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标签 > 光刻
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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中央处理器(CPU)是一块超大规模的集成电路,是一台计算机的运算核心和控制核心。它的功能主要是解释计算机指令以及处理计算机软件中的数据,这也是迄今为数不...
SK海力士联手TEMC开发氖气回收技术,年度节省400亿韩元
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3 月 5 日消息,美光科技公司计划率先支持佳能的纳米印刷技术,从而进一步降低生产 DRAM 存储芯片的单层成本。 美光公司近日举办了一场演讲,介绍在将...
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龙图光罩拥有130nm及以上节点的半导体掩模版制备顶尖技术,覆盖 CAM、光刻、检测全流程。在功率半导体掩模版领域,其工艺节点已能充分满足全球主流制程的需求。
IBM、美光、应用材料、东京电子宣布合作建设 High-NA EUV 研发中心
12 月 12 日消息,今天早些时候,纽约州长凯西・霍楚尔(Kathy Hochul )宣布与 IBM、美光、应用材料、东京电子(东京威力科创)等半导体...
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