电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知，EUV光刻机产能有限而且成本高昂，业界一直都在探索不完全依赖于EUV光刻机来生产高端芯片的技术和工艺。纳米
2024-03-09 00:15:00
2909 电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造技术，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业，光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下，摩尔定律
2023-07-16 01:50:153007 
制造集成电路的大多数工艺区域要求100级（空气中每立方米内直径大于等于0.5μm的尘埃粒子总数不超过约3500）洁净室，在光刻区域，洁净室要求10级或更高。
2024-03-20 12:36:0056 
英伟达与台积电、 Synopsys 已做出决策，将在其软件环境、制造工艺以及系统上整合英伟达的 cuLitho 计算光刻平台。此举旨在大幅提升芯片制造速率，并为英伟达即将推出的 Blackwell 架构 GPU 铺平道路。
2024-03-19 11:41:53112 基于HarmonyOS NEXT鸿蒙原生应用开发。目前，作为网易首款鸿蒙原生游戏，《倩女幽魂》不但完成了鸿蒙原生应用开发，且商业化版本已就绪，将在HarmonyOS NEXT发布的第一时间与用户见面。 《倩女幽魂》作为仙侠类标杆手游，新增用户已突破亿级，活跃用户
2024-03-13 11:37:24218 美国半导体设备制造商应用材料公司在印度班加罗尔开设了一个验证中心，标志着印度首家能够加工300mm晶圆的商业设施诞生。
2024-03-12 10:03:03227 ，用于支持所谓“安全飞地（secure enclave）”的计划。计划的资金来自总金额390亿美元的《芯片和科学法案》。芯片法案立法的宗旨是鼓励芯片制造商在美国生产半导体，目前已有600多家公司表明希望获得补助。2023年11月有报道称，英特尔正协商就“安全
2024-03-07 10:50:06731 近期的演示会上，美光详细阐述了其针对纳米印刷与DRAM制造之间的具体工作模式。他们提出，DRAM工艺的每一个节点以及浸入式光刻的精度要求使得物理流程变得愈发复杂。
2024-03-05 16:18:24190 ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色，其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
2024-03-05 11:26:00123 全球领先的连接和电源解决方案供应商Qorvo®（纳斯达克代码：QRVO）近日宣布已就收购Anokiwave达成最终协议。
2024-02-20 17:32:23394 Takeishi向英国《金融时报》表示，公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C，并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月，该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。 佳能表示，与利用光曝光电路图案的传统光刻技术不同，纳米压印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:05270 
佳能近日表示，计划年内或明年上市使用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C。对比已商业化的EUV光刻技术，虽然纳米压印的制造速度较传统方式缓慢，但由于制程简化，耗电仅为EUV的十分之一，且投资额也仅为EUV设备的四成。
2024-01-31 16:51:18551 光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
2024-01-29 09:37:24359 
纳米技术是一种高度前沿的技术，利用控制和操纵物质的尺寸在纳米级别来创造新的材料和应用。纳米技术的特点主要包括以下几个方面：高比表面积、尺寸效应、量子效应和可调控性。 首先，纳米技术的一个重要特点是
2024-01-19 14:06:424311 和光通信领域的客户制造高精度微型光学元件。制造商是位于德国耶拿的电子束技术专家Vistec Electron Beam GmbH。该系统将于2025年初交付。 以最高精度创建最小的结构 这种类型的电子束光刻系统可以在直径达300毫米的衬底上以10纳米范围（约为头发丝的1/2,000）精度
2024-01-15 17:33:16176 光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21346 
使用13.5nm波长的光进行成像的EUV光刻技术已被简历。先进的逻辑产品依赖于它，DRAM制造商已经开始大批量生产。
2023-12-29 15:22:31172 据可靠消息来源透露，联电已就12纳米工艺授权与英特尔进行多轮接触且近期将达成协议。主要原因在于联电的12纳米 ARM架构技术和主攻 x86 架构的英特尔形成了很好的互补效应，根据计划，联电将在今后一段时间内收授高达数百亿新台币的专利费。
2023-12-28 14:46:00197 对于纳米压印技术，佳能半导体设备业务部岩本和德介绍道，它是通过将刻有半导体电路图的掩膜压制于晶圆之上完成二维或三维电路成型的过程。岩本进一步补充道，若对掩膜进行改良，将有可能实现2nm级别的电路线条宽度。
2023-12-25 14:51:51316 在过去的几年里，200mm设备在市场上一直供不应求，但现在整个300mm供应链也出现了问题。传统上，300毫米设备的交货时间为三到六个月，而特定系统的交货时间更长。然而，如今，采购极紫外(EUV)光刻扫描仪可能需要一年或更长时间。沉积、蚀刻和其他系统的交付周期也很长。
2023-12-20 13:31:32172 
来源：Silicon Semiconductor 红外激光切割技术能够以纳米精度从硅衬底上进行超薄层转移，彻底改变了先进封装和晶体管缩放的3D集成。 EV集团（EVG）推出了EVG®850
2023-12-13 17:26:46489 
“半导体研发机构 imec 的项目经理塞德里克-罗林（Cedric Rolin）说：”纳米压印技术很难在质量上与 EUV 相媲美。” 他说，纳米压印的缺陷率“相当高”。
2023-12-06 15:54:42314 某造纸公司出现了键槽磨损，键槽磨损1-1.5mm公司选择索雷碳纳米聚合物材料技术来进行修复。
2023-12-04 09:42:59
0 光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241334 
KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻的光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
2023-11-29 10:28:50283 
的转型升级，一站式数字化电子供应链应愈发重要，数字化智能制造的全链条中电子设计与制造的问题也越来越受到重视。
在此背景下，华秋联合新一代产业园主办的《2023电子设计与制造技术研讨会》于11月23
2023-11-24 16:50:33
的转型升级，一站式数字化电子供应链应愈发重要，数字化智能制造的全链条中电子设计与制造的问题也越来越受到重视。
在此背景下，华秋联合新一代产业园主办的《2023电子设计与制造技术研讨会》于11月23
2023-11-24 16:47:41
虽然目前在光刻机市场，还有尼康和佳能这两大供应商，但是这两家厂商的产品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市场份额仅有10%左右，ASML一家占据了90%的市场份额，并垄断了尖端的EUV光刻机的供应。
2023-11-23 16:14:45485 
在电子和电气制造业中，光刻技术是制造无源/有源器件的重要步骤。
2023-11-20 09:30:05405 
就绪状态和等待状态是计算机领域中一对常用的术语，用于描述进程或线程在执行时的不同状况。下面我将详细解释就绪状态和等待状态的区别。 就绪状态（Ready State）是指进程或线程已经满足了执行的条件
2023-11-17 11:29:55754 第六届进博会于近日在上海国家会展中心正式收官，ASML2023进博之旅也圆满落幕! 今年，ASML继续以“光刻未来，携手同行”为主题，携全景光刻解决方案惊艳亮相，还创新性地带来了“芯”意满满的沉浸
2023-11-11 15:23:53595 
据DIGITIMES此前消息，SK海力士2023年引进佳能纳米压印设备，正在进行测试与研发，目标在2025年左右将该设备用于3D NAND量产。有业内人士表示：“与EUV相比，纳米压印技术形成图案
2023-11-10 16:25:06434 
中图仪器SJ5730系列纳米探针式轮廓仪采用超高精度纳米衍射光学测量系统、超高直线度研磨级摩擦导轨、高性能直流伺服驱动系统、高性能计算机控制系统技术，分辨率高达0.1nm，系统残差小于3nm
2023-11-09 09:14:22
颠覆性技术!半导体行业再放大招! 近日，日本佳能官方发布 纳米压印(NIL)半导体制造设备 未来，或将替代ASML光刻机 成为更低成本的芯片制造设备! 要知道，半导体是目前全球经济的核心，在中国
2023-11-08 15:57:14199 
纳米压印是微纳工艺中最具发展潜力的第三代光刻工艺，是最有希望取代极紫外光的新一代工艺。最近，海力士公司从佳能购买了一套奈米压印机，进行了大规模生产，并取得了不错的效果。
2023-11-08 14:34:02550 目前，俄罗斯虽然拥有利用外国制造设备的65纳米技术，但不能生产光刻机。在现代光刻设备的情况下，外国企业被禁止出口之后，俄罗斯正在忙于自身的生产设备开发。
2023-11-06 11:38:55473 2024年亮相，而支持130纳米制程的设备将于2026年投入生产。 在全球范围内，只有荷兰ASML和日本Nikon两家公司生产光刻机，这使得俄罗斯面临技术及设备的供应难题。然而，在国际制裁的背景下，俄罗斯决定走上了自研自产的道路，旨在建设本土半导体产业链。
2023-11-06 11:26:29212 据悉，asml是唯一的极紫外光刻工具供应商，极紫外线刻印工具是世界上最先进的芯片制造机器，每台价值数亿美元。euv设备是数十年研究和投资的产物，是大规模生产最快、能源效率最高的芯片所必需的。
2023-11-06 09:29:32377 月 5 日 - 10 日 地点：国家会展中心（上海市）4.1 馆集成电路专区 A1 - 01 德州仪器展位 目前，德州仪器的展台搭建工作已全部准备就绪，300 平米进博会展区，涵盖可再生能源、汽车电子与机器人三大领域技术与解决方案，为您打造沉浸式科技“芯”旅程！ 你是
2023-11-05 13:02:11315 光刻是半导体加工中最重要的工艺之一，决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%，占其总成本的30%。光刻胶是光刻环节关键耗材，其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。
2023-10-26 15:10:24359 
为了制备蜂窝状纹理的绒面结构，研究人员利用了热辅助紫外辊纳米压印光刻技术（TUV-Roller-NIL），基于TUV-Roller-NIL制造蜂窝纹理的工艺链可以分为以下四步。
2023-10-25 09:31:36253 
光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271 
近日，上海微系统所魏星研究员团队在300mm SOI晶圆制造技术方面取得突破性进展，制备出了国内第一片300mm 射频（RF）SOI晶圆。
2023-10-23 09:16:45498 
为制备适用于300 mm RF-SOI的低氧高阻衬底，团队自主开发了耦合横向磁场的三维晶体生长传热传质模型，并首次揭示了晶体感应电流对硅熔体内对流和传热传质的影响机制以及结晶界面附近氧杂质的输运机制，相关成果分别发表在晶体学领域的顶级期刊《Crystal growth & design》
2023-10-20 14:30:45358 
来源：中国半导体论坛 编辑：感知芯视界 Link 10月13日消息，日本佳能宣布推出新型光刻设备：FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备！ 受此消息影响，纳米压印概念股午后走高，汇创达午后
2023-10-17 11:07:23230 据佳能介绍，传统的光刻设备将电路图案投射到涂有防腐剂的晶片上，而新产品就像邮票一样，在晶片上印上印有电路图案的掩模来实现这一目标。由于电路图案的传递过程不经过光学结构，因此可以在晶片上准确再现掩模的细微电路图案。
2023-10-16 11:40:29701 当制程节点演进到5nm时，DUV和多重曝光技术的组合也难以满足量产需求了，EUV光刻机就成为前道工序的必需品了，没有它，很难制造出符合应用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整个生产线的良率也非常低，无法形成大规模的商业化生产。
2023-10-13 14:45:03834 
璞璘科技成立于2017年，致力于纳米压印设备及材料的生产和开发。据璞璘科技官方消息，公司是目前国内市场上唯一一家集纳米压印设备、材料、技术于一体的纳米压印尖端微纳米制造企业。
2023-10-13 10:03:231622 纳米科技的迅猛发展将我们的视野拓展到了微观世界，而测量纳米级尺寸的物体和现象则成为了时下热门的研究领域。纳米级测量仪器作为一种重要的工具，扮演着重要的角色。那么，如何才能准确测量纳米级物体呢？在
2023-10-11 14:37:46
从技术发展的角度看，芯片线宽越来越小，各种光学效应、系统误差和工艺条件偏差等变得越来越精细。计算光刻可以通过算法建模、仿真计算、数据分析和结果优化等手段解决半导体制造过程中的纳米级掩模修复、芯片设计、制造缺陷检测与矫正
2023-10-10 16:42:24486 这个复合体由两种设施组成。第一个装置是为“无掩模纳米光刻”设计的，可以在没有口罩的情况下将图像投射到基板上。第二种设备位于第一种设备制造的基板图案上，利用蚀刻形成纳米结构。
2023-10-10 14:27:04436 光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成，是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应，经曝光、显影等光刻工艺，将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是用于微细加工技术的关键性电子化学品。
2023-10-09 14:34:491674 
欧洲极紫外光刻（EUVL）技术利用波长为13.5纳米的光子来制造集成电路。产生这种光的主要来源是使用强大激光器产生的热锡等离子体。激光参数被调整以产生大多数在13.5纳米附近发射的锡离子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:50264 
线路板的光刻技术
2023-09-21 10:20:34607 
该制造商为SHELLBACK 300毫米生产线订购的eaglei 300 caster检查系统，为验证300毫米foup及fosb的重要大小，在清洁前和清洁后，通过准确的、可编程的多点晶圆载具检查，以确保只有在公差范围内的载具才能重新进入生产，从而提高晶圆厂产量。
2023-09-20 11:54:10558 玻璃瓶轴偏差测定仪 在玻璃制造业中，瓶子的设计和制造不仅需要美观，更要求高度的实用性和精密度。其中，玻璃瓶的垂直轴偏差是评价其质量的重要指标之一。为了确保玻璃瓶垂直轴的偏差在规定范围内
2023-09-19 14:31:35
纳米级[1] 。传统的平面化技术如基于淀积技术的选择淀积、溅射玻璃 SOG、低压 CVD、等离子体增强 CVD、偏压溅射和属于结构的溅射后回腐蚀、热回流、淀积 —腐蚀 —淀积等 , 这些技术在 IC
2023-09-19 07:23:03
公开的资料显示，苏大维格他致力于微纳关键技术，柔性智能制造、柔性光电子材料的创新应用，涉及微纳光学印材、纳米印刷、3D成像材料、平板显示（大尺寸电容触控屏，超薄导光板）、高端智能微纳装备（纳米压印、微纳直写光刻、3D光场打印等）的开发和技术产业化
2023-09-11 11:45:593530 制造企业形成新的要求，企业纷纷寻求降本升效的手段。 在光伏玻璃产线中，投料、熔化、成型、退火、切割、制品是一个完整的生产流程，其中生产过程的温湿度、压力等工艺参数对生产效率至关重要，通过将产线上温湿度传感器、
2023-08-24 14:07:04253 
半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38:541221 
2000年代初，芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩（ArF）光源光刻技术过渡到157纳米氟（F 2 ）光源光刻技术。
2023-08-23 10:33:46798 
光刻是一种图像复制技术，是集成电路工艺中至关重要的一项工艺。简单地说，光刻类似照相复制方法，即将掩膜版上的图形精确地复制到涂在硅片表面的光刻胶或其他掩蔽膜上面，然后在光刻胶或其他掩蔽膜的保护下对硅片进行离子注入、刻蚀、金属蒸镀等。
2023-08-07 17:52:531479 
EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02396 据新维度公司总经理罗钢博士介绍，新维度公司继承了刘忠范教授和瑞典lars montelius教授的纳米压印技术系统，是世界主要纳米压印技术路线之一。
2023-07-20 10:58:361179 新的300晶圆厂将于2023年启动，提供动力晶体管、先进逻辑、oem服务。将于2023年开业的13个300mm 晶圆厂中有5个是非ic产品生产，其中3个在中国，2个在日本。今年新成立的300mm晶圆厂的三分之二正在进行预定型生产，其中4家完全致力于委托其他公司制造半导体。
2023-07-20 09:25:50587 
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中，除教师系统地讲授
2023-06-30 10:06:02261 
中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中，除教师系统地讲授
2023-06-29 10:02:17327 
在之前的文章里，我们介绍了晶圆制造、氧化过程和集成电路的部分发展史。现在，让我们继续了解光刻工艺，通过该过程将电子电路图形转移到晶圆上。光刻过程与使用胶片相机拍照非常相似。但是具体是怎么实现的呢？
2023-06-28 10:07:472427 
如今，光刻技术已成为一项容错率极低的大产业。全球领先的荷兰公司 ASML 也是欧洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依赖于世界上最平坦的镜子、最强大的商用激光器之一以及比太阳表面爆炸还高的热度，在硅上刻出微小的形状，尺寸仅为几纳米。
2023-06-26 16:59:16569 非光刻图案化方法可以从图案设计的自由度上分为三大类，第一类能够自由形成任意图案，主要包括扫描探针刻印（SPL）和喷墨打印；第二类需要在模板或预图案化基材的辅助下形成复杂的图案，包括区域选择性沉积（ASD）、纳米压印（NIL）、微接触印刷（mCP）
2023-06-21 15:49:50522 
近日，湖南大学段辉高教授团队通过开发基于“光刻胶全干法转印”技术的新型光刻工艺，用于柔性及不规则（曲面、悬空）衬底上柔性电子器件的原位和高保形制造，为高精度、高可靠性和高稳定性柔性电子器件的制造提供
2023-06-17 10:19:38507 
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205857 
芯片前道制造可以划分为七个环节，即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
上海伯东客户某光刻机生产商, 生产的电子束光刻机 Electron Beam Lithography System 最大能容纳 300mmφ 的晶圆片和 6英寸的掩模版, 适合纳米压印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 
中国在半导体芯片制造方面仍落后于美国。早在上世纪60年代，美国就开始占据世界半导体市场的绝对主导地位。随着技术的不断发展，半导体芯片的制造越来越精细化。从最初的65纳米工程到现在的7纳米技术开发，美国一直处于领先地位。
2023-06-01 10:12:43583 纳米压印技术，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一种新型的微纳加工技术。该技术将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:47949 
EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041790 
目前，用于制造具有复杂形状的纳米级物体的最精确的3D打印技术可能是双光子光刻。这种方法依赖于液态树脂，只有当它们同时吸收两个光子而不是一个光子时，它们才会固化。这使得能够精确制造具有体素（相当于像素的3D）的物体，尺寸只有几十纳米。
2023-05-17 09:59:22661 
在集成电路制造领域，如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 
压电纳米定位台在精密定位领域中发挥着至关重要的作用，可集成于各类高精密装备，为其提供纳米级运动控制，且应用非常广泛，例如显微扫描、光路调整、纳米操控技术、激光干涉、纳米光刻、生物科技、光通信、纳米
2023-05-11 08:56:02347 
在整个芯片制造过程中，几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是制造芯片最关键的技术，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 一、PCB制造基本工艺及目前的制造水平
PCB设计最好不要超越目前厂家批量生产时所能达到的技术水平，否则无法加工或成本过高。
1.1层压多层板工艺
层压多层板工艺是目前广泛
2023-04-25 17:00:25
浮法玻璃是一种常见的玻璃制造工艺，其生产过程中将玻璃原料（例如硅砂、碳酸钠、石灰石等）融化后，从玻璃熔浴上方均匀地流出，经冷却固化成薄片状玻璃。这种技术可以制造出高质量、均匀厚度的玻璃，用途广泛。
2023-04-25 11:18:471260 根据维基百科的定义，光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
2023-04-25 11:11:331242 
光刻技术简单来讲，就是将掩膜版图形曝光至硅片的过程，是大规模集成电路的基础。目前市场上主流技术是193nm沉浸式光刻技术，CPU所谓30nm工艺或者22nm工艺指的就是采用该技术获得的电路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 
光刻技术是将掩模中的几何形状的图案转移到覆盖在半导体晶片表面的薄层辐射敏感材料（称为抗蚀剂）上的过程
2023-04-25 09:55:131057 
光刻是在晶圆上创建图案的过程，是芯片制造过程的起始阶段，包括两个阶段——光掩膜制造和图案投影。
2023-04-25 09:22:16696 
中国在芯片制造领域一直在追赶先进的技术，虽然在一些关键技术方面还存在一定差距，但近年来中国在光刻机领域取得了一些进展，下面将详细介绍中国目前最先进的光刻机是多少纳米。
2023-04-24 15:10:0159466 核心材料是环氧树脂和玻璃纤维，也被称为基材。层压板是接收构成PCB的铜的理想主体。基板材料为PCB提供了坚固且防尘的起点。铜在两面都预先粘合在一起。该过程涉及消磨铜，以揭示薄膜中的设计。 在PCB
2023-04-21 15:55:18
151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留，找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52
大家好，我正在将 FCB-EV9500M 与 imx8mm 接口。我面临的问题是 FCB-EV9500M 是 visca 协议及其 mipi 传感器。FCB-EV9500 不是i2c 通讯协议。有谁知道如何将这个 mipi 相机与 imx8mm 接口？
2023-04-03 08:45:06
我在 MF3D(H)x3 数据表（MIFARE DESFire EV3 非接触式多应用 IC (nxp.com)）中读到 DESFire EV2 EV3 的设计是为了保持向后兼容性。我想知道这是由于
2023-03-31 08:49:45
美国加州时间2023年3月27日，SEMI在《300mm晶圆厂展望报告-至2026年》（300mm Fab Outlook to 2026）中指出，全球半导体制造商预计2026年将增加300mm
2023-03-29 16:47:442044 
数十年来，为制造工艺制作掩模一直是半导体制造中的重要环节。随着我们转向采用5nm、3nm甚至2nm等更先进的工艺节点，缩短计算光刻耗时可帮助半导体制造公司高效地制造芯片。作为该领域的先锋企业，新思科
2023-03-25 16:40:01495 GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍 NVIDIA cuLitho的计算光刻库可以将计算光刻技术提速40倍。这对于半导体制造而言极大的提升了效率。甚至可以说
2023-03-23 18:55:377488 
电子发烧友App
工商网监
评论