首次加入EVU极紫外光刻 台积电二代7nm+工艺开始量产

台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡，也领先Intel、三星一大步。

台积电表示，7nm+ EVU工艺的良品率已经提高到和初代7nm同样的水平，将今年带动7nm工艺芯片的产能显著提升。

台积电预计2019年的总产能折合可达1200万块300mm晶圆，其中7nm工艺的会有100万块，比去年猛增150％。

根据此前消息，***工艺，有望用于Mate 30系列。尽管遭遇美国限令，但是台积电方面已经明确表示，至少目前不会停止向华为供货。

另外，苹果的A13也已经锁定台积电7nm+，今年的新iPhone就靠它了。

台积电还透露，正稳步推进下一代5nm工艺，全面应用EUV技术，已经开始风险性试产，预计2020年第一季度量产。

位于***南部科技园的新工厂Fab 18已经开始设备搬迁与安装，将在明年投产时直接上马5nm，并为未来的3nm工艺做好准备。

另外台积电还有个过渡性质的6nm工艺，基于7nm改进而来，预计2020年第一季度试产，非常适合现有7nm工艺用户直接升级。