光刻机用纳米位移系统设计
光刻机是当今世界上最精密的仪器，我们使用的电子产品的芯片都是用光刻机刻出来的，怎样让光刻机在纳米精度内作长距离移动，一直是困扰科学家的难题，今天我把我设计的光刻机用纳米位移系统分享给大家，希望能给需要的朋友一些帮助。纳米位移系统如下面介绍：纳米位移系统由压电晶体Y、电磁铁H1、软磁吸盘H2、丝杆S、螺母SM组成如图所示：
光刻机用纳米位移系统设计
下面介绍一下工作原理：电磁铁H1与软磁吸盘H2隔空排列，先给电磁铁H1通电，这样电磁铁H1就会吸引软磁吸盘，当给压电晶体Y施加电压后，压电晶体Y会产生微小形变，形变尺寸在纳米范围内，压电晶体Y的形变由连杆传到电磁铁H1上，电磁铁H1会绕轴作纳米长度的旋转，由于电磁铁H1通电后与软磁吸盘H2是吸引的，电磁铁H1的转动会带动软磁吸盘H2旋转，吸盘H2又与丝杆相连，这样丝杆也进行旋转，由于螺母是固定的，不能旋转，丝杆的旋转会让螺母产生位移。然后给电磁铁H1断电，压电晶体Y也断电，电磁铁H1与压电晶体Y就会恢复原位，软磁吸盘H2与电磁铁H1是隔空的，给电磁铁H1断电后，电磁铁H1对软磁吸盘H2失去吸引力，软磁吸盘H2就会保持旋转后的状态。就这样反复给电磁铁H1与压电晶体Y通电、断电，螺母就会持续在纳米长度内位移，多次位移就能让螺母在较长的丝杆上作长距离运动。 好了，就介绍到这里吧！
审核编辑 黄宇
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