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电子发烧友网>今日头条>纳米图形衬底对AlGaN基深紫外LED中光子输运的影响

纳米图形衬底对AlGaN基深紫外LED中光子输运的影响

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2025-03-19 11:00:022673

氮化钛在芯片制造的重要作用

)、抗腐蚀性和热稳定性,使其成为芯片制造的关键材料。此外,TiN在紫外深紫外波段(UV-DUV)具有高吸收系数(约10^5 cm⁻¹),远高于SiO₂或Al₂O₃等材料,这一特性使其在光刻工艺中发挥重要作用。
2025-03-18 16:14:432327

JCMSuite应用——微透镜(Micro lens)仿真

该示例是对 Gschrey 等人的单光子源设计[1]的改编。 该几何结构由多层衬底构成,衬底为布拉格反射镜,在衬底顶部有一个微透镜,量子点位于顶层内: 由布拉格反射镜组成的微透镜几何结构示意图
2025-03-13 08:54:56

集成电路和光子集成技术的发展历程

本文介绍了集成电路和光子集成技术的发展历程,并详细介绍了铌酸锂光子集成技术和硅和铌酸锂复合薄膜技术。
2025-03-12 15:21:241689

新成果展示:发光-探测双功能AlGaN集成光电子器件模型的开发与应用

开发了 发光-探测双功能物理模型 ,同时提出并设计了具有非对称多量子阱结构的AlGaN发光-探测双功能集成光电子器件:在发射区采用极化自屏蔽的有源区结构,在探测区采用常规有源区结构。       图1展示了LED与PD原位集成光电子器件结构
2025-03-03 11:45:22713

上海光机所在高能量深紫外激光研究方面取得进展

Letters。 高能深紫外激光具有脉冲能量高、波长短的优势,不仅能够在材料中产生强烈的非线性展宽、多光子电离、光化学反应等丰富物理机制,也是高能密度物理中等离子体诊断的理想光
2025-03-03 09:08:54644

EastWave应用:自动计算光子晶体透反率

本案例使用“自动计算透反率模式”研究光子晶体的透反率,将建立简单二维光子晶体结构以说明透反率的计算方法。 模型示意图: 预览网格划分效果如下: 观察到下面的实时场: 记录得到数据如下: 双击
2025-02-28 08:46:25

纳米铜烧结为何完胜纳米银烧结?

在半导体功率模块封装领域,互连技术一直是影响模块性能、可靠性和成本的关键因素。近年来,随着纳米技术的快速发展,纳米银烧结和纳米铜烧结技术作为两种新兴的互连技术,备受业界关注。然而,在众多应用场景
2025-02-24 11:17:061760

Lightmatter借助Cadence工具构建光子芯片

生成式 AI 日益普及,托管和训练这些算法所消耗的能源也随之增加。光子技术以光子为主要计算源,基于光子的系统具有低功耗的优势,有助减少碳排放,改善地球生态环境,提升居民生活质量,更适用于最先进的 AI 和 HPC 工作负载。
2025-02-24 10:37:181103

保密通信之紫外光无线通信!

,为作战行动提供有力支持。在智能交通领域,紫外光通信也有着巨大的潜力。未来的智能交通系统,车辆之间可以通过紫外光进行快速、准确的信息交互。比如,在交叉路口,车辆
2025-02-21 13:32:511000

Moku实现单光子对符合计数实验指南

前言光子对的符合计数是量子光学和量子信息科学的一项重要技术,它检测通过量子过程(通常是参量下转换)同时产生的光子对并对其进行计数。在诸如量子密码学、量子传输和量子计算的实验和应用,这项技术
2025-02-20 10:29:531130

紫外老化试验箱:模拟阳光,预见未来

紫外老化试验箱是现代工业不可或缺的环境测试设备,它通过模拟阳光紫外辐射,对材料进行加速老化试验。这种设备能够精确控制紫外线强度、温度、湿度等参数,在短时间内模拟材料在户外长期暴露的老化效果
2025-02-19 09:44:06611

365nm紫外点光源固化灯的特点、优势与应用

在现代制造业紫外光固化技术已成为一种高效、环保的固化方式,广泛应用于涂料、油墨、胶水等多个领域。紫外点光源固化灯,尤其是365nm波长的紫外灯,因其独特的光学性能和应用优势,成为高精度固化过程
2025-02-13 15:44:392484

纳米压印技术:开创下一代光刻的新篇章

光刻技术对芯片制造至关重要,但传统紫外光刻受衍射限制,摩尔定律面临挑战。为突破瓶颈,下一代光刻(NGL)技术应运而生。本文将介绍纳米压印技术(NIL)的原理、发展、应用及设备,并探讨其在半导体制造
2025-02-13 10:03:503709

日本国立材料所成功研发金刚石DUV探测器

在超宽带隙半导体领域,研究者们正致力于开发具有超高增益的深紫外(DUV)光电探测器,以期达到与光电倍增管(PMT)相媲美的性能。这些探测器对于200-280纳米波长范围内的日盲检测和通信至关重要
2025-02-11 09:55:47976

如何在光子利用电子生态系统

本文介绍了如何在光子利用电子生态系统。 这一目标要求光子学制造利用现有的电子制造工艺和生态系统。光子学必须采用无晶圆厂模型、可以在焊接步骤幸存下来的芯片以及电子封装和组装方法。   无晶圆厂
2025-02-10 10:24:231111

300 nm 以下激光驱动光源的操作:臭氧缓解

介绍 深紫外线源,例如 Energetiq 的 LDLS™,会产生臭氧,这会对与 LDLS 连接的仪器和实验的性能产生不利影响。仪器光路的臭氧会吸收不同量的紫外光,具体取决于臭氧浓度。本应用说明
2025-02-07 06:36:111064

紫外线辐射传感器:为环保监测注入 “智慧” 力量

线信号转化为电信号。紫外线照射光敏元件,使电子吸收光子能量产生电子 - 空穴对,在电场作用下定向移动形成电流,通过测量电流确定紫外线辐射强度。常见材料有 GaN 和 ZnS,其中 ZnS 材料传感器精度比 GaN 系提升近 10^5 倍 。按对不同波
2025-02-06 15:57:39958

碳化硅衬底的生产过程

碳化硅(SiC)作为一种宽禁带半导体材料,因其出色的物理和化学特性,如高硬度、高熔点、高热导率和化学稳定性,在半导体产业得到了广泛的应用。SiC衬底是制造高性能SiC器件的关键材料,其生产过程复杂
2025-02-03 14:21:001979

碳化硅衬底的特氟龙夹具相比其他吸附方案,对于测量碳化硅衬底 BOW/WARP 的影响

方案会对测量结果产生不同程度的影响。 二、常见吸附方案概述 在碳化硅衬底测量,常见的吸附方案包括真空吸附、静电吸附等。真空吸附通过产生负压将衬底固定,操作相对简
2025-01-23 10:30:54286

纳米管在EUV光刻效率的作用

数值孔径 EUV 光刻的微型化挑战 晶体管不断小型化,缩小至 3 纳米及以下,这需要完美的执行和制造。在整个 21 世纪,这种令人难以置信的缩小趋势(从 90 纳米到 7 纳米及更小)开创了技术进步的新时代。 在过去十年,我们见证了将50
2025-01-22 14:06:531153

Jcmsuite应用:光场遇到纳米球的散射与吸收

、sources.jcmt、materials.jcmt、project.jcmpt)。 请注意,在这种情况下,JCMsuite是在Daemon模式下使用的,它允许同时执行各种波长的波长扫描。 有了适当的硬件和许可证,所有波长响应可以同时计算,允许快速计算整个参数扫描。 衬底顶部纳米球基于波长的吸收和散射
2025-01-22 08:57:00

不同的氮化镓衬底的吸附方案,对测量氮化镓衬底 BOW/WARP 的影响

在当今高速发展的半导体产业浪潮,氮化镓(GaN)衬底宛如一颗耀眼的新星,凭借其卓越的电学与光学性能,在众多高端芯片制造领域,尤其是光电器件、功率器件等方向,开拓出广阔的应用天地。然而,要想充分发挥
2025-01-17 09:27:36420

氮化镓衬底的环吸方案相比其他吸附方案,对于测量氮化镓衬底 BOW/WARP 的影响

在半导体领域的璀璨星河中,氮化镓(GaN)衬底正凭借其优异的性能,如高电子迁移率、宽禁带等特性,在光电器件、功率器件等诸多应用场景崭露头角,成为推动行业发展的关键力量。而对于氮化镓衬底而言,其
2025-01-16 14:33:34366

不同的碳化硅衬底的吸附方案,对测量碳化硅衬底 BOW/WARP 的影响

在当今蓬勃发展的半导体产业,碳化硅(SiC)衬底作为关键基础材料,正引领着高性能芯片制造迈向新的台阶。对于碳化硅衬底而言,其 BOW(弯曲度)和 WARP(翘曲度)参数犹如精密天平上的砝码,细微
2025-01-14 10:23:10400

碳化硅衬底的环吸方案相比其他吸附方案,对于测量碳化硅衬底 BOW/WARP 的影响

在半导体领域,随着碳化硅(SiC)材料因其卓越的电学性能、高热导率等优势逐渐崭露头角,成为新一代功率器件、射频器件等制造的热门衬底选择,对碳化硅衬底质量的精准把控愈发关键。其中,碳化硅衬底的 BOW
2025-01-13 14:36:13394

工业级PERC、SHJ与TOPCon太阳能电池的紫外线UVID稳定性评估研究

现代电池架构PERC、TOPCon和SHJ因依赖近乎完美的表面钝化来提高效率,可能对紫外线诱导的降解(UVID)更敏感。UVID由能量大于3.4eV的高能光子引起,高能光子可通过多种机制降解
2025-01-10 09:03:312066

纳米压印光刻技术旨在与极紫外光刻(EUV)竞争

来源:John Boyd IEEE电气电子工程师学会 9月,佳能交付了一种技术的首个商业版本,该技术有朝一日可能颠覆最先进硅芯片的制造方式。这种技术被称为纳米压印光刻技术(NIL
2025-01-09 11:31:181280

组成光刻机的各个分系统介绍

纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统   光源系统是光刻机的心脏,负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源,但随着技术的进步,目前多采用深紫外(DUV)或极紫外(EUV)光源,
2025-01-07 10:02:304530

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