紫外光刻机（桌面型掩膜对准）

MODEL： XT-01-UV litho-手动版

一、产品简介

光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础，是集成电路最重要的加工工艺。光刻胶在紫外光的照射下发生化学变化，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到硅片上形成集成电路。本设备是专门针对企业及科研单位研发的一种精密光刻机，它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

二、主要性能指标

1、 曝光类型：单面；

2、 曝光面积：110×110mm；

3、 曝光照度不均匀性：≤±5%；

4、 紫外光束角：≤5°

5、 紫外光中心波长：254nm/365nm（出厂时标准配置为 365nm，其他波段可选配，需在订货时提出）；

6、 紫外光源时间：≥2 万小时；

7、 采用电子快门；

8、 曝光分辨率：2μm；

9、 显微镜扫描范围：X：±50mm，Y：±50mm；

10、 对准范围：X、Y 调节±6.5mm，Q 向 360°粗调，±5°精调；

11、 套刻精度：2μm（用户的“版”、“片”精度必须符合国家规定，环境、温度、湿度、尘埃能得到严格控制，采用进口正性光刻胶，且匀胶厚度能得到严格控制，加之前后工艺先进）；

12、 曝光方式：接触式曝光；

13、 显微系统：单目 CCD 显微系统，2000 倍金相同轴光显微镜；光学放大倍数 0.7X-4.5X; 高清 2K 工业CCD 相机；LED 同轴光源；13.3 寸挂屏；

14、 掩模版尺寸：≤127×127mm；

15、 基片尺寸：≤Φ100mm；

16、 基片厚度：≤5mm；

17、 曝光定时：0～999.9 秒（可调）；

18、 电源：单相 AC220V 50HZ；

19、 设备所需能源：220V±10%，50HZ；

三、工作条件

1、安装环境：

(1) 建议室温保持在 25℃±2℃（77°F±3.6°F 华氏）。

(2) 相对湿度不超过 60%

(3) 振动，因为曝光机要求很高的对准精度，故要求机器安装在无振动的地方，保持振幅不超过 4μm。

(4) 净化。房间的净化也很重要，特别是生产线条很细的产品，希望房间净化到 100 级。

2、对掩版的要求：

该机对掩版厚度无要求而外形尺寸和不平整度都应符合国家标准。

四、操作简要说明：

1、打开电源开关（位于设备左后方）灯亮。

2、打开 LED 黄光照明系统开关(操作面板标有“LED”字样的开关)，指示灯亮。

3、将硅片放置在四轴高精度对准平台上的真空吸附盘上，启动真空泵。通过控制位于设备左侧标有“4inch、2inch、1inch”字样的三个气动开关，可以选择吸附 1 英寸-4 英寸不同尺寸的硅片。

4、检查硅片是否被吸牢。如未吸附稳，应查明原因：

(1) 检查各气管接口是否正常连接，若有漏气情况，逐个排查并重新连接各接口和管道；

(2) 检查吸附盘表面是否清洁，防止碎屑或杂物影响硅片吸附；

(3) 检查硅片底面是否平整，若片不规则（如碎片等），硅片吸附牢靠程度降低，需要重新换硅片；

5、安装掩模版：调节掩膜版压板上的两个梅花手柄螺丝，将掩膜版装入掩膜版安装托盘，并将安装托盘推入安装平台，调整好位置后拧紧掩膜版压板上的梅花手柄螺丝

6、对准：

(1) 打开显微镜开关(操作面板标有“显微镜”字样的开关)；

(2) 打开 LED 亮度调节器调节开关(位于门内存)，通过 LED 亮度调节器旋钮调节显微镜 LED亮度；

(3) 通过显微镜观察掩膜版和样片标记图形相对位置；

(4) 调节四轴对准平台中 X、Y、R 三个方向，当操作者确信版和片对准后，调节 Z 轴上升，使硅片与掩膜版接触并贴紧

(5) 转动显微镜到一侧，露出曝光位置，关门，完成对准

l 注 1：对准操作必须在硅片和掩膜版分离情况下操作，否则将擦伤掩膜版

l 注 2：观察到硅片和掩模版贴合不跑片即可，防止 Z 轴向上位移过大，压碎硅片或掩膜版

7、曝光：

(1) 手动选择曝光波段(操作面板标有“波段”字样的钮子开关)；

l 注 3：本设备出厂时标准配置为365nm，其他波段可选配，需在订货时提出

(2) 预设曝光时间，本设备操作面板上设有 0.1～999.9 秒时间继电器(操作面板标有“曝光时间”字样），设置所需曝光时间；

(3) 打开紫外曝光系统开关(操作面板标有“曝光”字样的开关)，曝光计时开始，时间继电器上的时钟数码不断闪动，电子快门在计时开始时已打开。直到预设时间到，快门关，完成曝光。

8、完成曝光后，开门，调节 Z 轴下降，确保硅片和掩膜版完全脱离后，拧开两个梅花手柄螺丝，移出掩膜版托盘，关闭气动开关，移除硅片

9、关闭真空泵，关闭电源

五、安装说明

1、拆箱：

拆箱取出设备主体和显微镜，此时不需要无尘环境

2、安装：

(1) 将设备主体放置于振幅不超过 4 微米的平台上；

(2) 认真检查并清洁吸附盘、掩膜版安装盘等；

(3) 安装金相同轴光显微镜系统；

(4) 电源和气源连接

六、使用、维护和保养说明

1、 定期检查：定期检查可使光刻机处于良好的工作状态，并达到其做好的工作性能。每日需要检查管路系统，避免漏气；清扫吸附盘、掩膜版安装盘，确保接触面无油、无尘、无硅渣等，确保硅片被稳定吸附，掩模版找平。

2、 电气部分使用维护和保养：XT-01-UV litho-手动版桌面型掩膜对准紫外光刻机电气控制部分包括 LED 黄光照明系统、紫外曝光灯路、曝光定时等几部分。电源：220V，50HZ。