记者２３日从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队自主研制成功紫外纳米压印光刻机。
2016-03-24 08:28:51
14774 压印光刻是许多新兴应用的关键技术，例如微光学、增强现实、MEMS和光电传感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:072070 
2013年韩国首尔纳米技术展NANO KOREA2013年韩国纳米展 韩国纳米展 首尔纳米展新材料展 微电子技术展 精密陶瓷展展会时间:2013年7月 10-12日主办单位：韩国纳米组织委员会 韩国
2013-02-24 13:52:34
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，整个流程中的一个重要步骤，其实并没有
2020-09-02 17:38:07
关于纳米级电接触电阻测量的新技术看完你就懂了
2021-04-09 06:43:22
纳米技术的在中国是一个新技术，中国能做的就一两家。纳米防水技术要有特殊的设备，都要自我研发，加纳米材料，以及技术。应用领域可满足手机等消费电子产品，服饰，登山鞋等纺织品以及医疗领域相关产品防水抗潮
2018-09-19 13:34:06
、东南亚产品，衣鞋等。注意：1.网上很多自己喷上去的，还很好卖，这些附着力很差的，可以说是一次性的，上面有灰尘、水分。鞋子有纳米防水镀膜始需要可靠性测试的。某国际品牌已经在做测试2.街头的那个纳米防水技术，还现场演示。实践是检验真理的唯一标准。忽悠老板姓。
2018-10-09 09:54:28
随着纳米技术和生物传感器交叉融合的发展，越来越多的新型纳米生物传感器涌现出来，如量子点、DNA、寡核苷配体等纳米生物传感器。
2020-04-21 06:27:50
提到纳米技术，人们可能会觉得离自己好远。其实纳米材料在几个世纪前，就已经在陶瓷釉和有色窗玻璃染色剂中使用。1990年代末以来，纳米技术越来越多的投入到应用中。现在，全球各地的科学家和工程师都在对这个
2021-08-31 08:13:56
纳米技术是怎么回事看完你就懂了
2021-05-13 07:26:16
`纳米防水技术还在推广当中。很多人没接触过。纳米技术的防水、防潮，耐腐蚀。技术的应用的比较广，比如音响喇叭网，容易吸潮，纳米镀膜后完全不会吸潮。对音质测试完全无影响。蓝牙耳机耐汗耐腐蚀。鞋子防水抗溅，莫高档品牌已经在做了。LED防水防潮等等。`
2018-09-21 15:26:09
详细介绍ATECLOUD智能云测试平台。产品特点：零代码编程；快速搭建测试方案；多台设备多线程测试；远程监
2022-01-03 07:34:15
;互联网的出现让我们与世界的联系更加紧密。科技改变着生活，也改变着世界。 在去年，有一个新的科学技术逐渐被我们所认识和关注。它已经较为普遍的应用于我们的出行、工作中，但我们对它却知之甚少，甚至没有太多人知道它的名字。今天笔者就向各位介绍一下它——NFC。
2019-07-12 06:11:38
三种常见的光刻技术方法根据暴光方法的不同,可以划分为接触式光刻,接近式光刻和投影式光刻三种光刻技术。 ◆投影式暴光是利用透镜或反射镜将掩膜版上的图形投影到衬底上的暴光方法.在这种暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
纳米级电气的特性是什么？
2021-05-12 06:22:56
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分别采用了什么芯片？ 3协同通信的方式有哪些？ 4大数据及认知无线电（名词解释） 4半导体工艺的4个主要步骤： 4简叙半导体光刻技术基本原理 4给出4个全球著名的半导体设备制造商并指出其生产的设备核心技术： 5卫
2021-07-26 08:31:09
的韦亚一研究员及其团队具有多年的学术界及工业界的光刻技术经验积累，并出版有多本专著，其中《计算光刻与版图优化》一书更是列入中国科学院大学研究生教学辅导书系列。本号获授权将陆续介绍《集成电路先进光刻技术
2021-10-14 09:58:07
。 SuPR-NaP法是向氟类聚合物层照射紫外线，使图案部分形成潜影，然后在上面扫过银纳米墨，以化学方式使银纳米墨仅吸附在图案部分，形成布线。产综研等单位在介绍该技术的发布会上，向新闻媒体公开了实验室水平
2016-04-26 18:30:37
求介绍纳米定位台是怎么运行的？、
2013-06-21 15:21:53
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
据Pixelligent Technologies LLC表示，该公司开发出一种据称可提高现有光刻设备分辨率的纳米晶（nanocrystalline）材料，使光学光刻（Optical lithography）可扩展至32纳米以下。
2009-06-07 18:31:181781 英特尔认为浸入式光刻能延伸到11纳米
英特尔的先进光刻和制造部的Yan Borodovsky表明,英特尔希望EUV或者无掩模电子束光刻能作为193纳米浸入式光刻在11纳米的后补者
2010-02-25 10:17:551136 
随着 纳米加工 技术的发展,纳米结构器件必将成为将来的集成电路的基础. 本文介绍了几种用电子束光刻、反应离子刻蚀方法制备硅量子线、量子点和用电子束光刻、电子束蒸发以及剥
2011-06-20 16:16:09
36 本文主要介绍集成电路加工-光刻技术与光刻胶。集成电路加工主要设备和材料：光刻设备，半导体材料：单晶硅等，掩膜，化学品：光刻胶（光致抗蚀剂），超高纯试剂，封装材料及光刻机的介绍
2017-09-29 16:59:0218 对于逻辑器件、存储器件等主流IC行业，可以利用不同技术实现10nm以下工艺的光刻设备商只有三家：荷兰ASML–EUV（极紫外光）光刻、日本尼康–浸没式DUV（深紫外光）光刻、日本佳能–纳米压印光刻（NIL）
2018-03-24 10:10:001838 
从2009年开始算起，中国研究团队一路攻坚克难，国产首套90纳米高端光刻机已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成验收。这意味着，中国半导体材料和设备（工艺技术）产业又向前跨出了关键一大步
2018-04-10 10:57:41248746 稳定的微纳集成结构不仅能为研究纳米材料的光、电等方面的性能提供方便，还可能为功能微/纳米电子器件的研制打下基础。
2018-06-12 19:16:1514361 ”的同时，NGL正在研究，包括极紫外线光刻技术，电子束光刻技术，X射线光刻技术，纳米压印技术等。
光学光刻技术
光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件
2018-06-27 15:43:5013171 西村凉博士表示，液晶聚合物相位差膜的价格原来比较高，10年以来一直在降低成本，JXTG也通过很多其他材料特性来做验证，而最终成功研发出纳米压印技术来实现更简单的工艺和制造成本。JXTG的纳米压印技术，可通过周期性的纳米尺寸凹凸构造从而实现相位延迟。
2018-07-13 10:51:346641 通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。该***由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。
中科院
2018-12-01 09:29:4515360 的技术水平上获得更高分辨率的光刻图形。如1999年初Canon公司推出的FPA-1000ASI扫描步进机，该机的光源为193纳米，通过采用波前技术，可在300毫米硅片上实现0.13微米光刻线宽。
光刻
2019-01-02 16:32:2329609 近日，据外媒报道，一个国际研究团队报告说，在制造纳米芯片方面取得了突破性进展。这一突破可能对纳米芯片的生产和全球各地的纳米技术实验室产生深远的影响。
2019-02-11 09:28:392875 光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-02-25 10:07:536886 随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限，极紫外 （EUV） 光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中。对于 7 纳米及更小的高级节点，EUV 光刻技术是一种能够简化图案形成工艺的支持技术。要在如此精细的尺寸下进行可靠制模，超净的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:372675 
德克萨斯州奥斯汀 - 国际Sematech公司的研究经理表示，他们对将光刻技术扩展到生产的可能性更加乐观一组专家回顾了下一代157纳米曝光工具关键材料的最新发展后，低于0.10微米技术节点的集成电路。
2019-08-13 10:53:594676 联合工作将在EVG的NILPhotonics能力中心开展，这是一个开放式的光刻/纳米压印（NIL）技术创新孵化器，同时也是全球唯一可及的300-mm光刻/纳米压印技术线 2019年8月28日，奥地利
2019-08-29 22:48:032854 光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-12-21 09:58:4023318 本文首先介绍了纳米技术的定义，其次阐述了生活中中纳米技术的应用，最后介绍了纳米技术给人类带来好处。
2020-04-09 15:07:1825442 近日，埃眸科技与常熟高新区正式签署项目协议，打造纳米压印光刻机生产线。
2020-04-13 16:18:059002 台，完成图像的纳米定位加工。纳米光刻技术是制作纳米结构的关键，具有广阔的应用前景。 利用芯明天P12系列XY二维扫描台，可带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化，同时控制激光器及扫描台，二者配合完成图像的纳米精度加工。
2020-04-21 15:30:311459 纳米压印光刻技术及其应用的需求正在不断变化。因此，此次合作的基本目标是了解市场最新需求，进而通过双方在工艺和材料方面的优势，合力开发出相应的解决方案，从而应对该行业不断出现的严峻挑战。
2020-06-17 14:27:425742 EVG技术开发和知识产权总监Markus Wimplinger表示：“为推动纳米压印技术的发展，我们成立了NILPhotonics Competence Center。EVG与纳米压印产业链的企业合作，如Inkron等
2020-10-13 14:43:543237 最近光刻机十分火，我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，我为什么会这样说呢？
2020-10-19 11:42:5123695 产业的基础技术。目前，纳米压印技术在国际半导体蓝图（ITRS）中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的代表之一。国内外半导体设备制造商、材料商以及工艺商纷纷开始涉足这一领域，短短25年，已经取得很大进展。 纳米压印技术首先通过接触式压印
2021-01-03 09:36:0028855 
经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，我为什么会这样说呢？
2021-03-30 09:19:413514 
在今年慕尼黑光博会举办的3D人脸识别大会上，3D光学器件厂商均拿出了自己的光学解决方案，无论是采用散斑结构光方案，还是i-TOF、d-TOF方案，其核心光学器件DOE和Diffuser的制造都是采用纳米压印技术量产的。
2021-05-06 15:41:186272 
在过去几十年的发展中，纳米加工技术促进了集成电路的迅速发展，实现了器件的高集成度，纳米加工技术是人类认识学习微观世界的工具，通过理解这一技术可以帮助我们更好认识纳米技术以及纳米技术支撑的现代高科技产业。
2021-07-16 15:54:122605 压印技术是指将“模具”压在柔软的树脂等，将形状转印的技术。如下示意图，可将树脂压在模具（mold）上转印形状，同理也可将形状从金属或玻璃制圆筒形模具上将形状转印到薄膜等。
2022-06-30 10:48:174547 大家都知道，芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在，全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机，那么euv光刻机目前几纳米呢？ 到现在，世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4253097 MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术，兼容多种高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以百纳米级的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件.
2022-08-08 13:54:188185 
过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力，但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。
2023-02-02 11:49:593901 ROG幻16 经典版2023吸纳宇宙炫彩射线灵感，新创时尚星际黑配色。A面除了更加精密的CNC开孔打造幻彩棱镜光效，还搭配纳米压印光刻炫彩铭牌，轻薄且高颜值。
2023-02-19 10:02:435887 .什么是纳米压印**
纳米压印技术，从字面的意思剖析。纳米代表了这个技术加工的尺度是（纳米：Nanometer，符号:nm，即为毫微米，是长度的度量单位。1纳米=10的负9次方米。）。压印则是代表
2023-02-20 15:20:1222982 
日本最寄望于纳米压印光刻技术，并试图靠它再次逆袭，日经新闻网也称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠 (KIOXIA）、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
2023-03-22 10:20:393968 中国在芯片制造领域一直在追赶先进的技术，虽然在一些关键技术方面还存在一定差距，但近年来中国在光刻机领域取得了一些进展，下面将详细介绍中国目前最先进的光刻机是多少纳米。
2023-04-24 15:10:0163440 压电纳米定位台在精密定位领域中发挥着至关重要的作用，可集成于各类高精密装备，为其提供纳米级运动控制，且应用非常广泛，例如显微扫描、光路调整、纳米操控技术、激光干涉、纳米光刻、生物科技、光通信、纳米
2023-05-11 08:56:021562 
纳米压印技术，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一种新型的微纳加工技术。该技术将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:472515 
非光刻图案化方法可以从图案设计的自由度上分为三大类，第一类能够自由形成任意图案，主要包括扫描探针刻印（SPL）和喷墨打印；第二类需要在模板或预图案化基材的辅助下形成复杂的图案，包括区域选择性沉积（ASD）、纳米压印（NIL）、微接触印刷（mCP）
2023-06-21 15:49:503416 
据新维度公司总经理罗钢博士介绍，新维度公司继承了刘忠范教授和瑞典lars montelius教授的纳米压印技术系统，是世界主要纳米压印技术路线之一。
2023-07-20 10:58:363042 2000年代初，芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩（ArF）光源光刻技术过渡到157纳米氟（F 2 ）光源光刻技术。
2023-08-23 10:33:462377 
欧洲极紫外光刻（EUVL）技术利用波长为13.5纳米的光子来制造集成电路。产生这种光的主要来源是使用强大激光器产生的热锡等离子体。激光参数被调整以产生大多数在13.5纳米附近发射的锡离子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:502593 
璞璘科技成立于2017年，致力于纳米压印设备及材料的生产和开发。据璞璘科技官方消息，公司是目前国内市场上唯一一家集纳米压印设备、材料、技术于一体的纳米压印尖端微纳米制造企业。
2023-10-13 10:03:234245 为了制备蜂窝状纹理的绒面结构，研究人员利用了热辅助紫外辊纳米压印光刻技术（TUV-Roller-NIL），基于TUV-Roller-NIL制造蜂窝纹理的工艺链可以分为以下四步。
2023-10-25 09:31:361758 
纳米压印是微纳工艺中最具发展潜力的第三代光刻工艺，是最有希望取代极紫外光的新一代工艺。最近，海力士公司从佳能购买了一套奈米压印机，进行了大规模生产，并取得了不错的效果。
2023-11-08 14:34:022455 据DIGITIMES此前消息，SK海力士2023年引进佳能纳米压印设备，正在进行测试与研发，目标在2025年左右将该设备用于3D NAND量产。有业内人士表示：“与EUV相比，纳米压印技术形成图案
2023-11-10 16:25:062346 
“半导体研发机构 imec 的项目经理塞德里克-罗林（Cedric Rolin）说：”纳米压印技术很难在质量上与 EUV 相媲美。” 他说，纳米压印的缺陷率“相当高”。
2023-12-06 15:54:421272 对于纳米压印技术，佳能半导体设备业务部岩本和德介绍道，它是通过将刻有半导体电路图的掩膜压制于晶圆之上完成二维或三维电路成型的过程。岩本进一步补充道，若对掩膜进行改良，将有可能实现2nm级别的电路线条宽度。
2023-12-25 14:51:511653 佳能近日表示，计划年内或明年上市使用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C。对比已商业化的EUV光刻技术，虽然纳米压印的制造速度较传统方式缓慢，但由于制程简化，耗电仅为EUV的十分之一，且投资额也仅为EUV设备的四成。
2024-01-31 16:51:182044 Takeishi向英国《金融时报》表示，公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C，并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月，该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。 佳能表示，与利用光曝光电路图案的传统光刻技术不同，纳米压印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:051616 
纳米压印光刻（NIL）技术已被用于解决光学超构表面（metasurfaces）的高成本和低产量的制造挑战。为了克服以低折射率（n）为特征的传统压印树脂的固有局限性，引入了高折射率纳米复合材料直接用作超构原子（meta-atoms）。然而，对这些纳米复合材料的全面研究明显缺乏。
2024-05-09 09:09:511790 
研究人员基于超薄纳米压印超构透镜阵列开发出一种透视增强现实（AR）原型，开创了一种全彩、视频速率和低成本的3D近眼显示方案。
2024-05-15 09:09:092530 
在探索微观世界的奥秘中，纳米技术以其独特的尺度和潜力，开启了一扇通往未知领域的大门。纳米压印技术（Nanoimprint Lithography, NIL），作为纳米制造领域的一项高精度的微纳加工技术
2024-08-26 10:05:034643 
在庆祝成立十周年的重要时刻，荷兰纳米压印技术领域的佼佼者Morphotonics宣布成功完成了1000万美元的B1轮融资，这一里程碑式的成就不仅彰显了公司在全球显示技术领域的深厚积累与广阔前景，也为其持续推动技术创新注入了强劲动力。
2024-09-19 17:29:231110 其中。 报道援引知情人士的消息称，苹果退出了最近一轮的谈判，该轮融资预计将于下周结束。另外两家科技巨头公司微软和英伟达也参与了这一轮谈判。有消息称微软预计将在此前已向该公司投资130亿美元的基础上再投资约10亿美元。 2. 佳能首次出货纳米压印光刻机
2024-09-29 11:24:291303 电子束光刻技术使得对构成多种纳米技术基础的纳米结构特征实现精细控制成为可能。纳米结构制造与测量的研究人员致力于提升纳米尺度下的光刻精度，并开发了涵盖从光学到流体等多个物理领域、用以制造创新器件和标准的工艺流程。
2024-10-18 15:23:261801 
光刻技术是现代微电子和纳米技术的研发中的关键一环，而光刻胶，又是光刻技术中的关键组成部分。随着技术的发展，对微小、精密的结构的需求日益增强，光刻胶的需求也水涨船高，在微电子制造和纳米技术等高精尖领域占据着至关重要的位置。
2024-11-11 10:08:214402 
本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造：光刻技术的演进 过去半个多世纪，摩尔定律一直推动着半导体技术的发展，但当光刻机的光源波长卡在193nm，芯片制程缩小至65nm
2024-11-24 11:04:144451 
光刻掩膜简介 光刻掩膜（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，通常简称“mask”，是半导体制造过程中用于图案转移的关键工具，对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻
2025-01-02 13:46:225047 
纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统 光源系统是光刻机的心脏，负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源，但随着技术的进步，目前多采用深紫外（DUV）或极紫外（EUV）光源，
2025-01-07 10:02:304530 
来源：John Boyd IEEE电气电子工程师学会 9月，佳能交付了一种技术的首个商业版本，该技术有朝一日可能颠覆最先进硅芯片的制造方式。这种技术被称为纳米压印光刻技术（NIL
2025-01-09 11:31:181280 本文旨在介绍人类祖先曾经使用过纳米晶体的应用领域。 纳米技术/材料在现代社会中的应用与日俱增。纳米晶体，这一类独特的纳米材料，预计将在液晶显示器、发光二极管、激光器等新一代设备中发挥关键作用
2025-01-13 09:10:191505 
光刻机用纳米位移系统设计
2025-02-06 09:38:031028 
光刻技术对芯片制造至关重要，但传统紫外光刻受衍射限制，摩尔定律面临挑战。为突破瓶颈，下一代光刻（NGL）技术应运而生。本文将介绍纳米压印技术（NIL）的原理、发展、应用及设备，并探讨其在半导体制造中
2025-02-13 10:03:503709 
的问题，还存在工艺复杂度大幅增加的瓶颈。而纳米压印技术凭借其在高分辨率加工、低成本生产以及高量产效率等方面的显著优势，正逐步成为下一代微纳制造领域的核心技术之一。 （注：图片来源于网络） 一、纳米压印：芯片制造领域的
2025-06-19 10:05:36767 
与成熟制程市场提供更多设备产能支持。 据介绍，这座新工厂是佳能在 2023 年开始动工建设的，并可能使用自家开发的 Nanoimprint (纳米压印) 技术，总投资额超过 500 亿日元，涵盖厂房与先进制造设备。新厂面积达 6.75 万平方公尺，投产后将使光刻设备总产能提
2025-08-04 17:39:28712 电子束光刻（EBL）是一种无需掩模的直接写入式光刻技术，其工作原理是通过聚焦电子束在电子敏感光刻胶表面进行纳米级图案直写。
2025-08-14 10:07:212553 
电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造技术，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业，光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下，摩尔定律
2023-07-16 01:50:154710 
压印光刻技术NIL在这条赛道上备受关注，是最有机会率先应用落地的技术路线。 今年早些时候，根据英国金融时报的报道，负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明在接受采访时称，采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标最快在
2024-03-09 00:15:005545 
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