佳能9月启用新光刻机工厂，主要面向成熟制程及封装应用

7 月 31 日消息，据《日经新闻》报道，日本相机、打印机、光刻机大厂佳能 (Canon) 位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于 9 月正式投入量产，主攻成熟制程及后段封装应用设备，为全球芯片封装与成熟制程市场提供更多设备产能支持。

据介绍，这座新工厂是佳能在 2023 年开始动工建设的，并可能使用自家开发的 Nanoimprint (纳米压印) 技术，总投资额超过 500 亿日元，涵盖厂房与先进制造设备。新厂面积达 6.75 万平方公尺，投产后将使光刻设备总产能提升 50%。

目前，荷兰 ASML 几乎垄断了全球 90% 以上的光刻机市场，不仅面向先进制程的浸没式 DUV 光机市场，ASML 几乎独占，在极紫外光 (EUV) 光刻机领域更是只有 ASML 一家供应商。

但是，在成熟制程 (I-line 和 KrF) 及先进封装光刻机领域，佳能仍有一席之地。特别是后段制程设备，约占其总销售额的 30%，主要供应台积电等封装客户，用于中介层与多芯片模块制作，与 ASML 在市场定位上并不直接竞争，而是专攻 ASML 不重视的市场。

随着 AI 芯片推动 CoWoS 与多芯片封装需求持续攀升，佳能在封装光刻机领域的技术优势有望持续受益。新厂投产将有助于佳能在全球光刻机市场中稳固既有优势，并为 AI 与先进封装需求提供更灵活的产能应对。

审核编辑 黄宇