光刻胶板块的大涨吸引了产业注意 ，国产光刻胶再遇发展良机？

5月27日，半导体光刻胶概念股开盘即走强，截至收盘，A股光刻胶板块涨幅达6.48%。其中晶瑞股份、广信材料直线拉升大涨20%封涨停，容大感光大涨13.28%，扬帆新材大涨11.37%，南大光电大涨9.72%，雅克科技大涨9.93%，强力新材、上海新阳、彤程新材等跟涨。

光刻胶板块的大涨吸引了产业注意 ，国产光刻胶再遇发展良机？

KrF光刻胶海外供应告急

据了解，光刻胶板块本轮异动的背后，是KrF光刻胶海外供应告急。自日本福岛2月份发生强震后，光刻胶市场一度传出“因受地震影响，信越化学KrF光刻胶生产以及海外供货受阻”的消息，但是时隔3个月，KrF光刻胶在中国大陆的供应困境依然没有缓解。

从KrF光刻胶的供需来看，当前的中国大陆KrF光刻胶供应告急不难理解。

在供应方，中国大陆光刻胶严重依赖进口，国产化率不足5%，就ArF 光刻胶供应而言，当前该市场由日本企业垄断，头部聚集效应极为明显。根据前瞻产业研究院整理统计，2019 年日本龙头企业 JSR、信越化学、TOK 和住友化学包揽前四，分别占据全球 ArF 光刻胶细分市场 25%、23%、20%和 15%市场份额，总计市场份额达到 83%。而第五名的美国陶氏化学在 ArF 光刻胶领域只占据 4%的市场份额。

在这种情况下，供货占全球两成的信越化学KrF光刻胶产线受地震影响产线至今尚未完全恢复，对原本供应就紧张的光刻胶市场而言雪上加霜。

其它光刻胶厂商对KrF光刻胶的供应困境解决也有心无力，因为自2020年底以来，KrF光刻胶市场的需求实在是太强劲了。

一方面，据了解，目前半导体光刻胶最常使用曝光波长分类，主要有 g 线、i 线、KrF、ArF 和最先进的 EUV 光刻胶，其中 DUV 光刻机分为干法和浸润式，因此 ArF 光刻胶也对应分为干法和浸润式两类。不同晶圆尺寸所需的光刻胶类别不一。

本次供应紧张的KrF光刻胶对应的正是大热门的8寸晶圆生产需求。受疫情带来的“宅经济”和汽车半导体的强劲需求拉动，从去年下半年开始，8寸晶圆制造产能逐渐扩张，对KrF光刻胶的需求也水涨船高，造成了光刻胶等原材料的短缺和价格上涨。

另一方面，根据国家半导体产业协会数据显示，2017-2020年间，中国大陆新建27座晶圆厂，在全球新建晶圆厂数量中占比43.5%，将成为全球晶圆厂投资活动最活跃的地区。大量新增晶圆厂的产能带来了庞大的光刻胶市场需求。

此外，光刻胶的紧缺与其市场交易习惯也有一定关系。光刻胶作为晶圆制造的核心化学工艺品，有效期较短，晶圆厂正常的库存通常不会太多，因此光刻胶供应链易受自然灾害或政治经济冲突等突发事件影响，产生缺货、涨价现象。

国产KrF光刻胶技术处于追赶期

海外供应告急之下，国产KrF光刻胶的发展也备受关注。据了解，一直以来，光刻胶的客户壁垒较高，市场上光刻胶产品的更新速度较快，光刻胶厂家为了实现技术保密性，会与上游的原料供应商保持密切合作关系，共同研发新技术，增大了客户的转换成本。

但现在中小晶圆厂苦于位列海外光刻胶客户列表尾部，目前无货可取，在地缘政治的风险下，大客户也在积极建设光刻胶的本土供应链，国产光刻胶产品在国内有望迎来新一轮的客户导入。

据不完全统计，目前中国多家光刻胶供应厂商已经宣布在KrF光刻胶领域取得技术进展，主要有北京科华微电子、晶瑞股份，南大光电，上海新阳等。

整体而言，国产KrF光刻胶还处于客户验证与导入阶段。预计伴随KrF光刻胶、ArF光刻胶研发完毕顺利完成客户验证后，国产光刻胶将进入国产替代的高峰期。

北京科华：KrF已量产，ArF光刻胶尚在研发过程中

北京科华微电子材料有限公司是一家中美合资企业，现该公司的第一股东为彤程新材，是目前国内唯一一家可供应KrF光刻胶企业。

北京科华成立于 2004 年，是一家产品覆盖 KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂供应商与服务商，也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。科华微电子光刻胶产品序列完整，产品应用领域涵盖集成电路（IC）、发光二极管（LED）、分立器件、先进封装、微机电系统（MEMS）等。

产品类型覆盖 KrF（248nm）、G/I 线（含宽谱），主要包括：KrF光刻胶 DK1080、DK2000、DK3000系列；g-i line 光刻胶 KMP C5000、KMP C7000、KMP C8000、KMP EP3100 系列和 KMP EP3200A 系列；Lift-off 工艺使用的负胶 KMP E3000 系列；用于分立器件的 BN、BP 系列等。

晶瑞股份：KrF已完成中试，ArF光刻胶尚在研发过程中

苏州晶瑞化学股份有限公司是一家生产销售微电子业用超纯化学材料和其他精细化工产品的上市企业，产品广泛应用于超大规模集成电路、LED、TFT-LCD 面板制造过程、太阳能硅片的蚀刻与清洗。

2020 年 8 月 21 日晶瑞股份中报披露其子公司苏州瑞红 1993 年开 始光刻胶生产，承担并完成了国家 02 专项“i 线光刻胶产品开发及产业化”项目，i 线光刻胶已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货，KrF 光刻胶完成中试，产品分辨率达到了 0.25～0.13µm 的技术要求，建成了中试示范线。

2020 年 10 月 12 日，晶瑞股份对深交所关注函的回复公告显示，公司拟购买光刻机设备的型号为 ASML XT 1900Gi ArF 浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达 28nm 的高端光刻胶。

南大光电：子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶已通过客户认证

南大光电是一家专业从事先进电子材料高纯金属有机化合物的研发、生产和销售的高新技 术企业，对关键技术拥有完全自主知识产权，亦是全球 MO 源领导供应商之一，产品主要应用于下游制备 LED 外延片等。

在半导体光刻胶领域，南大光电拟投资 6.56 亿元，3 年建成年产 25 吨 193nm（ArF 干式和浸没式）光刻胶生产线，该启动项目已获得国家 02专项正式立项。

2020 年 11 月 6 日，南大光电披露 2020 年度向特定对象发行股票预案， 拟向特定对象发行股票的募集资金总额不超过 6.35 亿元，其中 1.5 亿元拟用于先进光刻 胶及高纯配套材料的开发和产业化、ArF 光刻胶产品的开发和产业化。

上海新阳：主攻KrF和干法ArF光刻胶，目前已进入产能建设阶段

上海新阳是以技术为主导，立足于自主创新的高新技术企业，专业从事半导体行业所需电子化学品及配套设备的研发设计、生产制造和销售服务，致力于为用户提供化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案。

上海新阳主攻 KrF 和干法 ArF 光刻胶，已经进入产能建设阶段。根据 2020 年 11 月 3 日定增预案，公司拟定增募资不超过14.50 亿元，其中 8.15 亿元拟投资于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目，主要目标为实现 ArF 干法工艺使用的光刻胶和面向 3D NAND 台阶刻蚀的 KrF 厚膜光刻胶的产业化，力争于 2023 年前实现上述产品的产业化，填补国内空白。

编辑：jq