90nm光刻机能生产什么的芯片
光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深紫外光的193nm制程工艺，如上海微电子装备公司（CMEE）制程90nm工艺的光刻机，那么90nm光刻机能生产什么芯片呢？
90nm除了可以生产90nm制程的芯片外，如果曝光两次就可以得到45nm的芯片，如果曝光三次就可以达到22nm芯片的水平。总的来说，曝光的次数越多芯片的nm越小，但是良品率会降低，所以一般都控制在28nm和32nm。
相较于荷兰、美国、德国这些国家，我国的芯片制造还是不具优势的，但是我国直接从90nm突破到22nm意味着我国的光刻机制造的一些关键核心领域已经实现了国产化，国产光刻机突破封锁，正在崛起。
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