据国外媒体报道,在芯片的制造过程中,光刻机是必不可少的设备,在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后,极紫外光刻机也就至关重要。
荷兰的阿斯麦(ASML)公司,是目前全球唯一能制造极紫外光刻机的厂商,他们的报告显示,在2019年,他们共向用户交付了26台极紫外光刻机。
阿斯麦是在2019年的年报中,披露他们向用户交付了26台极紫外光刻机的,较2018年的18台增加了8台。从阿斯麦的财报来看,他们在去年四季度交付了8台极紫外光刻机,这也就意味着他们在去年的前三个季度,就已完成了2018年的交付量。
阿斯麦目前的极紫外光刻机,包括TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,这两款极紫外光刻机,可用于生产7nm和5nm的芯片,后者是最新推出的,去年共交付了9台。
年报还披露,极紫外光刻机去年共为阿斯麦带来了27.997亿欧元(折合约31.43亿美元)的营收。
责任编辑:gt
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
芯片
+关注
关注
463文章
54379浏览量
469002 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1201浏览量
49004 -
7nm
+关注
关注
0文章
267浏览量
36386
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
中国打造自己的EUV光刻胶标准!
其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。 以光刻胶为例,这是决定芯片 图案能否被精准 刻下来的“感光神经膜”。并且随着芯片步入 7nm及
俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?
电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片
AI需求飙升!ASML新光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中
垄断 EUV 光刻机之后,阿斯麦剑指先进封装
电子发烧友网综合报道 当全球半导体产业陷入 “先进制程竞赛” 的白热化阶段,极紫外(EUV)光刻机作为高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成为决定产业格局的核心力量。荷兰阿斯麦(
EUV光源重大突破!ASML:芯片产量将提升50%
紫外光刻(EUV)设备的公司。EUV设备堪称芯片制造商生产先进计算芯片的“神器”,像台积电、英特尔等行业巨头都高度依赖它。EUV
双色调显影-------光学光刻和极紫外光刻
双色调显影(DTD)最早是由Asano提出的。DTD通过两次单独的显影去除最高和最低曝光剂量区域的光刻胶,实现了两倍小的间距。DTD的基本原理如图5-11所示,
晶众光电推出1030nm与515nm两款高功率飞秒激光器
在精密制造与前沿科研的赛道上,对核心加工工具的性能要求日益严苛。更高功率、更优光束、更稳性能,已成为推动技术突破的关键所在。致力于高端激光技术创新的晶众光电,推出的1030nm与515nm两款高功率飞秒激光器,以覆盖工业与科研多
白光干涉仪在浸没式光刻后的3D轮廓测量
浸没式光刻(Immersion Lithography)通过在投影透镜与晶圆之间填充高折射率液体(如超纯水,n≈1.44),突破传统干法光刻的分辨率极限,广泛应用于 45nm 至
【「AI芯片:科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术
%。至少将GAA纳米片提升几个工艺节点。
2、晶背供电技术
3、EUV光刻机与其他竞争技术
光刻技术是制造3nm、5nm等工艺节点的高端半导体芯片
发表于 09-15 14:50
今日看点丨全国首台国产商业电子束光刻机问世;智元机器人发布行业首个机器人世界模型开源平台
8nm,专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节,可通过高能电子束在硅基上手写电路,无需掩膜版即可灵活修改设计,其精度已比肩国际主流设备。 据介绍,与传统光刻机相比,电子束光刻机在原
发表于 08-15 10:15
•3189次阅读
全球市占率35%,国内90%!芯上微装第500台步进光刻机交付
电子发烧友网综合报道,近日,上海芯上微装科技股份有限公司(简称:芯上微装,英文简称:AMIES)第500台步进光刻机成功交付,并举办了第500台 步进
发表于 08-13 09:41
•2549次阅读
ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动
电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。
发表于 06-29 06:39
•2138次阅读
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
发表于 05-07 06:03
ASML去年交付26台极紫外光刻机,其中两款可用于生产7nm和5nm芯片
评论