成都汇阳投资关于光刻机概念大涨，后市迎来机会

【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】

光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一，其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市场对光刻机的需求持续增长，尤其是在先进制程领域，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟。2024年光刻机市场的规模为230亿美元。2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元。

【光刻机的发展机会主要体现在以下四方面】

一、技术突破与市场竞争

中科院成功研发了突破性的固态深紫外激光技术，能够发射出193nm的光， 一波长被普遍应用于DUV光刻机，标志着我国在DUV光刻机领域取得了重大突破。此外，国内企业在光源系统、照明系统和投影物镜等环节也取得了进展，进一步推动了国产光刻机的发展。这些技术突破为国内光刻机企业提供了更多的市场机会和竞争优势。

二、市场需求增长

随着全球半导体产业的快速发展，光刻机的需求也在不断增加。特别是在电动汽车、人工智能等领域的需求增长，为光刻机市场带来了新的机遇。中国作为全球最大的半导体市场之一，对光刻机的需求尤为显著。尽管ASML等国际巨头在中国市场的收入可能会减少，但这为中国本土光刻机企业提供了更多的市场空间和发展机会。

三、政策支持与投资增加

国家对半导体产业的重视和投入加大，为光刻机的发展提供了有力的政策支持和资金保障。国内企业如上海微电子已经实现了90nm光刻机的量产，并在不断努力突破先进制程，加速国产化进程。这些政策支持和投资增加为光刻机的发展创造了良好的环境。

四、国际竞争与合作

虽然欧美企业在光刻机领域占据主导地位，但中国在光刻机领域的自主研发和创新也在不断推进。通过与国际企业的竞争与合作，中国光刻机企业可以不断提升技术水平，拓展国际市场，进一步推动光刻机产业的发展。

我们筛选出以下潜力标的

飞凯材料(300398)：主营业务包括光刻胶产品的研发、生产和销售。其产品广泛应用于LED、TFT-LCD、PCB制造以及屏幕显示制造等领域，并已逐步拓展至半导体制造和OLED材料领域。其核心优势在于丰富的产品线和广泛的应用领域 , 以及持续的技术创新和市场拓展能力。

新莱应材(300260)：光刻机的制造工艺对超高真空和特殊气体条件有着严格的要求。新莱应材的AdvanTorr真空产品系列以及NanoPure气体产品系列，均能满足这一需求，并广泛应用于光刻机设备中。公司已成功与多家光刻机制造商建立了合作关系。

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审核编辑 黄宇