全球最大的半导体制造设备供应商荷兰ASML今天披露说，他们将按计划在2015年提供450毫米晶圆制造设备的原型，Intel、三星电子、台积电等预计将在2018年实现450毫米晶圆的商业性量产，与此同时，极紫外（EUV）光刻设备也进展顺利，将在今年交付两套新的系统。
2013-04-21 09:42:14
1660 紫外发光二极管是指可发出波长约400nm的近紫外光的发光二极管（led）。
2024-02-26 16:03:2925342 
数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。 常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息
2012-01-12 10:51:59
，之后经过物镜投射到曝光台，这里放的就是8寸或者12英寸晶圆，上面涂抹了光刻胶，具有光敏感性，紫外光就会在晶圆上蚀刻出电路。 而激光器负责光源产生，而光源对制程工艺是决定性影响的，随着半导体工业节点
2020-07-07 14:22:55
SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比
2018-07-12 11:57:08
`紫外线，简称UV，它对人们既有有利的方面，又有有害的方面，优点是杀菌促进骨骼发育，但是长时间接触会使皮肤老化产生斑点皮肤炎乃至皮肤癌、促进白内障。 紫外线照射到织物上，一部分被吸收，一部分被反射
2017-11-29 17:02:53
紫外光耐气候试验箱主要是用于橡胶等材料的老化试验，采用了阳光中的紫外线辐射，来对试验材料进行老化试验，结合模拟温度、湿度、凝露模拟气候条件，对试验材料进行综合性老化试验。一般情况下，发生老化的试验
2017-09-07 15:07:23
自然界的阳光和湿气对材料的破坏，每年造成难以估计的经济损失，紫外光耐气候试验箱可以再现阳光、雨水和露水所产生的破坏。设备通过将待测材料曝晒放在经过控制的阳光和湿气的交互循环中，同时提高温度的方式
2018-03-01 10:47:14
`有时自己做一些PCB，闲来无事，利用紫外光LED和一个网购定时模块制作了一个曝光箱，还没进行PCB实操，放一个变色镜在上面，十几秒就变色，上图`
2018-01-30 14:47:54
单片机解密IC芯片破解用紫外光有问题会出现呢？在单片机解密IC芯片破解的过程中，有时要用到紫外光技术。但使用不当会容易产生问题。深圳爱体半导体有限公司为你简单罗列一些紫外光技术用于解密不同型
2017-03-20 17:23:00
本文介绍了一种基于AMBE-2000的紫外光语音系统设计。实验证明，紫外光语音通信系统具有低窃听率、低位辨率、全方位、高抗干扰能力、音质优、功耗低等特点。
2021-03-31 06:04:34
原文来源：如何对紫外光老化试验箱的维护保养工作小编：林频仪器 为了使紫外光老化试验箱能过能好的工作，所以我们平时一定要对其进行定期的维护和保养，这样才能让它一直处于良好的工作状态，那我们在平时
2016-09-05 15:05:57
【作者】：吕鹏;刘春芳;张潮海;赵永蓬;王骐;贾兴;【来源】：《强激光与粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍缩放电等离子体极紫外光源系统中的主脉冲电源,给出了主电路拓扑结构,重点介绍了三级磁
2010-04-22 11:41:29
紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境
2019-06-18 08:00:06
稳定，并且能更好的再现试验结果。采用荧光UV灯模拟阳光对物理性质的影响，例如亮度下降、龟裂、剥落等方面，是最好的方法。有几种不同的UV灯可供选择。大多数的这些UV灯主要产生紫外光，而不是可见光和红外光
2017-10-11 15:40:19
紫外光由于具有口盲特点而使其在通信方面有着特殊的的必要性及优越性，紫外光的调制与接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要区别点；介绍了，紫外光通信系统的构成原
2009-07-16 10:02:36
34 紫外光通信系统由于其特殊的波段范围和特殊的运用方向而受到了广泛的重视。文章主要介绍了紫外光通信的原理，以及G.729编解码标准算法在DM6437 DSP开发板上实现的软硬件设计
2009-12-19 16:31:4610 描述了Ｚ箍缩放电等离子体极紫外光源系统中的主脉冲电源，给出了主电路拓扑结构，重点介绍了三级磁脉冲压缩网络，给出了关键参数的设计计算，并且介绍了新颖的末级磁脉冲
2010-03-05 14:13:3829 紫外光通信系统由于其特殊的波段范围和特殊的运用方向而受到了广泛的重视。文章主要介绍了紫外光通信的原理,以及G.729编解码标准算法在DM6437 DSP开发板上实现的软硬件设计方法,
2010-07-17 17:41:149 新式半导体光刻技术中，极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一，不过其实现难度也相当高，从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年， 仍然未能投入实用。极紫外光
2010-06-17 17:27:381823 介绍了紫外 光通信 特点和信道模型，以LED为光源、光电倍增管为光接收器设计无线紫外光数字通信系统方案，研制了无线紫外光通信设备样机，在不同条件下进行实验。实验结果表明
2011-06-08 15:01:1851 介绍了国内外紫外光通信系统几种紫外光源的发展,并从光谱特点、功率、效率等方面分析了其在紫外光通信中的应用特点。指出了紫外发光二极管(UVED)决定了未来紫外光通信高速、小型
2011-10-17 17:02:1048 最新半导体与电子元器件全球授权分销商贸泽电子（Mouser Electronics） ，即日起开始分销Vishay Intertechnology的VEML6070紫外光传感器。VEML6070为一款先进的CMOS紫外（UV）光传感器，具备I2C协议接口和高动态检测精度。
2015-07-08 15:18:432512 针对紫外光通信做了相应研究，希望广大研究爱好者能够有所帮助
2016-03-11 10:33:095 尽管所花的时间与成本几乎比所有人预期得要多，半导体产业终于还是快要盼到极紫外光(extreme ultraviolet，EUV)微影技术的大量生产──在近日于美国旧金山举行的2017年度
2018-06-10 01:39:003719 前些天，新闻曝光的中芯国际花了1．2亿美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于生产7nm工艺芯片，而根据最新消息称，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，国产SSD固态硬盘将迎来重大突破。
2018-06-29 11:24:0010089 纳米电子与数字技术研发创新中心 IMEC 与美国楷登电子( Cadence) 公司联合宣布，得益于双方的长期深入合作，业界首款 3nm 测试芯片成功流片。该项目采用极紫外光刻(EUV)技术。
2018-03-19 15:08:308957 光刻胶是用来制作图案的光敏聚合物，它是造成随机性效应的罪魁祸首之一。根据定义，随机效应描述了具有光量子随机变化的事件。它们是不可预测的，没有稳定的模式。
2018-03-27 08:09:0011855 
随机变化需要新方法、新工具，以及不同公司之间的合作。 极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已久的技术带来了更多的挑战
2018-03-31 11:52:006365 台积电为防堵强敌三星在七纳米导入极紫外光（EUV）及后段先进封装，抢食苹果新一代处理器订单，已加速在七纳米强化版导入极紫外光时程。供应链透露，台积电可望年底建构七纳米强化版试产线，进度追平或超前三星，让三星无夺苹机会。
2018-04-08 11:22:001157 紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境。
2018-07-17 15:34:2814809 荷兰半导体设备大厂ASML日前表示，该公司2018年将出货20套极紫外光(EUV)光刻机，该数量预期在2019年将增加到30套以上。
2018-07-27 18:34:453934 今年4月开始，台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产，苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造，但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)技术。
2018-10-17 15:44:565426 1、起始电压：在一定强度的紫外光照射下，紫外光电管开始导通所需要施加的最低电压。2、灵敏度（计数率）：在规定的工作电压和一定强度的紫外光照射下，光电管每秒钟导通的次数。 （三段测试电压）
2018-11-30 08:00:002 极紫外光刻时代的大幕已拉开……
2019-02-27 13:41:11881 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡，也领先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413960 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡。
2019-05-28 16:18:244210 工采网从国外进口的紫外光电二极管 - SG01D-5LENS，SiC具有独特的特性，能承受高强度的辐射，对可见光几乎不敏感，产生的暗电流低，响应速度快和噪音低。这些特性使SiC成为可见盲区半导体紫外
2019-07-18 11:34:314025 
紫外发光二极管是指可发出波长约400nm的近紫外光的发光二极管（LED）。紫外光通常是用作识别钞票是否伪造，一些紫外发光二极管照明物在夜总会和派对上很受欢迎，它们被用来使荧光物质发出更亮的光。
2020-01-15 10:52:523705 
三星宣布，位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺，这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
2020-02-21 16:19:052868 据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 10:50:592349 据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 14:39:545816 据国外媒体报道，半导体行业光刻系统供应商ASML（阿斯麦）去年交付了26台极紫外光刻机（EUV），调查公司Omdia表示，其中约一半面向大客户台积电。ASML此前公布，2019年，共向客户交付了26
2020-04-09 11:20:062845 对于芯片制造厂商来说，光刻机的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工艺已经提升至5nm和3nm之后，极紫外光刻机就显得更为重要。而ASML作为全球唯一有能力制造极紫外光刻机的厂商，他的一举一动，牵动着所有相关产业上下游厂商的心。
2020-04-15 09:27:562282 对于芯片制造厂商来说，光刻机的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工艺已经提升至5nm和3nm之后，极紫外光刻机就显得更为重要。而ASML作为全球唯一有能力制造极紫外光刻机的厂商，他的一举一动，牵动着所有相关产业上下游厂商的心。
2020-04-15 15:44:364637 4月17日消息，据国外媒体报道，在智能手机等高端设备芯片的工艺提升到5nm之后，能生产5nm芯片的极紫外光刻机就显得异常重要，而作为目前全球唯一能生产极紫外光刻机的厂商，阿斯麦的供应量直接决定了各大芯片制造商5nm芯片的产能。
2020-04-18 09:09:433946 顶级光刻机有多难搞？ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！
2020-07-02 09:38:3912919 光刻机价格高达1.2亿美元，比一架波音737都贵。 下面是最近ASML公布的极紫外光光刻机内部加工时的镜头，十分震撼： 在这台光刻机中，每秒在真空环境中，从底部容器流出5万滴融化的锡液，一对激光束照射每一滴液体产生等离子体，释放出更短的波长，
2020-10-15 09:20:055352 据国外媒体报道，已经推出了两款极紫外光刻机的阿斯麦，正在研发第三款，计划在明年年中开始出货。
2020-10-15 16:14:112148 日前三星电子副董事长李在镕前往荷兰拜访光刻机大厂ASML，其目的就是希望ASML 的高层能答应提早交付三星已经同意购买的极紫外光光刻设备（EUV）。
2020-10-24 09:39:062041 中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说，就是 EUV （极紫外光源）光刻机。
2020-11-11 10:13:305279 
在5nm、6nm工艺大规模投产、第二代5nm工艺即将投产的情况下，芯片代工商台积电对极紫外光刻机的需求也明显增加。而外媒最新援引产业链消息人士的透露报道称，台积电已向阿斯麦下达了2021的极紫外光刻
2020-11-17 17:20:142373 员广泛应用，但是市场对于塑料、油漆、印刷油墨和染料等产品的检测需求日益增加，而这些产品检测更适合采用紫外（UV）照明。过去，这些产品的检测受到了紫外光源成本过高的限制。然而，随着低成本紫外LED照明的出现，这些应用正变得越来越便宜。 紫外
2020-11-19 14:34:194068 近日，据外媒报道，在芯片制程工艺方面一直落后于台积电的三星电子，目前正在寻求加强与极紫外光刻机供应商ASML的合作，以加速5nm和3nm制程的研发。
2020-11-24 14:54:522593 12月2日消息，据国外媒体报道，全球第一大芯片代工商台积电，能够获得大量的芯片代工订单，除了领先的制程工艺，还得益于阿斯麦所供应的大量先进的光刻机，在第二代7nm和5nm所需要的极紫外光刻机方面，尤其如此，他们获得的极紫外光刻机的数量，远多于三星。
2020-12-02 10:21:091303 特别是，韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年，韩国本土提出的专利申请数量为40件，超过了国外企业的10件。这是韩国提交的专利申请首次超过国外。2020年，韩国提交的申请数量也是国外的两倍多。
2020-12-11 13:40:541972 ， ArF 准分子激光：193 nm
极紫外光（EUV），10 ～ 15 nm
对光源系统的要求：
a．有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；［波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利
2020-12-28 14:17:153559 , ArF 准分子激光：193 nm
极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
对光源系统的要求:
a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利
2020-12-29 09:14:542925
对于阿斯麦（ASML）来说，他们正在研发更先进的***，这也是推动芯片工艺继续前行的重要动力。
ASML是全球目前唯一能制造极紫外***的厂商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B
2020-12-29 11:00:102186
对于阿斯麦（ASML）来说，他们正在研发更先进的***，这也是推动芯片工艺继续前行的重要动力。
ASML是全球目前唯一能制造极紫外***的厂商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B
2020-12-29 11:06:572977 EUV（极紫外光）光刻机，是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型。近来，有不少消息都指出，EUV光刻机耗电量非常大，甚至它还成为困扰台积电的一大难题。 为何EUV光刻机会这么耗电呢
2021-02-14 14:05:004746 据国外媒体报道，台积电和三星电子的芯片制程工艺，均已提升到了 5nm，更先进的工艺研发也在推进，并在谋划量产事宜。 在制程工艺提升到 5nm 之后，也就意味着台积电、三星等厂商，对极紫外光刻机的需求
2021-01-25 17:10:181914 ，对极紫外光刻机的需求会不断增加，而全球目前唯一能生产极紫外光刻机厂商的阿斯麦，也就大量供应极紫外光刻机。 英文媒体在最新的报道中表示，在芯片制程工艺方面走在行业前列的台积电，在今年预计可获得 18 台极紫外光刻机，三星和英特尔也将
2021-01-25 17:21:544030 如今全球芯片短缺，不仅仅已经严重营销到了科技数码产业，就连汽车产业也深受其害。为了满足2021年的需求激增，目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求，如此之大的需求令可以说是史上的天量，三星英特尔急了。
2021-01-26 09:22:051640 对于台积电来说，他们今年依然会狂购极紫外光刻，用最先进的工艺来确保自己处于竞争的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511678 如今全球芯片短缺，不仅仅已经严重营销到了科技数码产业，就连汽车产业也深受其害。 为了满足2021年的需求激增，目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求，如此之
2021-01-27 09:56:083611 近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻（EUV）系统的出货，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:233645 购进了极紫外光刻机，用于生产相关的芯片。 SK海力士已购入极紫外光刻机的消息，源自外媒中提到的M16工厂。外媒在报道中表示，SK海力士M16工厂的建设已经完成，极紫外光刻机也已经安装到位，将用于生产DRAM（动态随机存取存储器）。
2021-02-02 18:08:483347 2月25日消息，据国外媒体报道，芯片制程工艺提升至5nm的台积电和三星，已从阿斯麦购买了大量的极紫外光刻机，并且还在大量购买。
2021-02-26 09:22:012149 众所周知，想要在芯片领域打破由欧美国家所垄断的市场，必须要解决光刻机的问题，这是传统硅基芯片制造过程中最为重要的一环。而在光刻机领域，荷兰的ASML则是光刻机领域金字塔最顶尖的企业，尤其是在极紫外光领域
2021-04-16 14:31:125274 
UV4000紫外光耐气候试验箱主要用于模拟对阳光、潮湿和温度对材料的破坏作用;材料老化包括褪色、失光、强度降低、开裂、剥落、粉化和氧化等。紫外光耐气候试验箱通过模拟阳光、冷凝、模仿自然潮湿，试样在
2021-06-02 15:22:051003 美国媒体7月19日报道，美国政府正在努力阻止荷兰ASML EUV光刻机（极紫外光刻机）进入中国大陆。 报道称，中国政府此前与荷兰政府协商，要求允许中国公司购买ASML生产的EUV光刻机设备（极紫外光刻
2021-07-21 16:52:252514 美国华尔街日报7月19日报道，美国政府正在努力阻止荷兰ASML EUV光刻机（极紫外光刻机）进入中国大陆。 华尔街日报报道称，中国政府此前与荷兰政府协商，要求允许中国公司购买ASML生产的EUV
2021-07-25 17:35:153479 紫外光通信是以大气分子和子溶胶粒子的散射和吸收为基础的。紫外光通信基于两个相互关联的物理现象：一是大气层中的臭氧对波长在200nm到280nm之间的紫外光有强烈的吸收作用，这个区域被叫做日盲区
2022-03-18 10:11:036836 三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:156764 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087066 低压紫外汞灯发射的双波段短波紫外光照射到试件表面后，与有机污染物发生光敏氧化作用,不仅能去除污染物而且能改善表面的性能，从而提高物体表面的浸润性和粘合强度，或者使材料表面得到稳定的表面性能。根据
2022-08-18 16:16:302892 
EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以极紫外光作“刀”，对芯片上的晶圆进行雕刻，让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:027389 UV紫外光导电银浆固化不彻底的主要原因有哪些 SHAREX在导电银浆领域已经有十多年的开发经验，特别是最近开发的AS5100系列UV紫外光固化导电银浆获得客户的广泛认可，由于光固化银浆是个新生的品类
2022-10-15 15:05:502161 
掩模版的缺陷的光学检测极为困难。通常，光学检测可以获得表面缺陷和相缺陷引起的所有转印缺陷，但是由于 EUV 的多层掩模结构，使得这些缺陷被埋在多层薄膜的下面。
2022-10-24 10:48:048150 热点新闻 1、 ASML 阿斯麦 CEO 透露高数值孔径极紫外光刻机 2024 年开始出货 据国外媒体报道，光刻机制造商阿斯麦的 CEO 兼总裁彼得・维尼克 (Peter Wennink)，在本周
2022-11-18 19:00:034892 科学家利用选择性紫外光刻实现复合纤维材料的光纤微图案化
2022-12-22 14:58:13761 
DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。前者采用极紫外光刻技术，后者采用深紫外光刻技术。
2023-03-20 14:23:2413751 MODEL：XT-01-UVlitho-手动版一、产品简介光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础，是集成电路最重要的加工工艺。光刻胶在紫外光的照射下发生化学变化，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程
2022-12-20 09:24:263273 
霍尔效应实验是一个受系统误差影响较大的实验，特别是在霍尔效应产生的同时，伴随产生的其他效应引起的附加电场对实验影响较大。霍尔效应产生误差的原因主要有以下几点：
2023-07-03 17:17:048021 ，半导体制造领域使用 传统大功率汞灯技术 用于光刻设备的紫外光源。这种光源虽然输出功率高，但输出光谱范围宽，制造和生产过程中会产生对环境有害的物质，并且工作寿命短，更换周期频繁。 UVLED 具有独特的技术优势和成本优势，能够输
2023-07-05 10:11:242795 
。照明系统是光刻机的重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向，对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。
2023-07-17 11:02:381673 
在uvitron，我们直接了解紫外光固化设备如何成为许多行业的关键技术，紫外光固化系统的好处很多，该技术对许多工业过程的效率、质量和可持续性产生了重大影响。
2023-07-21 11:42:171123 
短波长透明光学元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波长，而晶片上所需的最小特征继续向更深的亚波长尺度收缩。这对用入射场代替掩模开口上的场的基尔霍夫边界条件造成了严重的限制，因为这种近似无法考虑光刻图像
2023-08-25 17:21:431075 
实现深紫外光通信的一个关键器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高压汞灯实现，但汞灯的调制带宽非常小，这严重影响了深紫光通信的传输速率。
2023-09-05 11:13:001718 
欧洲极紫外光刻（EUVL）技术利用波长为13.5纳米的光子来制造集成电路。产生这种光的主要来源是使用强大激光器产生的热锡等离子体。激光参数被调整以产生大多数在13.5纳米附近发射的锡离子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:502593 
在面对紫外光子成像技术时，面临着诸多挑战。光子密度大、需要高频触发采集，以及实时计算光子位置进行谱图绘制，这些都对采集设备的性能提出了极高的要求。
2024-03-20 09:56:071242 
光刻胶按照种类可以分为正性的、负性的。正胶受到紫外光照射的部分在显影时被去除，负胶受到紫外光曝光的地方在显影后被留下。
2024-04-24 11:37:056635 
近日，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）发布了一项重大研究报告，宣布该校成功研发出一种突破性的极紫外（EUV）光刻技术。这一创新技术超越了当前半导体制造业的标准界限，其设计的光刻设备能够采用更小巧的EUV光源，并且功耗仅为传统EUV光刻机的十分之一，从而实现了能源消耗的显著降低。
2024-08-03 12:45:362296 自然界中存在多种紫外光谱，人工紫外光源包括气体放电、超高温辐射体和半导体光源。常用紫外光源有高压汞灯、氙灯、氪灯、氘灯、紫外LED和准分子激光器等，各有特定波长、工作电压和光功率。
2024-10-25 14:10:261982 芯片制造、价值1.5亿美元的极紫外（EUV，https://spectrum.ieee.org/tag/euv）光刻扫描
2025-01-09 11:31:181280 紫外光通信的应用场景十分广泛，它正逐渐渗透到我们生活的各个角落。在军事领域，紫外光通信可用于战场短距离保密通信。在战场上，士兵们可以利用紫外光通信设备，在不暴露自身位置的情况下，安全地传递情报和指令
2025-02-21 13:32:511002 
随着极紫外光刻（EUV）技术面临光源功率和掩模缺陷挑战，X射线光刻技术凭借其固有优势，在特定领域正形成差异化竞争格局。
2025-05-09 10:08:491374 
电子发烧友App
工商网监
湘ICP备2023018690号-1
评论