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电子发烧友网>今日头条>纳米压印光刻技术的详细介绍

纳米压印光刻技术的详细介绍

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光刻技术在全球范围内为纳米压印光刻量身定制了光刻胶配方

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一文详解光刻技术

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越来越多终端市场产品开始搭载采用纳米压印技术生产的器件

在今年慕尼黑光博会举办的3D人脸识别大会上,3D光学器件厂商均拿出了自己的光学解决方案,无论是采用散斑结构光方案,还是i-TOF、d-TOF方案,其核心光学器件DOE和Diffuser的制造都是采用纳米压印技术量产的。
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纳米压印技术中压电平台的应用

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制造精致微细结构的压印技术

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euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗

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Microlight3D双光子聚合3D纳米光刻机新突破

MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术,兼容多种高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以百纳米级的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件.
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基于富硫聚合物的高灵敏红外偏振器

与常规红外材料不同,富硫聚合物可溶解在有机溶剂中,这意味着其可应用于基于溶液的旋涂方法。此外,富硫聚合物拥有的粘滞弹性和动态共价二硫键使其可被热纳米压印光刻(热NIL)技术模塑成不同的纳米结构。
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EUV光刻的两大挑战者,谁扛大旗?

过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米光刻技术方面付出了一些努力,但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术
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纳米压印技术及UV NIL 与 Embossing 工艺的差别

ROG幻16 经典版2023吸纳宇宙炫彩射线灵感,新创时尚星际黑配色。A面除了更加精密的CNC开孔打造幻彩棱镜光效,还搭配纳米压印光刻炫彩铭牌,轻薄且高颜值。
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纳米压印光刻,能让国产绕过ASML吗?

日本最寄望于纳米压印光刻技术,并试图靠它再次逆袭,日经新闻网也称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
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2023-06-21 15:49:50522

苏州新维度微纳科技有限公司举行落成仪式,聚焦纳米压印

据新维度公司总经理罗钢博士介绍,新维度公司继承了刘忠范教授和瑞典lars montelius教授的纳米压印技术系统,是世界主要纳米压印技术路线之一。
2023-07-20 10:58:361179

浸没式光刻,拯救摩尔定律

2000年代初,芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩(ArF)光源光刻技术过渡到157纳米氟(F 2 )光源光刻技术
2023-08-23 10:33:46798

璞璘科技获数千万元天使轮融资,聚焦纳米压印技术

璞璘科技成立于2017年,致力于纳米压印设备及材料的生产和开发。据璞璘科技官方消息,公司是目前国内市场上唯一一家集纳米压印设备、材料、技术于一体的纳米压印尖端微纳米制造企业。
2023-10-13 10:03:231624

日本佳能发布新型***

开盘拉升涨超11%,美迪凯、晶方科技、利和兴、苏大维格等纷纷大幅拉升。 据佳能介绍,传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上,而佳能此新产品通过在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图案的掩模来实现这一点,就像邮票一样。 据了解,佳能的纳米
2023-10-17 11:07:23230

什么是纳米压印技术?能否取代***?

纳米压印是微纳工艺中最具发展潜力的第三代光刻工艺,是最有希望取代极紫外光的新一代工艺。最近,海力士公司从佳能购买了一套奈米压印机,进行了大规模生产,并取得了不错的效果。
2023-11-08 14:34:02550

佳能押注纳米压印技术 挑战***老大ASML

据DIGITIMES此前消息,SK海力士2023年引进佳能纳米压印设备,正在进行测试与研发,目标在2025年左右将该设备用于3D NAND量产。有业内人士表示:“与EUV相比,纳米压印技术形成图案
2023-11-10 16:25:06435

佳能的光刻工具距离商业化还需要数年时间

“半导体研发机构 imec 的项目经理塞德里克-罗林(Cedric Rolin)说:”纳米压印技术很难在质量上与 EUV 相媲美。” 他说,纳米压印的缺陷率“相当高”。
2023-12-06 15:54:42314

佳能推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备

对于纳米压印技术,佳能半导体设备业务部岩本和德介绍道,它是通过将刻有半导体电路图的掩膜压制于晶圆之上完成二维或三维电路成型的过程。岩本进一步补充道,若对掩膜进行改良,将有可能实现2nm级别的电路线条宽度。
2023-12-25 14:51:51316

佳能推出5nm芯片制造设备,纳米压印技术重塑半导体竞争格局 

佳能近日表示,计划年内或明年上市使用纳米压印技术光刻设备FPA-1200NZ2C。对比已商业化的EUV光刻技术,虽然纳米压印的制造速度较传统方式缓慢,但由于制程简化,耗电仅为EUV的十分之一,且投资额也仅为EUV设备的四成。
2024-01-31 16:51:18551

佳能预计到2024年出货纳米压印光刻

Takeishi向英国《金融时报》表示,公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C,并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月,该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。 佳能表示,与利用光曝光电路图案的传统光刻技术不同,纳米压印光刻不需要光源,利用
2024-02-01 15:42:05270

绕开EUV光刻,下一代纳米压印光刻技术从存储领域开始突围

电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造技术,首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业,光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下,摩尔定律
2023-07-16 01:50:153008

纳米压印光刻技术应用在即,能否掀起芯片制造革命?

压印光刻技术NIL在这条赛道上备受关注,是最有机会率先应用落地的技术路线。   今年早些时候,根据英国金融时报的报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明在接受采访时称,采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标最快在
2024-03-09 00:15:002912

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