光刻机中国能造吗_为什么中国生产不了光刻机

光刻机中国能造吗

光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，该领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经垄断了高端光刻机市场。荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元，而且只有ASML能够生产。

相比之下，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

就算是进口也没有那么容易，由于美国主导《瓦森纳协议》的限制，中国只能买到ASML的中低端产品，出价再高，也无法购得ASML的高端设备。例如：Intel、三星、台积电2015年能买到ASML10 nm的光刻机。而大陆的中芯国际，2015年只能买到ASML 2010年生产的32 nm的光刻机，5年时间对半导体来说，已经足够让市场更新换代3次了。

虽然和世界先进水平有着不小的差距，但是这些年来中国一直在努力突破技术上的落后和封锁，国家的“十二五”、“十三五”规划也在半导体行业的各个领域都有相应的布局。

2017年，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收。极紫外光刻（Extreme Ultraviolet Lithography， EUVL）被公认为是最具潜力的下一代光刻技术，面对的是7nm和5nm节点，代表了当前应用光学发展最高水平，作为前瞻性EUV光刻关键技术研究，国外同类技术封锁严重，技术难度大、瓶颈多。

《中国制造2025》也将EUVL列为了集成电路制造领域的发展重点对象，并计划在2030年实现EUV光刻机的国产化。

当你突破了技术封锁，拉近了技术代差，追逐商业利益的资本主义便向你抛来了橄榄枝。美帝的套路就是这样，当年我们准备自研大飞机，美帝说你买我们的波音吧；当年不允许我们进入国际空间站，现在我们有了天宫二号后，又准备和我们合作建立新的国际空间站了。

同理，当我们突破了EUV光刻技术，ASML就开始松动了。据网络上的报道， ASML 说EUV光刻机要进口到中国全没有任何问题！最快2019年，中国或将迎来首台EUV光刻机。

最后，进入十四五计划后，随着国家对芯片领域大幅度投资和持续投入，相信中国的光刻机发展也将最终进入大规模自主生产的阶段。还是那句话，一切只是时间问题！

中国光刻机技术和ASML的差距

大家又为中芯国际以及中国高端芯片制造担忧起来了，原因是中国芯国际向ASML采购的一台极紫外光刻机，可能生变了。因为ASML已向荷兰当局申请出口许可4个月了，一直没有得到许可，导致ASML无法按时交货。

而这台极紫外光刻机是中国唯一一台极紫外光刻机，也是制造高端芯片必不可少的设备，目前只有ASML能够生产。

于是有人问，目前中国刻蚀机能够生产出5nm的来了，那么国产光刻机的技术究竟在什么水平，和ASML相比，还差多少，能不能短时间内追上来，从而不再依赖ASML？

实话实说，中国目前的光刻机技术要和ASML相比的话，至少有10年以上的差距，短时间内是追不上的，所以还是想办法把这台极紫外光刻机赶紧拉回来才是正事，国产短时间内是没戏的。

我们知道在光刻机领域，有人根本ASML的技术并结合芯片制造，分为四个档次，分别是超高端，高端，中端，低档。

分别对应的节点分别5/7nm工艺、7-28nm工艺、28-65nm工艺，65-90nm工艺。目前ASML的产品覆盖所有档次，而nikon的产品停留在28nm这个节点，cannon和smee（上海微电子）停留在90nm这个节点。

意思就是中国的最高技术是90nm，生产出来的光刻机处于低端，只能生产90nm的芯片，而在90nm之后，还有65nm，45nm，32nm，22nm，14nm，10nm，7nm，5nm。

而这些节点技术，有好几个台阶要上，首先是45nm的台阶，再到22nm的台阶，再到10nm台阶，再到7nm的台阶，真的是一步一个坎，有些坎几年都未必能够更新出一代来。

所以说，从目前的这个情况来看，国产光刻机技术落后ASML至少是10年以上，甚至说10年都算是少的了，可以说是万里长征才开始第一步。

当然了，正如大家所想，再难也得研发，否则就会被人卡脖子，目前这台极紫外光刻机不就是如此么？用于生产5/7/8nm芯片的，是中芯国际用于下一代技术研发的，现在被卡了，可能会给中国高端芯片制造拖后腿了。