光通讯胶水中的掩膜保护UV胶水

掩膜保护胶水

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜(也称作“掩模”)，其作用是在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。胶粘剂在掩膜上的应用主要是掩膜保护胶水，主要作用是胶水通过固化后形成保护膜，这层保护膜可防止灰尘掉落在掩模有图形的一侧。有了这个薄膜的保护，灰尘颗粒只能掉落在掩模版玻璃的一侧或保护膜上。

AVENTK光通讯胶水中也有掩膜保护UV胶，胶水在UV光照后快速形成一层保护胶膜，完成保护工作后，可以轻松剥离去除，耐受多种加工工艺，保护性能好。为了方便大家选择掩膜保护胶水，AVENTK整理了几款受客户欢迎的掩膜保护胶水，有需要的朋友可以参考选择：

AVENTK 临时保护UV胶

如果您也正在选择光通讯掩膜保护胶水，不妨看看AVENTK这几款胶水：

1.6005型号UV可剥胶：这款UV可剥胶韧性好，剥离后没有残留物，并且胶水粘度低，适合旋涂工艺，适用于半导体晶元硅片临时保护。

2.6006型号UV可剥胶：这款胶水不含溶剂、韧性好、易剥离，适用于金属、玻璃等材料表面涂覆保护。

3.6007型号UV可剥胶：这是一款高粘度、高触变性的UV可剥胶，适用于加工过程中螺纹堵孔和灌封保护。

4.6009型号UV可剥胶：这款胶水对金属附着力好，耐切削液、硬度适中、易剥离，适合CNC加工保护。

审核编辑：汤梓红