微光刻胶技术在全球范围内为纳米压印光刻量身定制了光刻胶配方

据麦姆斯咨询报道，近日，SUSS MicroTec和micro resist technology GmbH（以下简称为MRT）宣布成立合资公司，进一步推动未来新兴应用中的纳米压印光刻技术（Nanoimprint Lithography，NIL）发展。此项合作将依托SUSS Imprint Excellence Center中心逐步开展起来。

半导体领域设备和工艺解决方案供应商SUSS MicroTec，以及开发和生产创新型光刻胶和先进纳米压印材料公司MRT，近日宣布了两方在纳米压印光刻技术（NIL）方面的合作。纳米压印光刻技术是通过高保真图案转移，实现增材制造革命的关键推动力。越来越多的光子学新兴应用都在开始采用紫外纳米压印技术（UV-NIL），例如3D人脸识别和增强现实（AR）眼镜中的衍射光学元件（DOE）和其它微纳米结构，以及光学传感器、激光纳米PSS（Patterned Sapphire Substrate，图形化蓝宝石衬底）结构等。

采用紫外纳米压印技术的光学3D图案化

纳米压印光刻技术及其应用的需求正在不断变化。因此，此次合作的基本目标是了解市场最新需求，进而通过双方在工艺和材料方面的优势，合力开发出相应的解决方案，从而应对该行业不断出现的严峻挑战。

高质量压印技术基于三大核心：设备、工艺和材料。前两大核心（设备和制造工艺专业知识）目前可通过SUSS Imprint Excellence Center中心（SUSS MicroTec Lithography GmbH和SUSS MicroOptics SA联合成立）得到解决。第三大核心的加入，即纳米压印材料供应商MRT的专业化学知识，可谓是强强联合。这三大核心的结合，更好地满足了行业的高要求，同时满足了其对纳米结构复制提出的更具挑战性的需求。

“SUSS Imprint Excellence Center中心在压印设备领域以及在大规模生产环境中进行工业级工艺开发具备数十年的经验。”SUSS MicroTec首席执行官Franz Richter说道，“必须通过与光刻胶供应商和经验丰富的材料供应商建立强有力的合作关系，进一步巩固这一组合，以实现完美的纳米压印解决方案。”

参与此次合作的公司致力于以共同的目标深化合作，推动现有应用和新兴应用朝着高性能、大规模生产的方向发展。

“二十多年来，微光刻胶技术在全球范围内为纳米压印光刻量身定制了光刻胶配方。”MRT首席执行官兼创始人Gabi Grützner女士说道，“我们在聚合物化学和纳米复制工艺方面的专业知识使我们能够提供最先进的材料解决方案，解决日益增长的工业用例，其中纳米复制技术现已用于制造消费类产品。我们很高兴与联盟内的合作伙伴进行合作，因为当材料和设备完美匹配时，可以大大提高客户在工业化应用中纳米压印工艺的良率。SUSS Imprint Excellence Center中心为该技术的推广提供了绝佳机会，目前此技术组合已交付给SUSS Imprint Excellence Center中心，纳米压印光刻技术将普及给更多的工业用户使用。”
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