荷兰造价上亿的庞大机器到位并组装好后，并不意味着EUV光刻机的生产工作完全准备就绪。随着先进工艺晶圆制造中图案化策略和分辨率重视程度的攀升，为了满足这些需求，与EUV光刻技术相关的材料同样需要纳入考量，尤其是光刻胶和防护膜。 EUV光
2022-07-22 07:49:00
2403 ，增幅11.11%。 截图自企查查 光刻胶是芯片制造中光刻环节的重要材料，目前主要被日美把控，国内在光刻胶方面投入研制的厂商主要晶瑞股份、南大光电、上海新阳、徐州博康、北京科华等，那么华为投资的徐州博康在光刻胶方面有何优势，国内厂商在光
2021-08-12 07:49:005380 电子发烧友原创 章鹰 近日，全球半导体市场规模增长带动了上游半导体材料旺盛需求，“光刻胶”的突破也成为国内关注焦点。正当日本光刻胶企业JSR、东京应化和美国Lam Research在EUV光刻
2022-08-31 07:45:002718 电子发烧友网报道（文/周凯扬）在上游的半导体制造产业中，除了光刻机等设备外，光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的关键因素。就拿掩膜版来说，这个承载设计图形的材料，经过曝光后将图形信息转移到
2023-06-22 01:27:001985 翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 编辑
先分享光刻的参考资料。============================2014-10-17========光刻分类
2014-09-26 10:35:02
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17:47
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
是0.33，大家可能还记得之前有过一个新闻，就是ASML投入20亿美元入股卡尔·蔡司公司，双方将合作研发新的EUV光刻机，许多人不知道EUV光刻机跟蔡司有什么关系，现在应该明白了，ASML跟蔡司合作
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，整个流程中的一个重要步骤，其实并没有
2020-09-02 17:38:07
SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比
2018-07-12 11:57:08
的耐蚀刻薄膜材料，经曝光和显影而使溶解度增加的是正性光刻胶，反之为负性光刻胶。光刻胶的分类及其特点见表1。 随着IC特征尺寸亚微米、深亚微米方向快速发展，现有的光刻机和光刻胶已无法适应新的光刻工艺要求
2018-08-23 11:56:31
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显影后被
2019-11-07 09:00:18
这是我的版图一部分，然后生成了图案是这样的： 感觉间距小的地方全都有残留，间距大的地方没有残留；工艺参数：s9920光刻胶， evg 620‘未进行蒸汽底漆层涂覆，前烘：100摄氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
电介质和滤波应用的旋涂材料 PC3 系列 产品可用于平坦化，临时行粘接层和保护涂层。 BDC1/PDC1/ZPDC1 系列 产品可作为高效参杂层，代替昂贵的CVD参杂工序。 RD6系列 光刻胶显影液，可用
2010-04-21 10:57:46
SU 8光刻胶系列产品简介：新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题，十分适合于制备高深宽比微结构。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：光刻前 GaAs 表面处理以改善湿化学蚀刻过程中的光刻胶附着力和改善湿蚀刻轮廓[/td][td]编号：JFSJ-21-0作者：炬丰科技网址：http
2021-07-06 09:39:22
三种常见的光刻技术方法根据暴光方法的不同,可以划分为接触式光刻,接近式光刻和投影式光刻三种光刻技术。 ◆投影式暴光是利用透镜或反射镜将掩膜版上的图形投影到衬底上的暴光方法.在这种暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41:23
中国科学院大学（以下简称国科大）微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院，国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程，而开设课程
2021-10-14 09:58:07
本人是菜鸟 需要在玻璃上光刻普通的差值电极 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻胶是AZ5214E 正胶 同样的工艺和参数在玻璃上附着力差了很多 恳请哪位高人指点一下PS 插值电极的距离为25微米 小女子这厢谢过了
2010-12-02 20:40:41
是使用化学或者物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。通常的晶圆加工流程中，刻蚀工艺位于光刻工艺之后，有图形的光刻胶层在刻蚀中不会受到腐蚀源的显著侵蚀，从而完成图形转移的工艺步骤。刻蚀环节是复制
2020-07-07 11:36:10
更高的亮度。 激光刻划的优势 - 可以干净整齐的刻划硬脆性材料 - 非接触式工艺低运营成本 - 减少崩边、微裂纹、分层等缺陷的出现 - 刻划线条窄提高了单片晶圆上的分粒数量 - 减少微裂纹
2011-12-01 11:48:46
151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留，找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
据Pixelligent Technologies LLC表示，该公司开发出一种据称可提高现有光刻设备分辨率的纳米晶（nanocrystalline）材料，使光学光刻（Optical lithography）可扩展至32纳米以下。
2009-06-07 18:31:181475 光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 经过十年的自主创新，上海光刻设备工程技术跻身世界一流，成功打破国际垄断。7日，上海举办光刻机十年成果汇报暨上海微电子装备有限公司十年回顾活动。
2012-04-09 09:02:24735 对先进光刻掩膜光衍射的精密EMF模拟已成为预知光刻模拟的必做工作。
2012-05-04 16:28:416685 
本文主要介绍集成电路加工-光刻技术与光刻胶。集成电路加工主要设备和材料：光刻设备，半导体材料：单晶硅等，掩膜，化学品：光刻胶（光致抗蚀剂），超高纯试剂，封装材料及光刻机的介绍
2017-09-29 16:59:0218 光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，因此也具备极高的单台价值量。
2018-04-10 10:19:4736248 5月21日上午，在上海浦东新区康桥工业园南区，由华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目（以下简称“华虹六厂”）实现首台工艺设备——光刻机搬入。
2018-05-22 14:21:2710491 默克与中电彩虹的创新合作项目光刻胶国产化项目于 7 月 17 日在陕西咸阳正式竣工。
2018-07-19 09:09:387064 光刻技术是包含光刻机、掩模、光刻材料等一系列技术，涉及光、机、电、物理、化学、材料等多个研究方向。目前科学家正在探索更短波长的F2激光（波长为157纳米）光刻技术。由于大量的光吸收，获得用于光刻系统
2019-01-02 16:32:2323712 光刻机应用广泛，包括IC前道光刻机、用于封装的后道光刻机以及用于LED领域及面板领域的光刻机等等。封装光刻机对于光刻的精度要求低于前道光刻要求，面板光刻机与IC前道光刻机工艺相比技术精度也更低，一般为微米级。
2019-04-28 13:55:52228197 
2018年，南大光电和上海新阳先后宣布，投入ArF光刻胶产品的开发与产业化，立志打破集成电路制造最为关键的基础材料之一——高档光刻胶材料几乎完全依赖于进口的局面，填补国内高端光刻胶材料产品的空白。
2019-05-21 09:24:247066 
近日，沃衍资本携手江苏盛世投资、紫荆资本、深圳市投控通产新材料创业投资企业、四川润资、北京高盟新材料等投资机构完成了对国内光刻胶领头企业—北京科华微电子材料有限公司1.7亿元的投资。
2019-06-29 10:37:4628050 7月16日，上海兄弟微泛半导体超高纯设备集成项目正式签约落户海宁科技绿洲。
2019-07-17 16:33:343489 7月17日，南大光电在互动平台透露，公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。目前该项目完成的研发技术正在等待验收中，预计2019年底建成一条光刻胶生产线，项目产业化基地建设顺利。
2019-07-18 16:14:594862 光刻胶概念股南大光电10月23日公告，拟投资新建光刻胶材料以及配套原材料项目。
2019-10-24 16:47:213114 11月25日，市场研究公司总裁罗伯特·卡斯特拉诺（Robert Castellano）表示：“过去三年来，应用材料一直在晶圆制造前段工序（WFE）的设备市场上失去市场份额，而 ASML却将凭借其价格高昂的EUV光刻设备大批出货实现超越，取代应用材料成为最大的半导体设备公司。”
2019-11-26 15:06:442093 近日，上海新阳在投资者互动平台上表示，公司用于KRF248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，ARF193nm光刻胶配套的光刻机预计12月底到货。
2019-12-04 15:24:457942 光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出90nm的光刻机，这已经十分不容易了，这可是0的突破。那么为什么光刻机这么难造呢？
2020-01-29 11:07:007799 通过了《关于投资实施国家“02专项”ArF光刻胶产品的开发与产业化项目的议案》和《关于使用部分超募资金投资“ArF光刻胶产品的开发与产业化”项目的议案》。
2019-12-16 11:17:576276 今年7月17日，南大光电在互动平台透露，公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。目前该项目完成的研发技术正在等待验收中，预计2019年底建成一条光刻胶生产线，项目产业化基地建设顺利。
2019-12-16 13:58:527318 经常听说，高端光刻机不仅昂贵而且还都是国外的，那么什么是光刻机呢？上篇我们聊了从原材料到抛光晶片的制成过程，今天我们就来聊聊什么是光刻～
2020-01-24 16:47:007513 光刻机技术壁垒高且投资占比大，芯片尺寸的缩小以及性能的提升依赖于光刻技术的发展。
2020-02-21 20:47:113590 经常听说，高端光刻机不仅昂贵而且还都是国外的，那么什么是光刻机呢？上篇我们聊了从原材料到抛光晶片的制成过程，今天我们就来聊聊什么是光刻～
2020-03-15 14:46:00227696 ，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2020-03-18 10:52:1189226 光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最为关键，因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。
2020-03-18 11:00:4172452 光刻机是芯片制造的核心设备之一，作为目前世界上最复杂的精密设备之一，其实光刻机除了能用于生产芯片之外，还有用于封装的光刻机，或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前，我国高端的光刻机，基本上是从荷兰ASML进口的。
2020-03-18 11:12:0244388 近日，埃眸科技与常熟高新区正式签署项目协议，打造纳米压印光刻机生产线。
2020-04-13 16:18:058152 作为芯片制造的核心设备之一，光刻机对芯片生产的工艺有着决定性影响。 据悉，光刻机按照用途可分为生产芯片的光刻机、封装芯片的光刻机以及用于LED制造领域的投影光刻机。其中，生产芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999 对于公司两台光刻机何时到位，上海新阳称，公司购买的ArF光刻机准备运输中，时间尚不能确定。I线光刻机已完成招投标，在进行采购中。
2020-06-23 16:30:401996 等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。 据第三方机构智研咨询统计，2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元，
2020-09-15 14:00:1416535 Technology PTE. LTD.进口韩国SK Hynix的ASML光刻机设备，总价款为1102.5万美元（折合7508万人民币）。 这样的消息，显然让晶瑞股份获得资本市场的认可，截至发稿前，该公司股价涨停，报于42.86元。 晶瑞股份围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，主导产品包括超净高纯
2020-09-29 13:02:00601 9月16日，安徽马鞍山当涂县9月份项目集中签约、集中开工仪式在姑孰工业集中区举行。 本次集中签约8个项目，其中包括斯坦得LDI感光干膜及半导体光刻胶项目。该项目总投资15亿元，分2期建设。其中，一期
2020-09-24 11:12:053254 ％，再考虑到光刻工艺步骤中的光刻胶、光刻气体、光罩（光掩膜板）、涂胶显影设备等诸多配套设施和材料投资，实则整个光刻工艺占到了芯片成本的三分之一左右。
2020-10-09 15:40:112189 最近光刻机十分火，我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，我为什么会这样说呢？
2020-10-19 11:42:5120305 对公司光刻胶业务的具体影响等问题。 10月12日，晶瑞股份发布关于深圳证券交易所关注函的回复公告称，本次拟购买的光刻机设备将用于公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实
2020-10-21 10:32:104139 光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务，主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备以及上述产品的售后维保服务，产品功能涵盖微米到纳米的
2020-10-30 15:25:431637 胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等数十道工序才得以最终完成。 正因如此，集数学、光学、物理、化学等众多学科技术于一身的光刻机，被称之为半导体工业皇冠上的明珠，占据晶圆厂设备投资总额的约25%。 在中美关系紧
2020-11-26 16:19:192472 导 读 日前，南大光电公告称，由旗下控股子公司宁波南大光电材料自主研发的 ArF 光刻胶产品成功通过客户使用认证，线制程工艺可以满足 45nm-90nm光刻需求。 图：南大光电公告 公告
2020-12-25 18:24:096227 光刻是集成电路制造的最关键、最复杂、耗时占比最大的核心工艺，约占晶圆制造总耗时的40%-50%。公开数据显示，2019年光刻设备占半导体晶圆处理设备市场的23%左右。
2020-12-29 15:41:442368 近日，芯源微披露投资者关系活动记录表指出，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上海微电子（SMEE）的光刻机联机应用。
2021-01-08 13:53:334683 1月19日晚，国内半导体材料公司晶瑞股份发表公告，宣称购得ASML公司光刻机一台，将用于高端光刻胶项目。
2021-01-21 09:35:512886 1月19日晚，国内半导体材料公司晶瑞股份发表公告，宣称购得ASML公司光刻机一台，将用于高端光刻胶项目。
2021-01-21 10:23:251666 信息技术、碳材料（石墨烯）、“互联网+”等战略性新兴产业，包括光刻胶核心材料、中宏芯片等项目。 据威海南海新区消息，光刻胶核心材料项目建筑面积3万平方米，计划打造国内唯一、世界第二的包含颜料绿G58生产的新材料生产基地。 报道指出，
2021-01-28 16:36:045472 据马鞍山发布，安徽马鞍山慈湖高新区举办通信通讯产业重点项目集中签约仪式。其中，签约的部分项目包括：苏州世名光刻胶纳米材料产业园项目，由世名科技投资，从事先进光敏材料及光刻胶纳米颜料分散液研发
2021-02-24 16:25:062731 上海新阳表示，公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付，对加快193nmArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。
2021-03-10 17:13:002500 以下内容由对话音频整理 本期话题 ● EUV光刻机产能如何？ ● 晶圆为什么是圆的？ ● 不同制程的芯片之间有何区别？ ● 什么是逻辑芯片，逻辑芯片又包括哪些？ ● 专用芯片与通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476 经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，我为什么会这样说呢？
2021-03-30 09:19:412681 
5月27日，半导体光刻胶概念股开盘即走强，截至收盘，A股光刻胶板块涨幅达6.48%。其中晶瑞股份、广信材料直线拉升大涨20%封涨停，容大感光大涨13.28%，扬帆新材大涨11.37%，南大光电
2021-05-28 10:34:152623 不会有我们现在的手机、电脑了。 光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。 光刻机的核心原理就是一个透镜组，在精度上首先咱们有个概念：我们现在芯片的
2021-07-07 14:31:18125772 最近光博会上看到一本关于光刻的小册子，里面有一点内容，分享给大家。 关于光刻的原理、光刻设备、光刻胶的种类和选择等。 开篇 光刻的原理 表面处理：一般的晶圆光刻前都需要清洁干净，特别是有有机物
2021-10-13 10:59:423893 
光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813 光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000 ASML的极紫外光刻机（EUV），这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候，光刻机是用一系列光源能量和形状控制手段，通过带有电路图的掩模传输光束。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制等多项先
2022-07-10 11:17:4242766 说到芯片，估计每个人都知道它是什么，但说到光刻，许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话，就无法生产芯片，因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备，其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢？下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403116 与此同时，在ASML看来，下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战，更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了，DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶（CAR）也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082010 首先光刻胶成分复杂，一瓶光刻胶需要光引发剂、光增感剂、光致产酸剂、树脂、稀释剂、溶剂、助剂这些材料组成，而且配方都是保密的。
2022-07-25 16:27:574270 南大光电最新消息显示，国产193nm（ArF）光刻胶研发成功，这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体；徐州博康宣布，该公司已开发出数十种高端光刻胶产品系列，包括
2022-08-31 09:47:141285 光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent
2022-10-21 16:40:0415831 光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。 很多人都对光刻机有所耳闻，但其实不同光刻机的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
领投，中电中金、建投投资、合肥创新投、阜合基金、阜芯光电、物产中大、海智投资、龙鼎资本、齐芯资本、嘉和盛、上海昱荧等跟投。光源资本担任独家财务顾问。本轮资金用于进一步加大光刻胶、OLED 材料的研发与扩大再生产，提升企业核心竞争力，以抢
2023-06-13 16:40:00552 湖州国资消息，宁波微芯新材料科技有限公司的半导体材料生产基地项目总投资3.5亿元人民币，用地35亩，年产1000吨的电子级光刻胶原材料（光刻胶树脂、高等级单体等核心材料）基地建设。”全部达到，预计年产值可达到约5亿元。
2023-08-21 11:18:26942 半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.
2022-08-04 17:18:09318 
光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571 
近期，万润股份在接受机构调研时透露，其“年产65吨半导体用光刻胶树脂系列”项目已经顺利投入运营。该项目旨在为客户提供专业的半导体用光刻胶树脂类材料。
2023-12-12 14:02:58329 据吴中发布的最新消息，签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目，该项投资高达15亿元，旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
2024-01-26 09:18:43208 光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18402
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