光刻机原理介绍

光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。

可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位，光刻机，是制造芯片的机器，要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就不会有我们现在的手机、电脑了。

光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。

光刻机的核心原理就是一个透镜组，在精度上首先咱们有个概念：我们现在芯片的线条精度已发展到10nm级别，而较大的原子直径是将近1nm，我们把芯片放在电子显微镜下即可清晰地数出每个线条上有几个原子，“调节屈光度”是典型的几何光学（初等光学）概念，远远实现不了这个精度。

几何光学中，我们认为光是一条条“光线”，所以可以用透镜等比例缩放。随着人们更深入的了解，发现光其实是连续的“光波”，并不按直线传播。再后来，人们发现光是一个个“粒子”（爱因斯坦因此获得诺贝尔奖）再后来，人们发现光粒子具有“波粒二象性”，还具有量子效应。整个过程中，光的物理特性没有改变。而是随着人们观察得越来越细致、越来越精密，逐步发现了光的特性。

文章综合来源：yxlady

编辑：ymf