0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

如何制造一台光刻机到底多困难

Wildesbeast 来源:21IC 作者:21IC 2020-10-17 11:32 次阅读

近段时间有关芯片以及光刻机话题非常热门,我们今天也来探讨一下光刻机的话题。

一台能生产先进工艺芯片的光刻机后面究竟需要多少供应链去支持?制造一台光刻机需要多少个国家的公司参与其中?看看制造一台光刻机究竟有多困难。

ASML上游供应商

全球最顶尖的光刻机生产商ASML(阿斯麦尔)生产一台5nm光刻机或许需要十余万零部件,重量达到了180吨,单单组装就需要一年。光刻机,集人类智慧于一身的产物。

不仅如此,生产一台光刻机需要供应链上不同的供应商配合,ASML的光刻机中超过90%的零件都是面向全球采购,整合了全世界最优质的零部件,那么ASML究竟有哪些上游供应商?

从一份2017年的产业报告可以看到,ASML的供应商主要集中在美国、日本、中国台湾和德国。

德国蔡司是光刻机光学系统的供应商,美国主要是光源以及自动化和精密器件的供应商,日本主要涉及精密器件和光学器件,中国台湾主要是光罩、光罩储存盒以及线缆等的供应。

单从上游的供应商已经涉及到非常多的高科技公司,如果需要复制一台ASML的光刻机必须要和这些供应商进行采购,要么自己研发这些零部件。

这两条路都不容易,如果自己去研发,一台光刻机十多万个零件一个一个去研发,这个周期太长。

利益捆绑

ASML是从荷兰飞利浦半导体部门独立出来的公司,这也是为什么ASML公司是在荷兰。

1984年,ASML正式脱离了飞利浦,脱离飞利浦后ASML的知名度一直不高,产品也是不温不火,而当时雄霸全球光刻机市场是日本的尼康和佳能两家功能。

2002年,台积电首次提出了“浸润式微影技术”,当时这个技术并没有得到佳能和尼康的重视,因为佳能和尼康当时正在向干式光刻机领域推进。

台积电只能找到ASML合作,2004年,ASML和台积电联合推出了全球首台浸润式微影光刻机,后来浸润式微影光刻机渐渐成为市场主流。

ASML凭借浸润式微影光刻机超越了佳能和尼康,2007年已经后一直是光刻机的市场的第一。

从这个市场,AMSL也看到了一个全新的商业模式,让下游的台积电、三星英特尔进行投资,让ASML和三大客户的利益捆绑起来。

台积电、三星和英特尔在2012年向ASML联合投资了40亿欧元,支持ASML的研发和技术更新,获得了三大客户支持后,ASML的研发和生产也获得了突飞猛进。

而台积电、三星和英特尔通过投资获得了ASML的股票,同时也获得了供货的优先权,实现双赢。

当然,三大客户之后也陆续将ASML的股票抛售,现在三大客户手上也只有少量的ASML的股票了。

一台光刻机不是靠一家公司就能制造出来

一台光刻机90%零件都是通过全球采购,当中涉及到4个国家十多家公司,而下游客户的利益与ASML捆绑。

台积电、三星和英特尔等等的客户又是ASML重要支持,所以一台光刻机不是靠一家公司就能制造出来,而是需要整合供应链以及下游客户,通过自身技术研发投入进行精准组装的产品。

光刻机这样的高科技产品,也是人类智慧的结晶,在全球化的今天,只有通过不断的合作,技术共享才能让科技进步。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    447

    文章

    47838

    浏览量

    409215
  • 英特尔
    +关注

    关注

    60

    文章

    9430

    浏览量

    168970
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1121

    浏览量

    46392
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    纳米压印光刻技术应用在即,能否掀起芯片制造革命?

    电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造,首先想到的自然是光刻机光刻技术。而众所周知,EUV光刻机产能有限而且成本高昂,业界一直都在探索不完全依赖于EUV
    的头像 发表于 03-09 00:15 3124次阅读

    光刻机的常见类型解析

    光刻机有很多种类型,但有时也很难用类型进行分类来区别设备,因为有些分类仅是在某一分类下的分类。
    发表于 04-10 15:02 247次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的常见类型解析

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
    发表于 03-21 11:31 738次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
    的头像 发表于 03-14 08:42 144次阅读
    ASML 首台新款 EUV <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    光刻机巨头ASML要搬离荷兰?

    据荷兰《电讯报》3月6日报道,因荷兰政府的反移民政策倾向,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划搬离荷兰。
    的头像 发表于 03-08 14:02 549次阅读

    英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商

    英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂,据报道它们的售价约为3.8亿美元
    的头像 发表于 03-06 14:49 211次阅读
    英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径<b class='flag-5'>光刻机</b>的厂商

    ASML光刻机技术的领航者,挑战与机遇并存

    ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色,其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
    发表于 03-05 11:26 210次阅读

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 753次阅读

    佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机

    Takeishi向英国《金融时报》表示,公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C,并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月,该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。 佳能表示,与利用光曝光电路图案的传统
    的头像 发表于 02-01 15:42 370次阅读
    佳能预计到2024年出货纳米压印<b class='flag-5'>光刻机</b>

    光刻机结构及IC制造工艺工作原理

    光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中,光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
    发表于 01-29 09:37 657次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>结构及IC<b class='flag-5'>制造</b>工艺工作原理

    狂加工一年!ASML把欠中国的600亿光刻机,成功交付了

    关于光刻机,大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗?来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性不断提升,人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂,不仅仅涉及到底层的架构设计,还需要通过
    的头像 发表于 01-17 17:56 355次阅读

    荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机

    在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后,美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示,出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
    的头像 发表于 01-03 15:22 645次阅读

    英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

    如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
    的头像 发表于 12-28 11:31 465次阅读

    芯片制造光刻工艺详细流程图

    光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的
    发表于 06-09 10:49 6708次阅读
    芯片<b class='flag-5'>制造</b>之<b class='flag-5'>光刻</b>工艺详细流程图

    一文讲透光刻胶及芯片制造关键技术

    在集成电路制造领域,如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”,光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
    发表于 05-13 11:28 1242次阅读
    一文讲透<b class='flag-5'>光刻</b>胶及芯片<b class='flag-5'>制造</b>关键技术