荷兰造价上亿的庞大机器到位并组装好后，并不意味着EUV光刻机的生产工作完全准备就绪。随着先进工艺晶圆制造中图案化策略和分辨率重视程度的攀升，为了满足这些需求，与EUV光刻技术相关的材料同样需要纳入考量，尤其是光刻胶和防护膜。 EUV光
2022-07-22 07:49:00
2403 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50-90nm。
2016-12-13 02:04:1112251 据cnBeta、环球网、快科技等多家媒体证实，近日长江存储从荷兰阿斯麦（ASML）公司订购的一台光刻机已抵达武汉。这台光刻机价值高达7200万美元，约合人民币4.6亿元。
2018-11-22 15:32:0920330 
尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商，凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘，主导着半数以上的市场份额，但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机厂商尼康和佳能为例，他们就仍在
2022-11-24 01:57:004865 电子发烧友网报道（文/周凯扬）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 的耐蚀刻薄膜材料，经曝光和显影而使溶解度增加的是正性光刻胶，反之为负性光刻胶。光刻胶的分类及其特点见表1。 随着IC特征尺寸亚微米、深亚微米方向快速发展，现有的光刻机和光刻胶已无法适应新的光刻工艺要求
2018-08-23 11:56:31
`光刻机MPA500FAb用光栅尺传感器(扫描部位)供应。型号：SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04:14
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38:07
关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22:55
`现在处理一批MA-1200光刻机的零件，有需要的朋友请直接联系我：137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
`书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：IC制造工艺编号：JFSJ-21-046作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：集成电路的制造主要包括以下工艺
2021-07-08 13:13:06
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56:23
，尼康在ASML面前被打的毫无还手之力，高端光刻机市场基本被ASML占据。光刻机工作原理在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差
2018-09-03 09:31:49
如今，单片机IC芯片的制造不断追求更小化，以达到降低能耗、提高性能的目的。为了解决这一问题，新的芯片制造工艺设计应运而生，单片机IC芯片内部平面的结构变成了3D。运用单片机IC芯片设计图加上设计好
2018-08-23 17:34:34
的有氧化炉、沉积设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入机、清洗机、化学研磨设备等。以上是今日Enroo关于晶圆制造工艺及半导体设备的相关分享。
2018-10-15 15:11:22
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23:14
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36:46
光刻机的工作台是一个六自由度的运动台，其中X/Y向运动台是的核心基础工序。管控XY轴角度Yaw和Pitch，直线度Horizontal Straightness和Vertical
2023-02-20 15:49:07
光刻胶（光敏胶）进行光刻，将图形信息转移到基片上，从而实现微细结构的制造。光刻机的工作原理是利用光学系统将光线聚焦到光刻胶上，通过掩膜版（也称为光刻掩膜）上的图形
2023-07-07 11:46:07
进入10nm工艺节点之后，EUV光刻机越来越重要，全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了，他们总共卖出18台EUV光刻机，总价值超过20亿欧元，折合每套系统售价超过1亿欧元，可谓价值连城。
2017-01-19 18:22:593470 本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01161176 
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
2018-04-10 09:49:17131483 
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，因此也具备极高的单台价值量。
2018-04-10 10:19:4736248 光刻机，被誉为人类20世纪的发明奇迹之一。我们日常使用手机的CPU制造工艺都离不开光刻机。
2018-04-10 10:39:18129923 在半导体芯片制造设备中，投资最大、也是最为关键的是光刻机，光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比，具有生产率高、成本低、易实现高的对准和套刻精度、掩模制作相对简单、工艺条件容易掌握等优点，一直是半导体芯片制造产业中的主流光刻技术。
2018-04-10 11:26:34205917 
荷兰的光刻机制造是世界有名的，其中的ASML就是全球最大的光刻机厂商。上周有消息传出，其荷兰的竞争对手、代尔夫特的光刻机制造商Mapper证实正式宣布破产。
2019-01-07 11:29:164140 谈起光刻机相信大家首先想到的是荷兰，确实如此，荷兰光刻机在全球都是数一数二的，就连最顶尖的光刻机制造公司ASML也位于荷兰，二荷兰光刻机之所以这么出名，很大程度是由于荷兰在这方面下了很大的功夫，比如技术投入、研发团队以及资金投入都是其他国家难以比拟的。
2019-03-14 14:17:5417823 光刻机应用广泛，包括IC前道光刻机、用于封装的后道光刻机以及用于LED领域及面板领域的光刻机等等。封装光刻机对于光刻的精度要求低于前道光刻要求，面板光刻机与IC前道光刻机工艺相比技术精度也更低，一般为微米级。
2019-04-28 13:55:52228196 
测量台、曝光台：承载硅片的工作台，也就是双工作台。一般的光刻机需要先测量，再曝光，只需一个工作台，而ASML有个专利，有两个工作台，实现测量与曝光同时进行。而本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目则是在技术上突破ASML对双工件台系统的技术垄断。
2019-05-15 17:56:4118393 
光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
2019-11-23 10:45:54158604 光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出90nm的光刻机，这已经十分不容易了，这可是0的突破。那么为什么光刻机这么难造呢？
2020-01-29 11:07:007799 在半导体工艺进入 10nm 节点之后，制造越来越困难，其中最复杂的一步——光刻需要用到 EUV 光刻机了，而后者目前只有荷兰 ASML 阿斯麦公司才能供应。
2019-12-10 16:04:287122 光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且光刻机的技术门槛极高，整个设备的不同部位采用了世界上最先进的技术，如德国的光学设备、美国的计量设备等，可以说是“集人类智慧大成的产物”，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。
2020-03-14 10:58:4874615 ，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2020-03-18 10:52:1189226 光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最为关键，因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。
2020-03-18 11:00:4172452 光刻机是芯片制造的核心设备之一，作为目前世界上最复杂的精密设备之一，其实光刻机除了能用于生产芯片之外，还有用于封装的光刻机，或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前，我国高端的光刻机，基本上是从荷兰ASML进口的。
2020-03-18 11:12:0244388 光刻机是半导体制造设备中价格占比最大，也是最核心的设备，是附加价值极高的产品，被誉为是半导体产业皇冠上的明珠。
2020-03-19 13:55:2012136 对于芯片制造厂商来说，光刻机的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工艺已经提升至5nm和3nm之后，极紫外光刻机就显得更为重要。而ASML作为全球唯一有能力制造极紫外光刻机的厂商，他的一举一动，牵动着所有相关产业上下游厂商的心。
2020-04-15 09:27:561851 对于芯片制造厂商来说，光刻机的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工艺已经提升至5nm和3nm之后，极紫外光刻机就显得更为重要。而ASML作为全球唯一有能力制造极紫外光刻机的厂商，他的一举一动，牵动着所有相关产业上下游厂商的心。
2020-04-15 15:44:364093 大家都知道，目前我国光刻机技术至少落后荷兰ASML15年，目前荷兰ASML的顶级光刻机可以达到7nm工艺，目前他们正大研发5nm工艺光刻机。
2020-04-19 23:43:2610223 作为芯片制造的核心设备之一，光刻机对芯片生产的工艺有着决定性影响。 据悉，光刻机按照用途可分为生产芯片的光刻机、封装芯片的光刻机以及用于LED制造领域的投影光刻机。其中，生产芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999 顶级光刻机有多难搞？ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！
2020-07-02 09:38:3911513 作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。 光刻机 光刻机（Mask
2020-08-28 14:39:0411746 
少，满打满算达到了9个。而拥有制造尖端光刻机能力的国家，在地球上仅有两个国家能够掌握，他们分别是日本和荷兰。 毫不忌讳地说，制造先进光刻机的技术，比原子弹还要稀有。 首先我们要明确的一点，这个光刻机到底是个什么东
2020-09-03 18:12:333321 1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机；1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺；清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。而那时，光刻机巨头ASML还没诞生。
2020-09-20 10:35:027124 近段时间有关芯片以及光刻机的话题非常热门，我们今天也来探讨一下光刻机的话题。一台能生产先进工艺芯片的光刻机后面究竟需要多少供应链去支持？制造一台光刻机需要多少个国家的公司参与其中？看看制造一台光刻机究竟有多困难。
2020-09-25 09:47:306316 
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键设备，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162 
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29:369260 
在制造芯片的过程中，光刻工艺无疑最关键、最复杂和占用时间比最大的步骤。光刻定义了晶体管的尺寸，是芯片生产中最核心的工艺，占晶圆制造耗时的40％到50％。光刻机在晶圆制造设备投资额中约占23
2020-10-09 15:40:112189 荷兰阿斯麦（ASML）公司的光刻机作为世界上最贵最精密的仪器，相信大家都有耳闻，它是加工芯片的设备。其最先进的EUV（极紫外光）光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片，据说一套最先进的7纳米EUV
2020-10-15 09:20:054438 光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。
2020-10-16 10:33:39311070 
近段时间有关芯片以及光刻机的话题非常热门，我们今天也来探讨一下光刻机的话题。
2020-10-17 11:32:148259 最近光刻机十分火，我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，我为什么会这样说呢？
2020-10-19 11:42:5120305 ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499647 
导读：光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。 光刻机的工作原理： 利用光刻机
2022-12-23 13:34:547273 作为半导体制造中的核心设备，光刻机无疑是芯片产业皇冠上的明珠，特别是先进工艺的光刻机，7nm以下的都要依赖ASML公司，EUV光刻机他们还是独一份。
2020-11-09 17:11:382195 在芯片制造环节中，光刻机是核心设备。没有光刻机，半导体或遭断链危机，摩尔定律将停止，人类也就无法设计、制造和封装硅芯片。放眼全球，一家叫做ASML（阿斯麦）的荷兰公司市场占有率达80%，是行业的绝对
2020-11-13 09:28:515165 自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后，需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备，才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品，但就在近日，又有外媒豪言：这种顶尖的EUV极紫外光刻机，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。 光刻机一般根据操作的简便性分为三种，
2020-12-29 09:14:542095 中的设备之一，只不过由于其制造复杂，研发困难，而且事关芯片的制造工艺，所以在芯片制造设备中占据着较高的地位。 也正是因此，一台光刻机的价格不菲，尤其是现在最高端的EUV型光刻机，其售价高达1.3亿美元，这样的价格，已经超过了很多芯片企业的
2021-01-21 15:45:033085 在光刻机领域一家独大的荷兰光刻机巨头ASML，占据着芯片行业的顶端，毕竟没有了他们的设备，想要造出先进工艺制程的芯片是没戏的。 财报披露，ASML2020年全年净销售额140亿欧元，毛利率为48.6
2021-01-22 10:38:164677 
根据芯思想研究院（ChipInsights）的数据表明，2020年全球集成电路、面板、LED用光刻机出货约58台，较2019年增加3台。其中集成电路制造用光刻机出货约410台；面板、LED用光刻机出货约170台。
2021-02-24 16:56:1211120 光刻机是我国芯片制造业一大痛点，目前，在EUV光刻机赛道中，仅有ASML一个玩家。
2021-03-02 15:29:139297 中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm，若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3nm等先进制程，EUV光刻机设备就必不可少。那么，中芯国际此次12亿美元的采购协议都有哪些类型的光刻机，包含EUV光刻机吗？
2021-03-10 14:36:559465 、用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的
2021-03-27 10:00:371469 
用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机
2021-03-30 18:17:272075 
光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。 可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位，光刻机，是制造芯片的机器，要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就
2021-07-07 14:31:18125772 光刻机原理怎么做芯片 光刻是集成电路中最重要的工艺，光刻机是制造芯片的核心装备，在芯片的制作中，几乎每个工艺的实施，都需要用到光刻技术。可以说，光刻机是半导体界的一颗明珠。那么光刻机原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869 光刻机作为芯片产业制造中不可缺少的设备，也是工时和成本占比最高的设备，更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶。那么目前有哪些国家可以制造出光刻机呢？
2022-01-03 17:30:0086844 荷兰ASML作为全球最大的光刻机制造商，占据了世界80%的市场份额。一台高端的光刻机内部零件高达10万件之多，但是其中的零件也并非出自ASML一家，而是集众于多家高科技厂商。
2022-01-03 17:31:009048 光刻机作为芯片的核心制造设备，也是当前最复杂的精密仪器之一。其实光刻机不仅可以用于芯片生产，还可以用于封装和用于LED制造领域。
2022-01-03 16:43:0016302 光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且光刻机的技术门槛极高，整个设备的不同部位采用了世界上最先进的技术
2021-12-30 09:46:534123 光刻机制作芯片过程非常复杂，而光刻机是制造芯片最重要的设备之一，由于先进光刻机的技术封锁，中国芯片厂商的芯片制作工艺目前比较落后，也没有优秀的国产光刻机来掌握到最先进的光刻技术。
2021-12-30 11:23:2111145 刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机加工的时候刻蚀机有些不能办到，并且刻蚀机的精度十分笼统，而光刻机对精度的要求十分细致，所以刻蚀机不能代替光刻机。
2022-02-05 15:47:0039913 光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813 光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 中国芯的进步那是有目共睹，我国在光刻机，特别是在EUV光刻机方面，更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742 随着芯片制程工艺的更新迭代，芯片已进入纳米时代，指甲盖大小的芯片上集成的晶体管数量高达百亿。然而芯片制造最大的困难是光刻机。
2022-07-05 10:57:265743 三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155634 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先进的EUV光刻机，只有asml一家公司可以制造出来。
2022-07-06 11:19:3850686 大家都知道，芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在，全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机，那么euv光刻机目前几纳米呢？ 到现在，世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4242766 是哪个国家的呢？ euv光刻机许多国家都有，理论上来说，芯片强国的光刻机也应该很强，但是最强的光刻机制造强国，不是美国、韩国等芯片强国，而是荷兰。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:276977 光刻机是大规模集成电路生产的核心设备，它能够制造和维护需要高水平的光学和电子产业基础，全球只有少数制造商掌握了这一基础。 光刻机的作用是对芯片晶圆进行扫描曝光，对集成电路进行蚀刻。精度更高的光刻机
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流光刻技术，具有效率高、无损伤等优点。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工
2022-07-10 15:28:1015099 芯片想必大家都很熟悉，光刻机是是制造芯片的核心装备，并且光刻机只有一小部分国家拥有，那么光刻机为什么这么难呢？ 据说越小的东西，建造起来就越困难。 这句话不是没有道理的。 尽管手机中的芯片只有指甲
2022-07-10 17:37:228522 摩尔定律
Intel创始人之一摩尔1964年提出，大约每隔12个月：
1）。芯片能力增加一倍、芯片价格降低- -倍;
2）。广大用户的福音、行业人员的噩梦。
芯片集成密度不断提升、光刻分辨率的不断提升！
2022-08-29 14:20:2710022 光刻机誉为“现代半导体行业皇冠上的明珠”，是一种高度复杂的设备。光刻机是通过紫外光作为“画笔”，把预先设计好的芯片电路路线书写在硅晶圆旋涂的光刻胶上，光刻工艺直接决定了芯片中晶体管的尺寸和性能，是芯片生产中最为关键的过程。
2022-10-27 09:39:024118 是的！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相。机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上， 如此便可把被摄物体的影像复制到底片上。
2022-11-21 10:03:067316 电子发烧友网报道（文/周凯扬）尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商，凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘，主导着半数以上的市场份额，但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机
2022-11-24 07:10:033222 利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。
2022-12-01 09:32:113700 电子发烧友网报道（文/ 周凯扬 ）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205860 
光刻机是集成电路生产的关键设备之一，在整个生产过程中占据重要的地位。高精度的工作台作为光刻机核心部件之一，其运动性能和定位精度决定了光刻工艺所能实现的线宽和产率。光刻机的工作台是一个六自由度的运动
2022-03-08 09:07:46859 
后道制造的“先进封装光刻机”，并不是大家通常认知当中的应用于IC前道制造的“光刻机”。早在2021年9月18日，上海微电子宣布推出SSB520型新一代大视场高分辨率先进
2022-02-11 09:37:0410435 
欢迎了解 光刻机（Lithography Machine）是一种半导体工业中常用的设备，用于将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，是IC制造的核心环节，光刻机的基本工作原理是利用光学原理将图案投射
2023-12-18 08:42:12281 
光刻与光刻机
➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。
➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。
光刻机结构及工作原理
➢光刻机简介
➢光刻机结构及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。
2024-03-21 11:31:4143 
电子发烧友App
工商网监
评论