GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪
光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过光刻胶（光敏胶）进行光刻，将图形信息转移到基片上，从而实现微细结构的制造。
光刻机的工作原理是利用光学系统将光线聚焦到光刻胶上，通过掩膜版（也称为光刻掩膜）上的图形信息进行光刻。光刻胶是一种光敏性材料，当光线照射到光刻胶上时，会引起化学反应或物理变化，使光刻胶在曝光区域发生固化或溶解。通过掩膜版上的图形信息和光刻胶的特性，可以实现对基片上微细结构的制造。
光刻机主要由以下几个部分组成：光源系统、光学系统、对准系统和控制系统。光源系统提供光线，通常使用紫外线光源，如汞灯、氙灯等。光学系统用于将光线聚焦到光刻胶上，通常包括透镜、反射镜等光学元件。对准系统用于将掩膜版上的图形信息与基片对准，确保光刻的准确性和精度。控制系统用于控制光刻机的运行和参数设置，如曝光时间、曝光能量等。
光刻掩膜版测温是一种常用的技术，用于在光刻过程中监测和控制温度。光刻是一种重要的微纳加工技术，广泛应用于半导体、光电子、微电子等领域。在光刻过程中，温度对于保证光刻质量和提高产品性能至关重要。因此，使用掩膜版测温技术可以实时监测温度变化，确保光刻过程的稳定性和可靠性。
首先，光刻掩膜版测温技术通过在掩膜版上安装温度传感器，实时测量温度变化。掩膜版是光刻过程中用于传递图形信息的关键部件，而温度对于掩膜版的变形和稳定性有很大影响。通过在掩膜版上安装温度传感器，可以准确地测量掩膜版表面的温度，并将数据传输到监测系统中进行处理和分析。
其次，光刻掩膜版测温技术可以实时监测温度变化，并根据测量结果进行相应的控制。在光刻过程中，温度的变化会直接影响到光刻胶的性质和光刻图形的质量。通过实时监测温度变化，可以及时发现温度异常，并采取相应的措施进行调整和控制，保证光刻过程的稳定性和可靠性。
另外，光刻掩膜版测温技术还可以提供数据分析和记录功能。通过对测温数据的分析和记录，可以了解光刻过程中的温度变化规律，为工艺优化和质量控制提供参考。此外，测温数据的记录还可以用于质量追溯和问题分析，为产品的质量管理提供依据。
总之，光刻掩膜版测温技术是一种重要的技术，用于在光刻过程中监测和控制温度。它通过在掩膜版上安装温度传感器，实时测量温度变化，并根据测量结果进行相应的控制。光刻掩膜版测温技术具有实时监测、控制和数据分析记录的功能，可以提高光刻过程的稳定性和可靠性，为产品的质量管理提供支持。随着技术的不断发展，光刻掩膜版测温技术将进一步完善和创新，为光刻工艺的优化和产品质量的提升提供更多的可能性。
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪
技术指标
通道数量：0-66路
温度范围：-200到1600度
精度：0.1-0.5可选
分辨率：0.01
供电：电源供电或电池供电
