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电子发烧友网>制造/封装>制造新闻>450毫米晶圆2018年量产 极紫外光刻紧随其后

450毫米晶圆2018年量产 极紫外光刻紧随其后

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2020-12-30 10:29:302159

报道称台积电今年预计可获得18台极紫外光刻

据国外媒体报道,台积电和三星电子的芯片制程工艺,均已提升到了 5nm,更先进的工艺研发也在推进,并在谋划量产事宜。 在制程工艺提升到 5nm 之后,也就意味着台积电、三星等厂商,对极紫外光刻机的需求
2021-01-25 17:10:181352

台积电今年将获得 18 台极紫外光刻机,三星、英特尔也有

,对极紫外光刻机的需求会不断增加,而全球目前唯一能生产极紫外光刻机厂商的阿斯麦,也就大量供应极紫外光刻机。 英文媒体在最新的报道中表示,在芯片制程工艺方面走在行业前列的台积电,在今年预计可获得 18 台极紫外光刻机,三星和英特尔也将
2021-01-25 17:21:543321

台积电向ASML下达18台极紫外光刻机需求

如今全球芯片短缺,不仅仅已经严重营销到了科技数码产业,就连汽车产业也深受其害。为了满足2021年的需求激增,目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求,如此之大的需求令可以说是史上的天量,三星英特尔急了。
2021-01-26 09:22:051158

台积电今年仍要狂购极紫外光刻

对于台积电来说,他们今年依然会狂购极紫外光刻,用最先进的工艺来确保自己处于竞争的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511137

未来极紫外光刻技术将如何发展?产业格局如何演变?

近日,荷兰的光刻机制造商阿斯麦(ASML)发布2020年度财报,全年净销售额达到140亿欧元,毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻(EUV)系统的出货,至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588

SK海力士M16工厂已安装极紫外光刻机 开始试生产1anm DRAM

2月2日消息,据国外媒体报道,台积电和三星电子,从阿斯麦购买了大量的极紫外光刻机,用于为苹果、高通等客户代工最新的智能手机处理器。 而从外媒的报道来看,除了台积电和三星,存储芯片制造商SK海力士
2021-02-02 18:08:482632

SK海力士将大量购买极紫外光刻

2月25日消息,据国外媒体报道,芯片制程工艺提升至5nm的台积电和三星,已从阿斯麦购买了大量的极紫外光刻机,并且还在大量购买。
2021-02-26 09:22:011530

紫外光通信技术:紫外光通信的基本原理

紫外光通信是以大气分子和子溶胶粒子的散射和吸收为基础的。紫外光通信基于两个相互关联的物理现象:一是大气层中的臭氧对波长在200nm到280nm之间的紫外光有强烈的吸收作用,这个区域被叫做日盲区
2022-03-18 10:11:034253

duv光刻机和euv光刻机区别是什么

目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

台积电将2024年获高NA EUV光刻机 助于2nm工艺量产

  最近,据报道,台积电将于2024年收购下一代Asmail的最新极紫外光刻设备,为客户开发相关基础设施和架构解决方案。
2022-09-20 14:23:311108

看一下EUV光刻的整个过程

EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术,简单来说,就是以极紫外光作“刀”,对芯片上的晶圆进行雕刻,让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024367

​焦点芯闻丨ASML 阿斯麦 CEO 透露高数值孔径极紫外光刻机 2024 年开始出货

热点新闻 1、 ASML 阿斯麦 CEO 透露高数值孔径极紫外光刻机 2024 年开始出货 据国外媒体报道,光刻机制造商阿斯麦的 CEO 兼总裁彼得・维尼克 (Peter Wennink),在本周
2022-11-18 19:00:033971

基于选择性紫外光刻的光纤微图案化

科学家利用选择性紫外光刻实现复合纤维材料的光纤微图案化
2022-12-22 14:58:13194

紫外光刻随机效应的表现及产生原因

  极紫外光刻的制约因素   耗电量高极紫外线波长更短,但易被吸收,可利用率极低,需要光源提供足够大的功率。如ASML 3400B光刻机,250W的功率,每天耗电达到三万度。   生产效率仍不
2023-06-08 15:56:42283

紫外光刻机(桌面型掩膜对准)

MODEL:XT-01-UVlitho-手动版一、产品简介光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础,是集成电路最重要的加工工艺。光刻胶在紫外光的照射下发生化学变化,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程
2022-12-20 09:24:261211

虹科案例 | 用于低成本改造光刻设备的UV紫外光

    紫外光刻和曝光 是半导体行业生产各种高端芯片、微观电路结构的核心技术。在紫外光刻过程中,光源发射的紫外线通过掩模上的微小透镜或光栅,然后投射到光刻胶层上,形成所需的微细图案。 长期以来
2023-07-05 10:11:241026

紫外光刻复杂照明光学系统设计

。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向,对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592

紫外μLED作为日盲紫外光通信光源的研究现状和综合分析

实现深紫外光通信的一个关键器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高压汞灯实现,但汞灯的调制带宽非常小,这严重影响了深紫光通信的传输速率。
2023-09-05 11:13:00484

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