0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

两家极紫外光刻机公司3月份营收同比环比均上涨

牵手一起梦 来源:比特网 作者:贾桂鹏 2020-04-15 15:44 次阅读

对于芯片制造厂商来说,光刻机的重要性不言而喻,尤其是目前芯片制造工艺已经提升至5nm和3nm之后,极紫外光刻机就显得更为重要。而ASML作为全球唯一有能力制造极紫外光刻机的厂商,他的一举一动,牵动着所有相关产业上下游厂商的心。

据了解,由于疫情的影响,现在交通和物流成为了ASML交付极紫外光刻机的阻碍,这也直接导致了三星3nm工艺在2020年量产的计划成为泡影。

据悉,ASML已经下调了今年第一季度业绩预期,从此前的31亿-33亿欧元,调整至23亿-24亿欧元,不过值得关注的是,虽然ASML的交付遇到了运输问题,导致ASML业绩预期下调,但是,部分极紫外光刻机制造设备供应商的业绩却没受到明显影响。

有外媒报道,分别提供光罩解决方案和晶圆传载解决方案的家登精密、帆宣系统科技这两家公司,在3月份的营收同比环比均有不少增长。

这两家极紫外光刻机制造设备供应商3月份出现营收上涨,主要是目前芯片制造厂商对于极紫外光刻机有大量需要,所以,这使得ASML也在加紧生产进度。

对于目前的芯片制造厂商而言,已经进入到了白热化竞争的阶段,台积电、三星已经在部署自己3nm制程工艺的试产,而这些都会让ASML和相关制造设备供应商迎来进一步发展的机会。

责任编辑:gt

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    447

    文章

    47795

    浏览量

    409155
  • 设备
    +关注

    关注

    2

    文章

    4172

    浏览量

    69266
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1121

    浏览量

    46383
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻机的基本原理和核心技术

    虽然DUVL机器可以通过多重曝光技术将线宽缩小到7-5纳米,但如果要获得更小的线宽,DUVL已经达到了极限。采用EUV作为光源的极紫外光刻(EUVL)成为研究的重点,其波长为13.5纳米。
    发表于 04-25 10:06 63次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的基本原理和核心技术

    一文读懂半导体工艺制程的光刻

    光刻胶按照种类可以分为正性的、负性的。正胶受到紫外光照射的部分在显影时被去除,负胶受到紫外光曝光的地方在显影后被留下。
    的头像 发表于 04-24 11:37 201次阅读
    一文读懂半导体工艺制程的<b class='flag-5'>光刻</b>胶

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
    发表于 03-21 11:31 706次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 742次阅读

    荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机

    在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后,美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示,出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
    的头像 发表于 01-03 15:22 632次阅读

    英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

    如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
    的头像 发表于 12-28 11:31 458次阅读

    紫外光子灭活技术

    厦门大学康俊勇教授、尹君副教授课题组根据致病菌中遗传物质、蛋白质的紫外光吸收特性,开发了一种由275-nm氮化物LED组成的大功率(3.2 W)且辐照均匀的平面光源,能够在1秒内完成对新冠病毒
    的头像 发表于 10-17 15:22 911次阅读
    深<b class='flag-5'>紫外光</b>子灭活技术

    紫外μLED作为日盲紫外光通信光源的研究现状和综合分析

    实现深紫外光通信的一个关键器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高压汞灯实现,但汞灯的调制带宽非常小,这严重影响了深紫光通信的传输速率。
    发表于 09-05 11:13 513次阅读
    深<b class='flag-5'>紫外</b>μLED作为日盲<b class='flag-5'>紫外光</b>通信光源的研究现状和综合分析

    紫外光固化系统在制造和生产中的优势有哪些

    在uvitron,我们直接了解紫外光固化设备如何成为许多行业的关键技术,紫外光固化系统的好处很多,该技术对许多工业过程的效率、质量和可持续性产生了重大影响。
    的头像 发表于 07-21 11:42 319次阅读
    <b class='flag-5'>紫外光</b>固化系统在制造和生产中的优势有哪些

    紫外光刻复杂照明光学系统设计

    。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向,对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。
    的头像 发表于 07-17 11:02 636次阅读
    深<b class='flag-5'>紫外光刻</b>复杂照明光学系统设计

    虹科案例 | 用于低成本改造光刻设备的UV紫外光

        紫外光刻和曝光 是半导体行业生产各种高端芯片、微观电路结构的核心技术。在紫外光刻过程中,光源发射的紫外线通过掩模上的微小透镜或光栅,然后投射到光刻胶层上,形成所需的微细图案。
    的头像 发表于 07-05 10:11 1130次阅读
    虹科案例 | 用于低成本改造<b class='flag-5'>光刻</b>设备的UV<b class='flag-5'>紫外光</b>源

    紫外光刻随机效应的表现及产生原因

      极紫外光刻的制约因素   耗电量高极紫外线波长更短,但易被吸收,可利用率极低,需要光源提供足够大的功率。如ASML 3400B光刻机,250W的功率,每天耗电达到三万度。   生产效率仍不
    发表于 06-08 15:56 317次阅读
    极<b class='flag-5'>紫外光刻</b>随机效应的表现及产生原因

    2022年31.88亿,国产模拟 IC 头部企业持续扩充品类促发展

    全球各下游仍在消化库存,预计 2023 年全球 IC 市场规模将同比下滑 5.6%。作为全球 IC 制造和需求的重要地区,中国 IC 市场近年来逐年上涨,每年增速快于全球增速。 虽然中国是最大的模拟
    发表于 06-02 14:06

    MLCC龙头涨价;车厂砍单芯片;台积电28nm设备订单全部取消!

    详情请阅读本月行情资讯报道。 市场行情 【MLCC龙头官宣涨价!】 MLCC龙头三集团4发布二季度涨价函,表示Q2各月份套单实际交易价格全面上调,所有签约伙伴自4月份新提交的套单审
    发表于 05-10 10:54

    芯片行业,何时走出至暗时刻?

    实现5.09万亿韩元,减少34%,同比下降58%;净亏损约2.59万亿韩元,前一季度净亏损约3.72万亿韩元,连续
    发表于 05-06 18:31