晶瑞股份成功打造高端光刻胶研发实验室

1月19日晚，国内半导体材料公司晶瑞股份发表公告，宣称购得ASML公司光刻机一台，将用于高端光刻胶项目。

晶瑞表示，自公司开展设备采购活动以来，受到投资者广泛密切关注。

经公司多方协商、积极运作，顺利购得ASML XT1900 Gi型光刻机一台。该设备于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。

下一步，公司将积极组织相关资源，尽快完成设备的安装调试工作。

从晶瑞公司的信息来看，公司采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。

此外，28nm级别的光刻机在ASML公司中并不算多先进的型号了，官网上列出的沉浸式光刻机最旧的型号也是XT1965CI了，可用于20nm以下的工艺。

不过晶瑞公司购买的这台光刻机花了1102.5万美元，约合人民币7129万元，价值不菲。

晶瑞公司表示，公司量产光刻胶近30年，组建了国内领先的光刻胶研发团队，具有丰富的光刻胶研发和生产经验，先后承担了国家“85”攻关、“863”重大专项、科技部创新基金等科技项目、承担了国家02重大专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，并顺利通过国家02重大专项验收。

公司完成中试的 KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。

本次购买的 ASML光刻机设备系公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目的必要实验设备，旨在研发出更高端的 ArF 光刻胶，若研发工作进展顺利，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到 ArF 光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。
责任编辑:pj