q1 半导体行业整体出现库存积压 情况,存货周转天数持续上升。以英特尔、台积电、高通为例:英特尔、高通 2022 年存货周转天数呈上升趋势,2023Q1 均达到了十年以来的最高水平。
2023-05-22 15:42:40995

半导体封装技术研究

本文以半导体封装技术为研究对象,在论述半导体封装技术及其重要作用的基础上,探究了现阶段半导体封装技术的芯片保护、电气功能实现、通用性、封装界面标准化、散热冷却功能等诸多发展趋势,深入研究半导体前端
2023-05-16 10:06:00497

雷卯二极管半导体器件的应用和参数对比

二极管半导体器件的应用和参数对比NO.1二极管种类区别按操作特性进行比较:器件结构说明对比:肖特基二极管由金属与半导体结结形成。在电气方面,它由多数载波进行,具有较低的电流泄漏和正向偏置电压(VF
2023-05-11 10:11:45221

储能逆变器带动哪些半导体器件

据统计,IGBT、MOS管、电源管理IC等在储能逆变器里占比高、数量多,是必不可少的半导体器件
2023-05-08 15:46:30862

1.2 半导体材料的研究和应用(下)

半导体
jf_90840116发布于 2023-05-08 01:49:45

1.1 半导体材料的研究和应用(中)_clip002

半导体
jf_90840116发布于 2023-05-08 01:47:53

1.1 半导体材料的研究和应用(中)_clip001

半导体
jf_90840116发布于 2023-05-08 01:47:12

1.1 半导体材料的研究和应用(上)

半导体
jf_90840116发布于 2023-05-08 01:46:30

金属布线的工艺为半导体注入生命的连接

经过氧化、光刻、刻蚀、沉积等工艺,晶圆表面会形成各种半导体元件。半导体制造商会让晶圆表面布满晶体管和电容(Capacitor);
2023-04-28 10:04:52532

郝跃院士:功率密度与辐照问题是氮化物半导体的两大挑战

郝跃院士长期从事新型宽禁带半导体材料和器件、微纳米半导体器件与高可靠集成电路等方面的科学研究与人才培养。在氮化镓∕碳化硅第三代(宽禁带)半导体功能材料和微波器件半导体短波长光电材料与器件研究和推广、微纳米CMOS器件可靠性与失效机理研究等方面取得了系统的创新成果。
2023-04-26 10:21:32718

意法半导体供应超千万颗碳化硅器件

意法半导体(ST)宣布与采埃孚科技集团公司(ZF)签署碳化硅器件长期供应协议。从 2025 年起,采埃孚将从意法半导体采购碳化硅器件
2023-04-26 10:18:51930

半导体工艺之金属布线工艺介绍

本篇要讲的金属布线工艺,与前面提到的光刻、刻蚀、沉积等独立的工艺不同。在半导体制程中,光刻、刻蚀等工艺,其实是为了金属布线才进行的。在金属布线过程中,会采用很多与之前的电子元器件层性质不同的配线材料(金属)。
2023-04-25 10:38:49986

半导体行业之刻蚀工艺介绍

压力主要控制刻蚀均匀性和刻蚀轮廓,同时也能影响刻蚀速率和选择性。改变压力会改变电子和离子的平均自由程(MFP),进而影响等离子体和刻蚀速率的均匀性。
2023-04-17 10:36:431922

国内功率半导体需求将持续快速增长,欢迎广大客户通过华秋商城购买晶导系列产品

及前瞻产业研究院数据,预计2021年我国半导体分立器件市场规模将达到3,229亿元。就国内市场而言,二极管、三极管、晶闸管等分立器件产品大部分已实现国产化,而MOSFET、IGBT等分立器件产品由于其
2023-04-14 16:00:28

国内功率半导体需求将持续快速增长

及前瞻产业研究院数据,预计2021年我国半导体分立器件市场规模将达到3,229亿元。就国内市场而言,二极管、三极管、晶闸管等分立器件产品大部分已实现国产化,而MOSFET、IGBT等分立器件产品由于其
2023-04-14 13:46:39

【新闻】全国普通高校大学生计算机类竞赛研究报告正式发布

全国普通高校大学生计算机类竞赛研究报告链接:https://mp.weixin.qq.com/s/bdcp-wGqvXY_8DPzn8dhKw各高校在计算机类竞赛中的表现情况是评估相关高校计算机
2023-04-10 10:16:15

半导体行业之刻蚀工艺介绍

金属刻蚀具有良好的轮廓控制、残余物控制,防止金属腐蚀很重要。金属刻蚀时铝中如果 有少量铜就会引起残余物问题,因为Cu Cl2的挥发性极低且会停留在晶圆表面。
2023-04-10 09:40:542330

半导体行业之刻蚀工艺技术

DRAM栅工艺中,在多晶硅上使用钙金属硅化物以减少局部连线的电阻。这种金属硅化物和多晶硅的堆叠薄膜刻蚀需要增加一道工艺刻蚀W或WSi2,一般先使用氟元素刻蚀钧金属硅化合物层,然后再使用氯元素刻蚀多晶硅。
2023-04-07 09:48:162198

喜讯!华秋电子荣获深圳市半导体行业协会优秀合作奖

行业知名专家学者、企业家做主题演讲和行业分析报告,并由协会秘书处做协会年度工作总结报告,共同探讨新形势下深圳集成电路产业的发展与机遇。在这场深圳市半导体行业的年度交流盛会中,协会秘书处在会上进行了协会
2023-04-03 15:28:32

半导体晶圆清洗设备市场:行业分析

半导体晶圆清洗设备市场预计将达到129\.1亿美元。到 2029 年。晶圆清洗是在不影响半导体表面质量的情况下去除颗粒或污染物的过程器件表面晶圆上的污染物和颗粒杂质对器件的性能和可靠性有重大影响。本报告侧重于半导体晶圆清洗设备市场的不同部分(产品、晶圆尺寸、技术、操作模式、应用和区域)。
2023-04-03 09:47:511643

滨松红外相机在半导体加工及检测过程中的应用

半导体器件制造是一个复杂的多步骤过程, 包括晶圆制备、前道工序(FEOL)和后道工序(BEOL)。 半导体制造商为了提高良率,在晶圆制备、FEOL和BEOL中引入一系列检测过程,利用红外相机检测
2023-03-31 07:44:34396

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