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标签 > 光刻胶
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
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据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
万润股份2023年实现净利润7.21亿元-7.93亿元,同比预增0-10%
针对业绩增长原因,该公司表示,今年以来,虽然受到MP抗原检测产品下游需求疲软的不利因素制约,但其加强了国内国际两个市场的拓展力度,不断升级和改良工艺流程...
Hidehito Takahashi指出,行业应进行整合以保持国际竞争力。 “半导体材料领域正是日本能在全球赛场上屡次取得胜利的关键领域之一。而现在这种...
所谓的“光刻胶”,即是在紫外线、电子束等辐射下,其溶解度会产生变化的耐腐蚀薄膜材料。作为光刻工艺中的关键要素,广泛应用于晶圆和分立器件的精细图案制作中。...
鼎龙股份投资300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目,增资扩股
据了解,潜江新材料主营业务含电子专用材料研发、销售、制造,及工程和技术研究发展、新材料技术研发等多个领域。本次增资后,鼎龙股份对潜江新材料的持股比例减至...
上海衡封新材料科技A轮融资近亿元,扩大研发,提升产品供应能力
衡封新材诞生于2018年,主营业务为电子级酚醛树脂与特种环氧树脂产品,应用范围涵盖半导体封装、覆铜板、光刻胶、电子胶等诸多领域。在衡封新材的精英员工队伍...
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