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电子发烧友网>今日头条>中国芯片发展除了最大难题的光刻机,还有哪些技术瓶颈

中国芯片发展除了最大难题的光刻机,还有哪些技术瓶颈

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2025-05-21 11:18:481414

芯片制造中自对准接触技术介绍

但当芯片做到22纳米时,工程师遇到了大麻烦——用光刻机画接触孔时,稍有一点偏差就会导致芯片报废。 自对准接触技术(SAC) ,完美解决了这个难题
2025-05-19 11:11:301316

电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45

关税的影响:苹果成特朗普关税最大受害者之一 阿斯麦:对美出口光刻机或面临关税

2025年美国特朗普政府的“对等关税”影响究竟有多大?未来还不确定,只有等待时间的检验。这里我们看到已经有很多的科技巨头受损严重,比如苹果公司、光刻机巨头阿斯麦ASML、英伟达等。但是业界多认为目前
2025-04-17 10:31:121073

最全最详尽的半导体制造技术资料,涵盖晶圆工艺到后端封测

——薄膜制作(Layer)、图形光刻(Pattern)、刻蚀和掺杂,再到测试封装,一目了然。 全书共分20章,根据应用于半导体制造的主要技术分类来安排章节,包括与半导体制造相关的基础技术信息;总体流程图
2025-04-15 13:52:11

芯片制造流程,探寻国产芯片突围之路

近年来,芯片行业深陷大国博弈的风口浪尖。国内芯片产业的 “卡脖子” 难题,更多集中于芯片制造环节,尤其是光刻机光刻胶等关键设备和材料领域。作为现代科技的核心,芯片的原材料竟是生活中随处可见的沙子
2025-04-07 16:41:591257

成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

进制程领域,曝光波长逐渐缩短至13.5nm,光刻技术逐步完善成熟。2024年光刻机市场的规模为230亿美元。2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元。 【光刻机发展机会主要体现在以下四方面】 一、技术突破与市场竞争 中科院成功研发了突破性的固态深
2025-04-07 09:24:271236

【「芯片通识课:一本书读懂芯片技术」阅读体验】从deepseek看今天芯片发展

的信号采集,我们国家还落后很多。能做到高精度、低温漂、高信噪比等高指标的,首选还是国外厂商。我们需要追赶的地方还有很多,书中提到的EDA软件,又是其中之一。 芯片发展得好,还能支撑经济社会发展。书中
2025-04-02 17:25:48

【「芯片通识课:一本书读懂芯片技术」阅读体验】芯片怎样制造

光刻工艺、刻蚀工艺 在芯片制造过程中,光刻工艺和刻蚀工艺用于在某个半导体材料或介质材料层上,按照光掩膜版上的图形,“刻制”出材料层的图形。 首先准备好硅片和光掩膜版,然后再硅片表面上通过薄膜工艺生成一
2025-04-02 15:59:44

士模微电子高性能ADC芯片CM2249荣获第十八届中国芯“芯火新锐产品”奖

2023年9月20日,2023琴珠澳集成电路产业促进峰会暨第十八届“中国芯”颁奖仪式在珠海隆重召开。“中国芯”优秀产品评选被誉为国内集成电路产品和技术发展的“风向标”,是国内集成电路领域最具影响力和权威性的奖项评选之一,旨在对我国集成电路领域的产品创新、技术创新和应用创新成果进行表彰。
2025-04-02 10:15:59968

【「芯片通识课:一本书读懂芯片技术」阅读体验】了解芯片怎样制造

TSMC,中芯国际SMIC 组成:核心:生产线,服务:技术部门,生产管理部门,动力站(双路保障),废水处理站(环保,循环利用)等。生产线主要设备: 外延炉,薄膜设备,光刻机,蚀刻,离子注入,扩散炉
2025-03-27 16:38:20

不只依赖光刻机芯片制造的五大工艺大起底!

在科技日新月异的今天,芯片作为数字时代的“心脏”,其制造过程复杂而精密,涉及众多关键环节。提到芯片制造,人们往往首先想到的是光刻机这一高端设备,但实际上,芯片的成功制造远不止依赖光刻机这一单一工具。本文将深入探讨芯片制造的五大关键工艺,揭示这些工艺如何协同工作,共同铸就了现代芯片的辉煌。
2025-03-24 11:27:423167

DSA技术:突破EUV光刻瓶颈的革命性解决方案

剂量的需求也加剧,从而造成了生产力的瓶颈。DSA技术:一种革命性的方法DSA技术通过利用嵌段共聚物的分子行为来解决EUV光刻面临的挑战。嵌段共聚物由两个或多个化学性
2025-03-19 11:10:061259

士模微电子高性能DAC芯片CM7502荣获第十九届中国芯“芯火新锐产品”奖

2024年11月7日,2024中国微电子产业促进大会暨第十九届“中国芯”优秀产品征集结果发布仪式将在横琴粤澳深度合作区隆重召开。士模微电子高性能DAC芯片CM7502荣获“芯火新锐产品”奖。“中国芯
2025-03-11 14:53:211040

美报告:中国芯片研究论文全球领先

据新华社报道,美国乔治敦大学“新兴技术观察项目(ETO)”3日在其网站发布一份报告说,2018年至2023年间,在全球发表的芯片设计和制造相关论文中,中国研究人员的论文数量远超其他国家,中国在高被
2025-03-05 14:32:591780

展望“中国芯”,国产电容式MEMS压力传感器芯片午芯WXP380

      芯片是现代科技产业的"心脏",是支撑数字经济发展的核心要素。当前,全球芯片产业格局正在发生深刻变革,中国芯片产业面临着前所未有的挑战与机遇。美国对中国实施芯片出口管制,荷兰、日本等国家
2025-02-24 10:50:261804

EUV光刻技术面临新挑战者

  EUV光刻有多强?目前来看,没有EUV光刻,业界就无法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻机也是历史上最复杂、最昂贵的机器之一。 EUV光刻有哪些瓶颈? EUV光刻技术,存在很多难点。 1.1
2025-02-18 09:31:242256

比尔·盖茨建议美国政府把芯片、操作系统开放给中国,是喜是忧?

美国对中国芯片实施全方位禁令,从高端到中端,设计到制造,层层设限,试图 “卡脖子”。然而,2023 年中国芯片产业产值不降反升,同比增长超 20%,华为麒麟芯片更是在重重禁令下成功突破。操作系统
2025-02-17 17:08:33916

名单公布!【书籍评测活动NO.57】芯片通识课:一本书读懂芯片技术

就是达到目的了,而芯片则必须要大规模地应用才有意义,诚然,芯片的产业化历程也十分艰难。 首先,芯片的 生产成本高昂 ,初期投资巨大,需要光刻机、电子束曝光到各种检测设备;其次,要遵循 严格的技术
2025-02-17 15:43:33

什么是光刻机的套刻精度

芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像建造摩天大楼
2025-02-17 14:09:254467

中国芯片制造设备采购量预计下降

据市场研究机构TechInsights最新分析,中国在今年对芯片制造设备的采购量预计将出现下滑趋势。这一变化标志着在经历了连续三年的强劲增长后,中国芯片制造设备市场正面临新的挑战
2025-02-17 10:49:05925

探秘半导体防震基座刚性测试:守护芯片制造的坚固防线

,生产设备对稳定性的要求近乎苛刻。光刻机、刻蚀等设备在工作时,需保持极高的精度。以极紫外光刻机(EUV)为例,它在进行纳米级光刻时,任何微小的位移或变形都可能导致
2025-02-17 09:52:061192

纳米压印技术:开创下一代光刻的新篇章

光刻技术芯片制造至关重要,但传统紫外光刻受衍射限制,摩尔定律面临挑战。为突破瓶颈,下一代光刻(NGL)技术应运而生。本文将介绍纳米压印技术(NIL)的原理、发展、应用及设备,并探讨其在半导体制造中
2025-02-13 10:03:503708

ASML:中国芯片落后西方15年!

光刻机制造巨头阿斯麦(ASML)的首席执行官克里斯托夫·富凯表示,尽管近年来中国在半导体领域取得了显著进步,但与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比, 中国的一些公司仍落后10到15年 。众所周知
2025-02-06 17:39:05935

光刻机用纳米位移系统设计

光刻机用纳米位移系统设计
2025-02-06 09:38:031028

半导体设备光刻机防震基座如何安装?

半导体设备光刻机防震基座的安装涉及多个关键步骤和考虑因素,以确保光刻机的稳定运行和产品质量。首先,选择合适的防震基座需要考虑适应工作环境。由于半导体设备通常在洁净的环境下运行,因此选择的搬运工具如
2025-02-05 16:48:451240

芯片制造:光刻工艺原理与流程

光刻芯片制造过程中至关重要的一步,它定义了芯片上的各种微细图案,并且要求极高的精度。以下是光刻过程的详细介绍,包括原理和具体步骤。   光刻原理‍‍‍‍‍‍ 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻机
2025-01-28 16:36:003590

ADS1298改DVDD大小除了会影响SCLK的最大速率,还有无其他影响呢?

现在我将DVDD更改为1.8V供电,其他不变. 请问一下,这样更改DVDD大小除了会影响SCLK的最大速率,还有无其他影响呢? 这样的设计,ADS1298能否正常工作?(我现在的ADS1298感觉一直没有正常工作)
2025-01-23 08:27:50

如何提高光刻机的NA值

本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
2025-01-20 09:44:182475

飞利浦将旗下MEMS代工厂Xiver出售,该厂为ASML光刻机提供组件

近日,飞利浦已将其位于荷兰埃因霍温的 MEMS 晶圆厂和代工厂出售给一个荷兰投资者财团,交易金额不详。该代工厂为 ASML 光刻机等公司提供产品,并已更名为 Xiver。 该 MEMS 代工厂已被
2025-01-16 18:29:172614

光刻机的分类与原理

本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片光刻机和面板光刻机。面板光刻机的工作原理和芯片光刻机相似
2025-01-16 09:29:456356

纳米压印光刻技术旨在与极紫外光刻(EUV)竞争

来源:John Boyd IEEE电气电子工程师学会 9月,佳能交付了一种技术的首个商业版本,该技术有朝一日可能颠覆最先进硅芯片的制造方式。这种技术被称为纳米压印光刻技术(NIL
2025-01-09 11:31:181280

组成光刻机的各个分系统介绍

  本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高,能够达到
2025-01-07 10:02:304530

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