上海新阳:光刻胶产品处于实验研发和中试开发阶段
近日,上海新阳在2019年度网上业绩说明会上表示,公司KrF厚膜光刻胶配套的光刻机一季度已完成安装调试,目前进入试运行阶段。KrF厚膜中试产线在安装调试建设当中。而公司光刻胶产品还处于实验室研发和中试开发阶段,未来主要服务于国内芯片制造公司。
对于公司两台光刻机何时到位,上海新阳称,公司购买的ArF光刻机准备运输中,时间尚不能确定。I线光刻机已完成招投标,在进行采购中。
此外,上海新阳还表示,今年会加大光刻胶业务的投入,并且在未来几年都会对光刻胶技术与产品开发进行较大投入。除光刻胶外,上海新阳将继续围绕电子电镀和电子清洗两大核心技术,持续研发创新,不断满足产业和客户需求,增强我国半导体关键工艺材料与核心技术自主可控能力。
当前,上海新阳主要收入为氟碳涂料业务,2019年涂料业务占营业收入的57%,上海新阳表示,随着公司对半导体材料的研发和市场开拓投入加大,公司半导体业务将快速增长,涂料业务的收入占比会逐步下降。2020年1季度半导体业务销售增长28%,受疫情影响涂料业务下降了23%;涂料业务占销售比重与去年同期比下降了12%。
至于合肥项目的进程,上海新阳则称,公司在合肥投资设立第二生产基地的项目目前正处于前期准备工作当中,由于受疫情影响进度有所延缓。第二生产基地仅仅生产半导体功能性材料。
-
半导体材料
+关注
关注
11文章
575浏览量
30695 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1197浏览量
48747
原文标题:上海新阳:光刻胶产品处于实验研发和中试开发阶段
文章出处:【微信号:appic-cn,微信公众号:集成电路应用杂志】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
发布评论请先 登录
中国打造自己的EUV光刻胶标准!
光刻胶剥离工艺
光刻胶旋涂的重要性及厚度监测方法
从光固化到半导体材料:久日新材的光刻胶国产替代之路
国产百吨级KrF光刻胶树脂产线正式投产
国产光刻胶突围,日企垄断终松动
行业案例|膜厚仪应用测量之光刻胶厚度测量
针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量
低含量 NMF 光刻胶剥离液和制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
光刻胶产业国内发展现状
光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

上海新阳:光刻胶产品处于实验研发和中试开发阶段
评论