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电子发烧友网>制造/封装>今日看点丨美光将首先采用佳能纳米压印光刻机;传三星与应用材料合作简化EUV光刻技术

今日看点丨美光将首先采用佳能纳米压印光刻机;传三星与应用材料合作简化EUV光刻技术

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芯片制造关键的EUV光刻机单价为何能超1亿欧元?

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EUV光刻机对半导体制程的重要性

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ASML正在着手开发新一代极紫外(EUV光刻机

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光刻技术的基本原理!光刻技术的种类光学光刻

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台积电将包揽ASML这批EUV光刻机中的18台

由于三星去年就小规模投产了7nm EUV,同时ASML(荷兰阿斯麦)将EUV光刻机的年出货量从18台提升到今年的预计30台,显然促使台积电不得不加快脚步。
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ASML发布2019年Q2季度财报 EUV光刻机最主要的问题还是产能不足

掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML(阿斯麦)公司今天发布了2019年Q2季度财报,当季营收25.68亿欧元,其中净设备销售额18.51亿欧元,总计出货了41台光刻机,其中EUV光刻机7台。
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2019-07-23 10:47:213102

关于EUV光刻机的分析介绍

格芯首席技术官Gary Patton表示,如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机,那么光刻的步骤将会超过100步,这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具,未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
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ASML研发第二代EUV光刻机的微缩分辨率、套准精度提升了70%

据韩媒报道称,ASML正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。
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EV集团和肖特携手证明300-MM光刻/纳米压印技术在玻璃制造中已就绪

,圣弗洛里安微机电系统(MEMS)、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备领先供应商EV集团(EVG)今日宣布,与特种玻璃和微晶玻璃领域的世界领先技术集团肖特携手合作,证明300-mm(12英寸)光刻/纳米压印(NIL)技术在下一代增强现实/混合现实(AR/MR)头戴显示设备的波导/光
2019-08-29 22:48:032369

半导体巨头为什么追捧EUV光刻机

近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多,三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片,台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺,苹果的A13
2020-02-29 10:58:473149

EUV光刻机到底是什么?为什么这么贵?

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中芯国际表示深圳工厂进口光刻机不是EUV光刻机

据中国证券报报道,3月6日下午从中芯国际获悉,日前中芯国际深圳工厂从荷兰进口了一台大型光刻机,但这是设备正常导入,用于产能扩充,并非外界所称的EUV光刻机
2020-03-07 10:55:144167

ASML研发新一代EUV光刻机 分辨率能提升70%左右

EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:13:482863

曝ASML新一代EUV光刻机预计2022年开始出货 将进一步提升光刻机的精度

EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
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埃眸科技纳米光刻机项目落户常熟高新区 总投资达10亿元

近日,埃眸科技与常熟高新区正式签署项目协议,打造纳米压印光刻机生产线。
2020-04-13 16:18:058152

光刻技术在全球范围内为纳米压印光刻量身定制了光刻胶配方

纳米压印光刻技术及其应用的需求正在不断变化。因此,此次合作的基本目标是了解市场最新需求,进而通过双方在工艺和材料方面的优势,合力开发出相应的解决方案,从而应对该行业不断出现的严峻挑战。
2020-06-17 14:27:424803

开发顶级光刻机的困难 顶级光刻机有多难搞?

顶级光刻机有多难搞?ASML的光刻机,光一个零件他就调整了10年!拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例,其内部精密零件多达10万个,比汽车零件精细数十倍!
2020-07-02 09:38:3911513

EUV光刻机全球出货量达57台

与此同时, 他指出,EUV继续为ASML的客户提高产量,迄今为止,他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆,并交付了57个3400x EUV系统(3400平台是EUV生产平台)。
2020-08-14 11:20:552048

王毅与荷兰谈光刻机出口问题

【重磅】王毅到访荷兰,期待放行ASML EUV光刻机 来源:中国半导体论坛 彭博引述知情人士消息称,荷兰政府极有可能不会给予ASML向中国出货EUV光刻机的许可证。一年前的许可证到期后,在美国
2020-09-10 14:19:112577

EUV光刻机的数量有望成为三星半导体成长的关键

据悉,ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商,年产量为40余台,台积电方面希望获得全数供应。EUV光刻机的价格昂贵,每台要价约1.3亿美元,由于是EUV制程必需的关键设备,台积电与三星电子的竞争日益激烈。
2020-10-13 13:51:521913

1.2亿美元光刻机

荷兰阿斯麦(ASML)公司的光刻机作为世界上最贵最精密的仪器,相信大家都有耳闻,它是加工芯片的设备。其最先进的EUV(极紫外光)光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片,据说一套最先进的7纳米EUV
2020-10-15 09:20:054438

一文详解光刻机技术

最近光刻机十分火,我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机,但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机,5纳米光刻机,我为什么会这样说呢?
2020-10-19 11:42:5120305

EUV光刻机还能卖给中国吗?

。媒体称,台积电采购的EUV光刻机已经超过30台,三星累计采购的EUV光刻机不到20台。 围绕芯片制造要用到的关键设备光刻机,一直不缺话题。 比如,一台EUV光刻机卖多少钱?谁买走了这些EUV光刻机?大陆厂商还能买到光刻机吗?为何三星高管最近跑去荷兰拜访ASML总部? 上面这
2020-10-19 12:02:499647

三星急需EUV光刻机赶产量_2022年或将再购买60部EUV设备

根据韩国媒体《BusinessKorea》的报道,日前三星电子副董事长李在镕前往荷兰拜访光刻机大厂ASML,其目的就是希望ASML的高层能答应提早交付三星已经同意购买的极紫外光光刻设备(EUV)。
2020-10-24 09:37:302866

目前全球只有荷兰ASML有能力生产EUV光刻机

11月5日,世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV(极紫外光)光刻机的企业,由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻机。据悉,该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517

ASML EUV光刻机被美国限制 中国企业出多少钱都买不回

ASML在光刻机领域几乎是巨无霸的存在,而他们对于与中国企业合作也是非常欢迎,无奈一些关键细节上被美国卡死。 中国需要光刻机,尤其是支持先进制程的高端光刻机,特别是 EUV (极紫外光源)光刻机
2020-11-10 10:08:043056

ASML向中国出售EUV光刻机,没那么容易

中国需要光刻机,尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说,就是 EUV (极紫外光源)光刻机
2020-11-11 10:13:304278

ASML表示将向国内市场出售更多的DUV光刻机

而由其所研发生产的EUV光刻机更是在高端市场之中处于一家独大的位置。台积电作为ASML的股东很轻松就能够获得ASML的EUV光刻机,所以这边导致台积电一直以来在技术上领先于三星。当然能够在5纳米等工艺方面保持领先的地位,也是因为这个原因。
2020-12-01 12:03:152339

为何只有荷兰ASML才能制造顶尖EUV光刻机设备?

只有荷兰光刻机巨头ASML能造,对此也有很多网友们感觉到非常疑惑,为何只有荷兰ASML可以造顶尖EUV光刻机设备呢?像我国的上海微电子、日本的索尼、佳能都造不出来吗?
2020-12-03 13:46:226379

什么是纳米压印光刻技术

产业的基础技术。目前,纳米压印技术在国际半导体蓝图(ITRS)中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的代表之一。国内外半导体设备制造商、材料商以及工艺商纷纷开始涉足这一领域,短短25年,已经取得很大进展。   纳米压印技术首先通过接触式压印
2021-01-03 09:36:0023515

国产光刻机之路,任重而道远

荷兰阿斯麦公司作为掌握光刻机系统集成和整体架构的核心企业,自然成了欧美自家的小棉袄,顺利赶上了欧美EUV技术研究发展的风口,投资德国卡尔蔡司,收购美国Cymer光源。集成世界各国顶尖科技的EUV
2020-12-28 09:25:5518165

台积电为1nm制程狂购EUV光刻机

之前有消息称,台积电正在筹集更多的资金,为的是向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机,而这些都是为了新制程做准备。
2020-12-29 09:22:482192

台积电向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机

Luc Van den hove表示,IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场,目前ASML把握着全球主要的先进光刻机产能,近年来,IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机,目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673

佳能发售新型光刻机“FPA-3030i5a”,抢占高功能半导体市场

光刻机(图源:日经中文网) 时隔7年,佳能更新了面向小型基板的半导体光刻机,该设备使用波长为365纳米的“i线”光源,支持直径从2英寸(约5厘米)到8英寸(约20厘米)的小型基板,生产效率较以往机型提高了约17%。 就工艺水平而言,佳能的这款新型光
2021-01-06 17:41:067868

佳能即将发售新型光刻机“FPA-3030i5a”

日本的佳能曾经是最大的光刻机制造商之一,后来逐渐衰微。但佳能并没有放弃光刻机业务。据日经中文网报道,佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”,用来抢占高功能半导体市场。
2021-01-07 09:03:223005

佳能将推新光刻机,效率提升17%

日本的佳能曾经是最大的光刻机制造商之一,后来逐渐衰微。但佳能并没有放弃光刻机业务。据日经中文网报道,佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”,用来抢占高功能半导体市场。
2021-01-07 11:21:093152

为何EUV光刻机会这么耗电呢

呢?OFweek君根据公开资料整理出了一些原因,供读者参考。 与DUV(深紫外光)光刻机相比,EUV光刻机的吞吐量相对较低,每小时可曝光处理的晶圆数量约在120片-175片之间,技术改进后,速度可以提升至275片每小时。但相对而言,EUV生产效率还是更高,
2021-02-14 14:05:003915

为什么都抢着买价格更昂贵的EUV光刻机?

目前,还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约,中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机
2021-01-21 08:56:184078

ASML垄断第五代光刻机EUV光刻机:一台利润近6亿

%,净利润达到36亿欧元。全球光刻机主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他们占到了全球市场90%。 ASML由于技术领先,一家垄断了第五代光刻机EUV光刻机,这类光刻机用于制造7nm以下先进制程的芯片。 2020年ASML对外销售了31台EUV光刻机,带来了45亿欧元(折合352.52亿
2021-01-22 10:38:164677

ASML下一代EUV光刻机延期:至少2025年

ASML公司前两天发布了财报,全年净销售额140亿欧元,EUV光刻机出货31台,带来了45亿欧元的营收,单价差不多11.4亿欧元了。 虽然业绩增长很亮眼,但是ASML也有隐忧,实际上EUV光刻机
2021-01-22 17:55:242639

SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机

随着半导体工艺进入10nm节点以下,EUV光刻机成为制高点,之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机,率先量产7nm、5nm工艺,现在内存厂商也要入场了,SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机
2021-02-25 09:28:551644

SK海力士砸4.8万亿韩元买EUV光刻机

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2021-02-25 11:39:091844

冰刻技术能否助力国产芯片摆脱光刻机?

光刻机是我国芯片制造业一大痛点,目前,在EUV光刻机赛道中,仅有ASML一个玩家。
2021-03-02 15:29:139297

三星积极向唯一EUV光刻机厂商ASML争取订单

三星一方面在积极向唯一的EUV光刻机厂商ASML争取订单,另外一方面也在增资为EUV产业链输血。
2021-03-04 09:52:411757

中科院5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别?

5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别? EUV光刻机产能如何? 大飞_6g(听友) 请问谢博士,EUV光刻机的产能是怎样的?比如用最先进的光刻机,满负荷生产手机芯片麒麟990,每天能产多少片?中芯国际有多少台投入生产的光刻机?是1台、5台还是10台呢?谢谢 谢志
2021-03-14 09:46:3023476

ASML分享未来四代EUV光刻机的最新进展

日前,ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV(极紫外)光刻机的最新进展。
2021-03-19 09:39:404630

关于光刻技术浅述

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2021-03-30 09:19:412681

光刻机原理介绍

光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。        可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772

EUV光刻机何以造出5nm芯片

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光刻胶和光刻机的关系

光刻胶是光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281

光刻机干啥用的

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机,有用于LED制造领域的光刻机,还有用于封装的光刻机光刻机采用类似照片冲印的技术,然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813

佳能计划上半年发售3D半导体光刻机 格科半导体正式搬入光刻机

佳能正在开发用于半导体3D技术光刻机
2022-04-01 16:36:5911569

俄罗斯签署合同欲研发顶尖X射线光刻机

在半导体的制造中,光刻机作为其中重要的组成部分,其技术非常复杂,价格也十分昂贵。 由于近期冲突,俄罗斯芯片进口遭严重限制,在其国内没有光刻机的情况下,俄罗斯贸工部选择了与俄罗斯莫斯科电子技术学院签署
2022-04-06 10:35:337960

关于EUV光刻机的缺货问题

台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了,并且在随后的工艺迭代中,逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202077

三星董事李在镕亲自拜访ASML,只为争取到EUV光刻机

媒体称三星的目的是为了抢到ASML的EUV光刻机。 目前芯片短缺的现状大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻机才能打造,而本来EUV光刻机就稀少,因此先进芯片发展频频受限,并且前段时间三星才刚刚和Intel洽谈完芯片合作的事宜,因
2022-06-07 14:18:041176

台积电将于2024年引进ASML最新EUV光刻机,主要用于相关研究

年引进ASML最先进的High-NA EUV光刻机,并且推动台积电的创新能力。不过另一位高管补充道:台积电并不打算在2024年将High-NA EUV光刻机投入到生产工作中去,将首先合作伙伴进行相关的研究。 据了解,High-NA EUV光刻机的High-NA代表的是高数值孔径,相比于现在的光刻技术
2022-06-17 16:33:276499

EUV光刻机售价超26亿,Intel成为首位买家,将于2025年首次交付

在芯片研发的过程中,光刻机是必不可少的部分,而随着芯片制程工艺的不断发展,普通的光刻机已经不能满足先进制程了,必须要用最先进的EUV光刻机才能完成7nm及其以下的先进制程,而目前台积电和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676

euv光刻机三大核心技术 哪些公司有euv光刻机

中国芯的进步那是有目共睹,我国在光刻机,特别是在EUV光刻机方面,更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742

三星可生产euv光刻机euv光刻机每小时产能

随着芯片制程工艺的更新迭代,芯片已进入纳米时代,指甲盖大小的芯片上集成的晶体管数量高达百亿。然而芯片制造最大的困难是光刻机
2022-07-05 10:57:265743

三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息

三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155634

euv光刻机可以干什么 光刻工艺原理

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机
2022-07-06 11:03:077000

中国euv光刻机三大突破 光刻机的三个系统

如今世界最先进的EUV光刻机,只有asml一家公司可以制造出来。
2022-07-06 11:19:3850686

euv光刻机出现时间 ASML研发新一代EUV光刻机

EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523

euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗

大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢? 到现在,世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻机是哪个国家的

是哪个国家的呢? euv光刻机许多国家都有,理论上来说,芯片强国的光刻机也应该很强,但是最强的光刻机制造强国,不是美国、韩国等芯片强国,而是荷兰。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻机是干什么的

可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下,能
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻机euv光刻机区别是什么

目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术EUV使用的是深紫外光刻技术EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻机原理是什么

euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

euv光刻机用途是什么

光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备,其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢?下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403116

EUV光刻技术相关的材料

与此同时,在ASML看来,下一代高NA EUV光刻机光刻胶再度带来了挑战,更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了,DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶(CAR)也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082010

Microlight3D双光子聚合3D纳米光刻机新突破

MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术,兼容多种高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以百纳米级的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件.
2022-08-08 13:54:185884

佳能发售半导体光刻机解决方案Lithography Plus

来源:佳能集团 通过技术与数据优势,提升光刻机的生产效率 佳能将于2022年9月5日起发售解决方案平台“Lithography Plus1”服务(以下简称“Lithography Plus”),该系
2022-09-06 17:01:491195

除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?

厂商尼康和佳能为例,他们就仍在坚持开发并扩展自己的光刻机业务。 尼康 尼康的光刻机产品阵容比较全面,包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进式光刻机和FPD面板光刻机,基本涵盖了除EUV以外的主流光刻机
2022-11-24 07:10:033222

密度提升近3倍,高NA EUV光刻机有何玄机

电子发烧友网报道(文/ 周凯扬 )到了3nm这个工艺节点之后,单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺,将晶体管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 07:25:02952

纳米压印光刻,能让国产绕过ASML吗?

日本最寄望于纳米压印光刻技术,并试图靠它再次逆袭,日经新闻网也称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
2023-03-22 10:20:391837

佳能推出5nm芯片制造设备,纳米压印技术重塑半导体竞争格局 

佳能近日表示,计划年内或明年上市使用纳米压印技术光刻设备FPA-1200NZ2C。对比已商业化的EUV光刻技术,虽然纳米压印的制造速度较传统方式缓慢,但由于制程简化,耗电仅为EUV的十分之一,且投资额也仅为EUV设备的四成。
2024-01-31 16:51:18551

佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机

Takeishi向英国《金融时报》表示,公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C,并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月,该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。 佳能表示,与利用光曝光电路图案的传统光刻技术不同,纳米压印光刻不需要光源,利用
2024-02-01 15:42:05270

押注2nm!英特尔26亿抢单下一代 EUV光刻机,台积电三星决战2025!

了。   芯片制造离不开光刻机,特别是在先进制程上,EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时,尽管目前市面上,EUV光刻机客户仅有三家,但需求不断增加的情况底下,EUV光刻机依然供不应求。   针对后3nm时代的芯片制造工艺,High-NA(高数值孔径)EUV光刻机
2022-06-29 08:32:004635

绕开EUV光刻,下一代纳米压印光刻技术从存储领域开始突围

电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造技术首先想到的自然是光刻机光刻技术。众所周知在芯片行业,光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下,摩尔定律
2023-07-16 01:50:153009

纳米压印光刻技术应用在即,能否掀起芯片制造革命?

压印光刻技术NIL在这条赛道上备受关注,是最有机会率先应用落地的技术路线。   今年早些时候,根据英国金融时报的报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明在接受采访时称,采用纳米压印技术佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标最快在
2024-03-09 00:15:002917

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