刻蚀机能替代光刻机吗
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机加工的时候刻蚀机有些不能办到，并且刻蚀机的精度十分笼统，而光刻机对精度的要求十分细致，所以刻蚀机不能代替光刻机。
刻蚀机和光刻机无论是从工艺、流程、设备性能、精度等方面都有很大的区别，主要区别如下：
光刻机的难度大于刻蚀机，光刻机是把图案印上去，而刻蚀机是根据打印的图案去掉有无图案的部分，将剩下的留下。
审核编辑：姚远
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
光刻机
+关注
关注
31文章
1116浏览量
46360 -
刻蚀机
+关注
关注
0文章
45浏览量
4054
发布评论请先 登录
相关推荐
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
发表于 03-21 11:31
•564次阅读
刻蚀机是干什么用的 刻蚀机和光刻机的区别
刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似，先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜，再将掩膜与待加工物料模组装好，将样品置于刻蚀室内，通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将待加工物料表面的非掩膜区域
浅谈不同阶段光刻机工作方式
在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光刻胶膜层
发表于 03-08 10:42
•206次阅读
光刻机结构及IC制造工艺工作原理
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
发表于 01-29 09:37
•563次阅读
什么是刻蚀呢？干法刻蚀与湿法刻蚀又有何区别和联系呢？
在半导体加工工艺中，常听到的两个词就是光刻(Lithography)和刻蚀(Etching)，它们像俩兄弟一样，一前一后的出现，有着千丝万缕的联系，这一节介绍半导体刻蚀工艺。
狂加工一年！ASML把欠中国的600亿光刻机，成功交付了
关于光刻机，大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗？来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性不断提升，人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂，不仅仅涉及到底层的架构设计，还需要通过
荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机
在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后，美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
光伏刻蚀工艺流程 光刻蚀刻加工原理是什么
光刻蚀（Photolithography）是一种在微电子和光电子制造中常用的加工技术，用于制造微细结构和芯片元件。它的基本原理是利用光的化学和物理作用，通过光罩的设计和控制，将光影投射到光敏材料上，形成所需的图案。
比肩国际大厂，刻蚀设备会是率先实现国产替代的吗？
的成熟程度也间接决定了产品的良率和吞吐量。 这每一道工序中，都有所需的对应设备，比如光刻所需的EUV、DUV光刻机，刻蚀所需的干法、湿法刻蚀机，以及化学、物理气相沉积所需的CVD、
芯片制造之光刻工艺详细流程图
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道
发表于 06-09 10:49
•6431次阅读
工商网监
评论