全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的光刻机

“11月29日，中科院光电技术研究所宣布国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，成为全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的***。”

这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。

该***由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。

超分辨率光刻镜头

项目副总设计师胡松介绍，中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。

项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻装备研制项目攻关情况

本次“超分辨光刻装备研制”通过验收，是中国科学院光电技术研究所多年的技术积累结晶。

该***制造的相关器件已在如下科研院校的重大研究任务中取得应用。

中国航天科技集团公司第八研究院；

电子科技大学太赫兹科学技术研究中心；

四川大学华西医院；

中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室。

中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备

“ASML的EUV***使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很多用户大喜过望。”

如此低成本的***，一旦量产，结合中国经济上的庞大需要，再结合中国庞大的理工人才，一个低成本的光刻工具，将造就一条极其庞大完备的芯片产业链。

不过，就此鼓吹中国打破ASML在高端***上的垄断未免为时过早。

ASML公司简介

ASML，中文名称为阿斯麦（中国大陆）、艾司摩尔（中国***）。是总部设在荷兰Veldhoven的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML一家独大，占有大约80%的市场份额。

台积电、三星、英特尔等国际半导体巨头都是其客户，并且也都开始试验使用这种EUV设备生产芯片，以便能在更小芯片面积内，布局数量更多的晶体管，从而让计算设备速度更快。

毕竟目前该***制造的相关器件主要还是用于专用领域和特殊领域，距离商业化量产还需一段时日。

不过无论如何，这种关键技术，都是一种战略资源，可以不先进，也可以不成熟，但是“有它或者无它“，对国家安全的影响却是有天壤之别的。

其实在美国封杀中兴之际，ASML就声称将于2019年为中芯国际交付一台EUV***。那时我们就推断，西方国家判断我国的***技术即将取得突破。

现在来看，果是如此。

西方总是会在我们掌握了技术的“前一天”，很及时地送上并不过时的技术。

但是我们并不能因此而自废武功，自主研发的脚步一刻不能停下。不能让“运十“悲剧重演。