我国有哪些光刻机企业？

光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且光刻机的技术门槛极高，整个设备的不同部位采用了世界上最先进的技术，如德国的光学设备、美国的计量设备等，可以说是“集人类智慧大成的产物”，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

国内外光刻机技术发展现状

目前最先进的是第五代EUV光刻机，采用极紫外光，可将最小工艺节点推进至 7nm，由荷兰 ASML制造。

当前，全球最先进的EUV光刻机只有荷兰的ASML生产，占据了光刻机市场高达80%的市场。Intel、台积电、三星的光刻机都来自于与ASML。当然，最顶尖的光刻机不是荷兰一个公司制造的，而是集合了许多国家最先进技术的技术支持，可以说是多个国家国家共同努力的结果，比如德国的光学镜头、美国的计量设备等。ASML将这些来自不同国家的3万多个配件，分为13个系统，需要将误差分散到13个系统，如果德国的光学设备做的不准、美国的光源不准，那么ASML也无法制造出精密的光刻机。

相较于荷兰、德国、美国等这些国家，我国的芯片制造以及超精密度机械制造方面不具有优势，又因为《瓦森纳协定》的技术封锁，限制了对中国出口先进技术，上游的光刻机、刻蚀机、离子注入机子都是核心的设备，因此半导体设备的落后是制约中国半导体发展的一个核心因素，在高端光刻机领域，我国仍然是空白。

我国五大光刻机企业

那么，目前有哪些中国企业在研究光刻机？光刻机是一个高精度高复杂集百年工业制造之结晶的一种高科技产品，目前除了荷兰的阿斯麦能够批量生产7nm光刻机之外，基本上再没有任何一家企业有着这样雄厚的技术实力。我国目前也仅有五家企业在研究，并且各自有各自的领域优势。

1.上海微电子装备有限公司（SMEE）

上海微电成立于2002年3月，是我国国内唯一能够做光刻机的企业。上海微电已经量产的光刻机中，性能最好的是SSA600/200工艺，能够达到90nm的制程工艺，相当于2004年奔四CPU的水平。因此，国内晶圆厂所需要的高端光刻机完全依赖进口。

目前，最先进的光刻机是ASML的极紫外光刻（EUV），用于7nm、5nm光刻技术，对于EUV光刻关键技术，国外进行了严重的技术封锁。我国在2017年，多个科研单位合作经过7年的潜心钻研，突破了EUV关键技术。根据相关资料披露，计划2030年实现EUV光刻机国产化。

上海微电子设备公司已生产出90纳米的光刻机设备，这也是生产国产光刻机的最高技术水平，比ASML公司差不多有10年的差距。因为西方国家有签协议，芯片核心部件材料不能出口到中国，实施封锁政策，导致国产光刻机发展缓慢，上海微电子克服困难自己生产这些零部件。目前生产出来的光刻设备已用到很多的国产企业中，而且国家也在对封锁进行联合公关，相信不久就可以向45nm、28nm迈进。

2.中科院光电所

中科院光电所研发出365纳米波长，曝光分辨率达到22纳米的光刻机，是近紫外的光线，离极紫外还有一点差距。光刻机的波长决定了芯片工艺的大小，波长越短，造价越高。像ASML最先进的EUV极紫外光刻机，波长只有13.5纳米，可以生产10nm、7nm的芯片。现在一般使用的是193纳米波长的光刻机，分辨率却只有38纳米，而中科院研发的光刻机采用了双重曝光的技术，可以达到22纳米。不过相关专业人士也指出，这种技术只能做短周期的点线光刻，无法满足芯片的复杂图形，后续还在不断优化和改进中。

3.合肥芯硕半导体有限公司

合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月，是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000，已经实现最高200nm的量产。不过按照目前最新消息其已经申请破产清算，主要是光刻机对研发的投入资金是在太大，又没有成熟的产品面向市场，终究难免面临倒闭的风险。上海微电子也是通过快速占领光刻后道工艺技术，迅速占领国内80%市场份额，才得以生存。

4.无锡影速半导体科技有限公司

无锡影速成立于2015年1月，影速公司是由中科院微电子研究所联合业内子资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。该公司已经成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备，已经实现最高200nm的量产。

5.先腾光电科技有限公司

先腾光电成立于2013年4月，已经实现最高200nm的量产，在2014国际半导体设备及材料展览会上，先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术。

以上就是目前我国曾经或者现在还在研发光刻机的企业，在高端光刻机领域，我国的技术仍然比较薄弱，中国光刻机领域能拿的出手的还是只有上海微电子装备的产品，但是对比世界现金水平，还是远远落后，最先进的光刻机已经进入到了7nm，5nm的阶段，台积电靠着7nm的光刻机在制造环节做的风生水起。

中国在光刻机领域还是处于非常落后的状态，单纯依靠民营企业和资本，在长周期长期不盈利的情况下还是很难坚持，最终能让中国光刻机胜出的机会还是需要举国体制（正如当年韩国举国体制支持韩国半导体发展），国家在背后从资金、人才、政策上权利支持才有可能赶上现金水平。

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