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电子发烧友网>今日头条>EVG与DELO合作为晶圆级光学元件和纳米压印光刻技术开发材料并提升工艺能力

EVG与DELO合作为晶圆级光学元件和纳米压印光刻技术开发材料并提升工艺能力

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光刻掩膜版测温仪,光刻机曝光光学系统测温仪

GK-1000光刻掩膜版测温仪,光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备,主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS(微机电系统)等微细结构。光刻机是一种光学投影技术,通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07

封装技术崛起:传统封装面临的挑战与机遇

北京中科同志科技股份有限公司发布于 2023-07-06 11:10:50

测温系统,测温热电偶,测温装置

 测温系统,测温热电偶,测温装置一、引言随着半导体技术的不断发展,制造工艺对温度控制的要求越来越高。热电偶作为一种常用的温度测量设备,在制造中具有重要的应用价值。本文
2023-06-30 14:57:40

绕不过去的测量

YS YYDS发布于 2023-06-24 23:45:59

光学轮廓仪应用案例

SuperViewW系列光学轮廓仪以白光干涉技术为原理,能够以优于纳米级的分辨率,测试各类表面并自动聚焦测量工件获取2D,3D表面粗糙度、轮廓等一百余项参数,广泛应用于光学,半导体,材料,精密机械
2023-06-16 11:34:49

【方案公司简介】深圳市其利天下技术开发有限公司

*附件:深圳市其利天下技术开发有限公司.pdf
2023-06-13 21:30:42

5G技术大发展,PCB板厂工艺技术新要求,你都了解吗

损耗,低粗糙度棕化药水在高速板加工中应用越来越广泛。 华秋作为目前线上出色的 PCB 快板打样及中小批量生产商,有10多年成熟的制程经验和行业数据,我们也向行业技术发展看齐,不断提升自身工艺水平,高
2023-06-09 14:08:34

芯片制造之光刻工艺详细流程图

光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道光刻机主要用于封装测试,实现高性能的先进封装,技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205857

光刻技术再次升级了

中国在半导体芯片制造方面仍落后于美国。早在上世纪60年代,美国就开始占据世界半导体市场的绝对主导地位。随着技术的不断发展,半导体芯片的制造越来越精细化。从最初的65纳米工程到现在的7纳米技术开发,美国一直处于领先地位。
2023-06-01 10:12:43583

金刚石光学真空窗片

金刚石光学真空窗片高质量的金刚石应用作为光学窗口是理想的,主要为红外,远红外和太赫兹范围。这些金刚石晶片由高功率微波等离子体辅助化学气相沉积(CVD)生长的高纯多晶金刚石组成。 
2023-05-24 11:26:37

纳米压印,终于走向台前?

纳米压印技术,即Nanoimprint Lithography(NIL),是一种新型的微纳加工技术。该技术将设计并制作在模板上的微小图形,通过压印技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:47949

测量材料表面,就可以提升光学设计精确度?

光学材料能对光学产品的性能产生举足轻重的影响,随着光学技术的发展,业界对材料、表面、元件和系统的质量要求越来越高,甚至提出了新的需求。例如,在汽车行 业中,光学元件 需要高透射率和高散射率的材料
2023-05-17 22:10:01249

半导体材料纳米光子学中的作用

半导体材料开发纳米光子技术方面发挥着重要作用。
2023-05-14 16:58:55590

新品推荐|XD770.300S大负载压电纳米定位台

测量、显微操作、纳米压印等。随着科技不断进步,精密定位技术对于定位系统的行程、负载、精度要求也不断攀升,哈尔滨芯明天科技有限公司持续加强技术实力和研发能力,不断攻克技术壁垒,提升产品性能,以满足对大行程、大
2023-05-11 08:56:02347

半影光学微纳光学器件及半导体光掩模生产项目签约江苏南通

致力于衍射元器件、CGH、光栅、光掩模等产品的设计、生产、服务,该公司生产的光掩模产品是半导体的基石,在技术上突破了传统纳米压印制作光学器件的路径,简化了工艺流程,其也是国内唯一掌握了把半导体技术用于量产纯石英结构光
2023-04-26 16:53:19595

PCB制造基本工艺及目前的制造水平

  一、PCB制造基本工艺及目前的制造水平   PCB设计最好不要超越目前厂家批量生产时所能达到的技术水平,否则无法加工或成本过高。   1.1层压多层板工艺   层压多层板工艺是目前广泛
2023-04-25 17:00:25

什么是光刻技术

光刻技术简单来讲,就是将掩膜版图形曝光至硅片的过程,是大规模集成电路的基础。目前市场上主流技术是193nm沉浸式光刻技术,CPU所谓30nm工艺或者22nm工艺指的就是采用该技术获得的电路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261

开放原子开源基金会OpenHarmony开发者大会2023满举办

正式发布,该版本系统能力进一步完善,全面提升了复杂带屏设备体验。OpenHarmony项目管理委员会主席任革林从系统流畅、系统性能、应用性能、分布式能力开发效率五个方面对新版本的技术特性进行了深度解读。在
2023-04-21 10:12:44

MELF色环贴片电阻专家 | 第一电阻(Firstohm)

和散热能力优于片式电阻,非常适合作为IGBT电路中的栅电阻(Rg),以及汽车电子电路。特性:额定功率范围:0.4W3W电阻范围:0.5Ω10MΩ耐高压能力优于片式电阻低温漂、低误差值散热能力佳长期
2023-04-20 16:34:17

三维光学轮廓共聚焦材料显微镜

以共聚焦技术为原理的共聚焦显微镜,是用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量的检测仪器。 中图仪器VT6000系列三维光学轮廓共聚焦材料显微镜基于共聚焦显微技术,结合精密Z向扫描模块
2023-04-20 10:52:25

浅谈EUV光刻中的光刻胶和掩模等材料挑战

新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发,必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战,imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121164

HarmonyOS/OpenHarmony公司技术开发团队硬件基本配置清单

的硬件配置完成,一个相对完整的、有模有样的HarmonyOS/OpenHarmony公司技术开发团队的的装备就完成了。
2023-04-10 09:34:15

PCBA检测技术工艺标准流程介绍

状防静电材料上对应于PCB通孔插装器件的位置打上相应形状的孔,将其放在插装完成的PCB板上便可以简易地目测插装器件的正确与否。  一、PCBA检测工艺流程  PCBA检测工艺总流程如图所示:  注:各种检测
2023-04-07 14:41:37

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