pcb电路板元件布局需要注意什么
2024-03-14 15:24:31
132 pcb等离子处理的5大作用
2024-03-05 10:24:4897 据了解，中机新材专注于国产高性能研磨抛光材料的研发与应用，能够为客户提供量身打造的工业磨抛解决方案，力求协助半导体产业彻底解决长期困扰的瓶颈问题。
2024-02-21 16:56:53406 pcb开路分析，这6个原因要注意
2024-02-21 16:43:39180 共读好书 陈婷 周伟洁 王涛 （无锡中微高科电子有限公司） 摘要： 研究了微波等离子工艺影响导电胶形貌的机理，进一步分析了等离子清洗次数对电路可靠性的影响。结果表明，对装片后的电路进行 1 次等离子
2024-02-20 13:37:16125 
等离子发动机原理： 等离子发动机是一种利用电磁力将离子加速并喷射出来产生推力的发动机。它主要包括等离子体产生器、离子加速器和喷嘴等组成。下面将详细介绍等离子发动机的工作原理。 生成等离子体：等离子
2024-02-14 18:18:003168 等离子显示器（Plasma Display Panel，简称PDP）是一种采用气体放电和发光材料发光的平板显示技术。与液晶显示器相比，等离子显示器拥有更高的对比度、更高的色彩饱和度和更快的响应速度
2024-02-03 10:00:17305 使用电容降压时都需要注意哪些？ 电容降压是一种常见且广泛应用的电路降压方式，它可以将高电压降低至设定的较低电压，并且具有稳定、简便、高效、可靠等优点。然而，在使用电容降压时，我们需要注意一些关键
2024-02-02 15:27:18131 电源滤波器在接线时有哪些需要注意的事项？|维爱普电源滤波器
2024-01-31 09:35:53168 一站式PCBA智造厂家今天为大家讲讲SMT贴片加工中需要注意哪些问题?SMT贴片加工中需要注意的几个标准性问题。随着现代科技的不断发展，SMT贴片加工技术也越来越广泛应用于各个领域。但是，在进行
2024-01-31 09:14:58133 光学3D表面轮廓仪通过纳米传动与扫描技术、白光干涉与高精度3D重建技术实现0.1nm级表面粗糙度测量，成为超精密抛光技术研究领域的重要工具和帮手。
我们热切期待参与需要利用光学3D表面轮廓仪对材料
2024-01-30 15:21:55267 
为实现碳化硅晶片的高效低损伤抛光，提高碳化硅抛光的成品率，降低加工成本，对现有的碳化硅化学机械抛光 技术进行了总结和研究。针对碳化硅典型的晶型结构及其微观晶格结构特点，简述了化学机械抛光技术对碳化硅
2024-01-24 09:16:36431 
Disco在切割、研磨和抛光机器方面拥有全球最大的市场份额。安装在机器中的切割轮高速旋转以处理形成电路的基板。该装置由钻石制成，磨损后需要更换。Disco 在广岛县和长野县拥有两家生产切割轮的工厂。
2024-01-14 13:59:03581 最后的抛光步骤是进行化学蚀刻和机械抛光的结合，这种形式的抛光称为化学机械抛光(CMP)。首先要做的事是，将晶圆片安装在旋转支架上并且要降低到一个垫面的高度，在然后沿着相反的方向旋转。垫料通常是由一种
2024-01-12 09:54:06358 
传统的手工抛光打磨存在劳动强度高、抛光效果不稳定、难以处理复杂形状、安全风险和无法满足高质量要求等痛点。因此，应用工业机器人进行自动化表面精加工的技术随之崛起。
2024-01-11 11:03:37196 表面的静电。 kesd高频离子风棒KE-36X 在使用离子风棒时需要注意以下几点： 1、离子风棒应接地使用，以确保人身及设备安全。 2、气流压力对离子风棒的平衡电压和消电速度有着直接的影响，需要根据现场情况把气流压力调节到合适
2024-01-09 14:04:11128 
在面粉加工项目中使用PLC（可编程逻辑控制器）时，有几个方面需要注意
2024-01-05 09:27:17340 特性进行更精确的分析氩离子抛光机可以实现平面抛光和截面研磨抛光这两种形式：半导体芯片氩离子截面切割抛光后效果图： 聚焦离子束FIB切割+SEM分析聚焦离子束FIB测试原理：聚焦离子束(FIB)系统
2024-01-02 17:08:51
铝制品盐雾试验箱（盐雾试验机）：产品用途：盐雾腐蚀箱是针对各种材质之表面处理，包含五金电镀，电子产品，电子零部件，汽车零部件，摩托车，五金洁具，螺丝，弹簧，磁性材料，有机及无机皮膜，阳极处理，防锈等
2024-01-02 15:18:43
请问ADXL362的采集有什么需要注意的吗？我用430单片机采集，ADXL362一直没有输出。初学者，附程序在下，请各位帮忙，谢谢！
2024-01-01 07:21:09
CMP技术指的是在化学和机械的协同作用下，使得待抛光原料表面达到指定平面度的过程。化学药水与原料接触后，生成易于抛光的软化层，随后利用抛光垫以及研磨颗粒进行物理机械抛光，以清除软化层。
2023-12-28 15:13:06409 电子发烧友网站提供《电感选型需要注意哪些参数.docx》资料免费下载
2023-12-28 09:25:09
0 12月27日消息，根据韩媒报道，SK海力士近日研发出了可重复使用的 CMP抛光垫技术，不仅可以降低成本，而且可以增强 ESG（环境、社会、治理）管理。
2023-12-27 13:48:50231 
需要指出的是，CMP 技术通过化学与机械作用使得待抛光材料表面达到所需平滑程度。其中，抛光液中化学物质与材料表面发生化学反应，生成易于抛光的软化层。抛光垫和研磨颗粒则负责物理机械抛光，清除这一软化层。
2023-12-27 10:58:31335 
01、重点和难点 等离子体通常被认为是物质的第四态，除了固体、液体和气体之外的状态。等离子体是一种高能量状态的物质，其中原子或分子中的电子被从它们的原子核中解离，并且在整个系统中自由移动。这种状态
2023-12-26 08:26:29209 
哪位大哥指点一下，电动阀选型都要注意哪些参数
2023-12-26 06:10:56
磨削和研磨等磨料处理是生产半导体芯片的必要方式，然而研磨会导致芯片表面的完整性变差。因此，抛光的一致性、均匀性和表面粗糙度对生产芯片来说是十分重要的。
2023-12-21 09:44:26491 
01、重点和难点 在硅材料加工和研究领域，皮秒脉冲激光激发的等离子体对于提高加工技术、开发创新设备以及加深对材料物理特性的理解都有重大研究意义。这种影响尤其体现在硅材料表面等离子体形态变化的研究
2023-12-19 10:53:11236 
设计软板pcb需要注意哪些事项
2023-12-19 10:06:44235 有没有官方配置AD9923A配置icx274的寄存器的值？此外用FPGA配置AD9923A有什么要注意的？？？
2023-12-19 06:40:33
众所周知，化合物半导体中不同的原子比对材料的蚀刻特性有很大的影响。为了对蚀刻速率和表面形态的精确控制，通过使用低至25nm的薄器件阻挡层的，从而增加了制造的复杂性。本研究对比了三氯化硼与氯气的偏置功率，以及气体比对等离子体腐蚀高铝含量AlGaN与AlN在蚀刻速率、选择性和表面形貌方面的影响。
2023-12-15 14:28:30227 
基于GaN的高电子迁移率，晶体管，凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度，应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言，GaN的相关材料，如AlGaN，凭借其物理和化学稳定性，为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24294 
非变频电机配变频器，要注意哪些东西呢？
另外环境温度与机使用有什么关系呢？
电机温升与绝缘有什么样的关系呢？？
2023-12-11 07:44:34
多片AD9680如何同步？需要注意什么问题？
2023-12-08 08:02:57
选择使用贴片保险丝时要注意的5个细节
2023-12-05 15:48:53301 光捕获技术是提高太阳能电池光吸收率的有效方法之一，它可以减少材料厚度，从而降低成本。近年来，表面等离子体（SP）在这一领域取得了长足的进步。利用表面等离子体的光散射和耦合效应，可以大大提高太阳能电池的效率。
2023-12-05 10:52:27497 
CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化学机械抛光”，是为了克服化学抛光和机械抛光的缺点
2023-12-05 09:35:19416 
高压放大器在等离子体实验中有多种重要应用。等离子体是一种带电粒子与电中性粒子混合的物质，其具有多种独特的物理性质，因此在许多领域具有广泛的应用，例如聚变能源、等离子体医学、材料加工等。下面安泰电子将介绍高压放大器在等离子体实验中的应用。
2023-11-27 17:40:00189 
一种使用等离子体激元的新型成像技术能够以增强的灵敏度观察纳米颗粒。休斯顿大学纳米生物光子学实验室的石伟川教授和他的同事正在研究纳米材料和设备在生物医学、能源和环境方面的应用。该小组利用等离子
2023-11-27 06:35:23121 化学机械抛光（CMP）是目前最主流的晶圆抛光技术，抛光过程中，晶圆厂会根据每一步晶圆芯片平坦度的加工要求，选择符合去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）等指标要求的抛光液，来提高抛光效率和产品良率。
2023-11-16 16:16:35212 电子发烧友网站提供《选购移动电源要注意什么.pdf》资料免费下载
2023-11-14 09:15:430 近年来，铜(Cu)作为互连材料越来越受欢迎，因为它具有低电阻率、不会形成小丘以及对电迁移(EM)故障的高抵抗力。传统上，化学机械抛光(CMP)方法用于制备铜细线。除了复杂的工艺步骤之外，该方法的一个显著缺点是需要许多对环境不友好的化学品，例如表面活性剂和强氧化剂。
2023-11-08 09:46:21188 
做低功耗的时候，单片机程序有啥要注意的
2023-10-31 08:18:49
电主轴生产时需要注意哪几点问题？|深圳恒兴隆机电
2023-10-30 10:24:15239 
倒闸操作是电气运行人员的重要工作。为了确保操作过程的安全，在倒闸操作过程中必须严格遵守《运行规程》和《安规》，特别是一些易被忽视的细节更要注意。
2023-10-24 12:36:02635 科瑞特DMC600系列是一款多功能的运动控制系统，主要应用于焊接、抛光、机械手等设备。实现多轴联动，多种插补，如：直线、圆弧、抛物线、螺旋线插补等。下面以3轴抛光示教系统为例，举例工件加工的编辑方法
2023-10-23 08:07:55379 
众所周知，倾斜光纤光栅可以激发众多的包层模式，并且对光纤表面周围环境敏感。当光纤包层模式与表面等离子共振相位匹配时，倾斜光纤光栅可以在金表面激发倏逝表面等离子体共振波。
2023-10-20 15:48:08330 
在进行51单片机的学习时要注意哪些问题
2023-10-19 07:19:16
等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分，随着微电子技术的发展，等离子体清洗的优势越来越明显。文章介绍了等离子体清洗的特点和应用，讨论了它的清洗原理和优化设计方法。最后分析了等离子体清洗工艺的关键技术及解决方法。
2023-10-18 17:42:36447 
通讯技术需要注意哪些协议，在移植时怎么注意
2023-10-16 08:19:22
在选择开发板时，要注意什么？一般要考虑哪些因素
2023-10-16 07:20:44
在使用和访问数组的时候需要注意些什么地方
2023-10-10 07:41:38
基于电池供电的等离子打火机。制作新奇打印方式的等离子打印机！包含相关图文说明、代码、线路图
2023-09-22 07:54:27
SD卡SPI方式稳定么，有什么要注意的
2023-09-21 08:11:16
为了提高等离子消融手术系统的频率输出,提出一种新型的全桥拓扑结构。应用LCR谐振原理,对传统的全桥逆变拓扑结构进行改进,当谐振电路工作在恰当的区域可以实现开关管的零电压的开通和近似零电压的关断,能
2023-09-20 07:38:22
纳米级[1] 。传统的平面化技术如基于淀积技术的选择淀积、溅射玻璃 SOG、低压 CVD、等离子体增强 CVD、偏压溅射和属于结构的溅射后回腐蚀、热回流、淀积 —腐蚀 —淀积等 , 这些技术在 IC
2023-09-19 07:23:03
背景 Adi Salomon 教授的实验室主要致力于了解纳米级分子与光的相互作用，并构建利用光传感分子的设备。该小组设计并制造了金属纳米结构，并利用它们通过与表面等离子体激元的相互作用来影响纳米级
2023-09-19 06:28:29223 
得益于半导体业界的繁荣，世界cmp抛光液市场正在经历明显的增长。cmp抛光液是半导体制造中的关键成分，在实现集成电路制造的精度和效率方面发挥了关键作用。随着技术的发展，半导体的格局不断重新形成，对cmp抛光液的需求从来没有这么高过。
2023-09-14 10:28:36663 光学加工是一个非常复杂的过程。难以通过单一加工方法加工满足各种加工质量指标要求的光学元件。平面抛光机的基础是加工材料的微去除。实现这种微去除的方法包括研磨加工、微粉颗粒抛光和纳米材料抛光。根据
2023-08-28 08:08:59355 IOBB类型的IO需要注意什么
2023-08-11 09:41:34
化学机械抛光（CMP）是晶圆制造的关键步骤，其作用在于减少晶圆表面的不平整，而抛光液、抛光垫是CMP技术的关键耗材，价值量较高，分别占CMP耗材49%和33%的价值量，其品质直接影响着抛光效果，因而
2023-08-02 10:59:473404 
20世纪60年代以前，半导体基片抛光还大都沿用机械抛光，得到的镜面表面损伤是极其严重的。1965年Walsh和Herzog提出SiO2溶胶和凝胶抛光后，以SiO2浆料为代表的化学机械抛光工艺就逐渐代替了以上旧方法。
2023-08-02 10:48:407522 
电化学抛光(EP)通过选择性地去除工件表面区域中的特定零件（如粗糙度和氧化物）形成镜面状表面。
2023-07-18 17:24:43550 
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统, 实现小规模试验中 2-4 英寸硅片等半导体衬底表面的清洁, 确保样品表面清洁无污染, 满足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制备.
2023-07-07 14:55:44439 
安全光幕怎么选型？要注意什么？
2023-07-03 10:46:01311 
使用安全光幕有哪些需要注意的吗？
2023-06-29 09:38:57372 
根据制造工艺分类，半导体硅片主要可以分为抛光片、外延片与以SOI硅片为代表的高端硅基材料。单晶硅锭经过切割、研磨和抛光处理后得到抛光片。抛光片经过外延生长形成外延片，抛光片经过氧化、键合或离子注入等工艺处理后形成SOI硅片。
2023-06-27 14:34:383725 
随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm，铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻，我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压，但大多数铝蚀刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
近日，Nano Letters（《纳米快报》）在线发表武汉大学高等研究院梁乐课题组和约翰霍普金斯大学Ishan Barman课题组关于高效构建等离子增强NV色心的纳米器件研究进展，他们利用自下向上的DNA自组装方法开发了一种混合型独立式等离子体纳米金刚石
2023-06-26 17:04:52396 
抛光机构底部后侧设置有粉尘吸收装置，可将加工抛光过程中形成的粉尘吸收至排风管中排出，防止大量粉尘直接飘散对加工人员身体健康产生损害。罩壳底设置有粉尘吸收软管，上端口连接至出风管上，中部设置有固定
2023-06-21 14:16:58233 
学习过单片机了，51的，avr的，想请教大家，往不同的mcu上移植ucos ii需要注意些什么呢？
2023-06-19 14:20:22
电抛光smt钢网是什么工艺，它与其他smt钢网相比有哪些优点呢，今天我们为大家做深入的讲解，希望帮助大家在选购适合自己工厂真正需要的smt钢网。
2023-06-19 10:17:44568 购买高低温试验箱需要注意哪些
2023-06-18 10:38:46372 
在现代工业中，表面加工是至关重要的一环。为了达到所需的表面粗糙度、光洁度和平整度等要求，往往需要进行抛光处理。
2023-06-08 11:13:552652 
在化学腐蚀点处的浓度越高，腐蚀速率越快。在抛光过程中抛光液持续流动，我们假设在腐蚀点处的浓度可以保持初始时的浓度，腐蚀率以最快的速度发生，则抛光液不同的PH值对应一个腐蚀率，由此可见，去除速率与PH值有关，PH越高，速率越快。
2023-06-02 15:24:06344 
使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验，探究了滴液速率、抛光头转 速、抛光压力、抛光时长及晶片吸附方式等工艺参数对晶片表面粗糙度的影响，并对工艺参数进行了优化，最终 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子级光滑碳化硅晶片。
2023-05-31 10:30:062212 
速科德Kasite打磨抛光主轴主要对高精度零件的加工处理，如汽车零部件、光纤接插件陶瓷加工、义齿加工雕铣等行业。这些高精度零件如果在抛光打磨过程中稍有误差可能就会导致零件的报废，造成较大的经济损失，因此一款高精度高性能打磨抛光主轴就显得尤为重要。
2023-05-29 17:39:48743 
金属银镀PTFE涂层等离子处理是指在金属镀银进行PTFE涂层，并在PTFE涂层上进行等离子处理的一种表面处理技术。该技术可以使金属表面具有一定的耐腐蚀性、耐磨性和耐高温性，同时还可以提高金属表面的润滑性和粘附性。
2023-05-25 15:54:14513 
在天体物理学中，有许多天体都具有强大的磁场，例如恒星、行星和黑洞。这些天体周围通常有大量的等离子体，例如恒星风、行星际介质和吸积盘。
2023-05-17 09:24:16452 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准射频等离子体源 RF2100ICP Plasma Source上海伯东代理美国 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
锂电池试验箱选择时需要注意哪些？
2023-05-10 14:53:02438 
芯片等离子活化技术是一种物理处理技术，通过改变材料表面的化学性质、物理性质和机械性能，实现对材料的表面处理和改性。芯片等离子活化技术具有处理效率高、处理精度高、无需添加剂、处理后材料性能稳定和应用范围广泛等优势。
2023-05-06 10:44:50651 
通过金徕等离子体处理，可以提高金属表面的活性，改善金属表面的结合力、增强涂层附着力等性质，使得金属制品的质量和性能得到明显的改善和提升。此外，等离子体处理还可以改善金属表面的光洁度，使得金属表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23525 
一、自动抛光机的抛光效果因素自动抛光机的抛光效果取决于多个因素，除了自动抛光机本身的质量以外，还包括使用工艺、选用什么样的抛光辅料，要抛光物件材质，操作者的经验技术等，在条件都合适的情况下，自动
2023-05-05 09:57:03535 选择压敏电阻时需要注意的几个关键参数
2023-04-20 15:09:461055 书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：III-V族化学-机械抛光工艺开发 编号：JFKJ-21-214 作者：炬丰科技 摘要 III-V材料与绝缘子上硅平台的混合集成是一种很有前景的技术
2023-04-18 10:05:00151 
PCB阻抗控制打样要注意哪些问题？
2023-04-14 15:55:11
半导体材料和半导体器件在世界电子工业发展扮演的角色我们前几天已经聊过了。而往往身为使用者的我们都不太会去关注它成品之前的过程，接下来我们就聊聊其工艺流程。今天我们来聊聊如何从原材料到抛光晶片的那些事儿。
2023-04-14 14:37:502034 
地埋灯的安装需要注意哪些事项? 地埋灯也叫暗灯。LED地埋灯LED是光源，由LED恒流驱动，是一种嵌入地面的照明装饰灯。地埋灯照亮地面和地面植被，美化景观，保障行人安全。那么大家知道地埋灯的安装需要注意
2023-04-14 11:32:13965 抛光工作在电镀、涂装、阳极氧化等表面处理过程中发挥重要作用。早期的抛光工作由工人手动操作，通过经验和观察进行打磨抛光。此种作业方式既损害环境和身体健康，也具备较大的安全风险和人力成本，逐渐被自动抛光
2023-04-14 10:21:59337 
很早以前看过这样一个报道：德国、日本等国家的科学家耗时5年时间，花了近千万元打造了一个高纯度的硅-28材料制成的圆球，这个1kg纯硅球要求超精密加工研磨抛光、精密测量（球面度、粗糙度和质量），可谓
2023-04-13 14:24:341683 螺杆支撑座在使用中需要注意的事项
2023-04-10 17:59:54478 
大家目前对于等离子光谱仪的普遍使用早已见怪不怪了，这种相对来说较为细致的设备是一定要尽早的实施维修保养的，否则很容易就没办法运用或者机械设备产生情况，下面大家一起来看看等离子光谱仪需要进行哪种
2023-04-07 07:37:42124 
导读： 屏(也叫面板)，是等离子电视最重要的部件，占整机成本的六、七成。屏的好坏，直接决定着平板电视的优劣。目前世界上只有韩国LG、三星和日本的松下等少数厂商具备等离子屏的生产能力，其中LG的A3生产线被公认为最先进的等离子生产线。很大程度上，等离子电视的选择就是等离子屏的选择。
2023-03-30 15:56:10452
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