0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

南大光电将建成光刻胶生产线,明年或光刻机进场

汽车玩家 来源:集微网 作者:小如 2019-12-16 13:58 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

据北仑新闻网报道,位于芯港小镇的南大光电材料公司,将于2020年2月迎来光刻机进场。

今年7月17日,南大光电在互动平台透露,公司设立光刻胶事业部,并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”,全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。目前该项目完成的研发技术正在等待验收中,预计2019年底建成一条光刻胶生产线,项目产业化基地建设顺利。

10月23日,南大光电发布公告称,目前公司“193nm 光刻胶产品的开发与产业化项目”顺利推进。为适应国家集成电路创新发展,公司将加大对先进光刻胶材料以及配套原材料的建设。据悉,南大光电当日与宁波经济技术开发区管委会签署了《投资协议书》。南大光电拟在宁波经济技术开发区投资开发高端集成电路制造用各种先进光刻胶材料以及配套原材料和底部抗反射层等高纯配套材料,形成规模化生产能力,建立配套完整的国产光刻胶产业链。项目计划总投资6亿元,项目完全达产后,预计实现约10亿元的年销售额,年利税预计约2亿元。

2017年8月,中国(宁波)芯港小镇正式启动,芯港小镇主要聚焦发展以集成电路产业为代表的新一代信息技术产业,据悉,芯港小镇目前已有中芯宁波等24个项目落户,总投资超130亿元,涵盖了芯片制造、关键材料、设备、设计等四大类别。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5446

    文章

    12464

    浏览量

    372611
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1196

    浏览量

    48724
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,一直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够,还需要光刻胶、掩膜版以及
    的头像 发表于 10-28 08:53 5824次阅读

    光刻胶剥离工艺

    光刻胶剥离工艺是半导体制造和微纳加工中的关键步骤,其核心目标是高效、精准地去除光刻胶而不损伤基底材料已形成的结构。以下是该工艺的主要类型及实施要点:湿法剥离技术有机溶剂溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的头像 发表于 09-17 11:01 974次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺

    国产百吨级KrF光刻胶树脂产线正式投产

      电子发烧友网综合报道 近日,八亿时空宣布其KrF光刻胶万吨级半导体制程高自动化研发/量产双产线顺利建成,标志着我国在中高端光刻胶领域的自主化进程迈出关键一步。   此次
    的头像 发表于 08-10 03:26 8771次阅读

    国产光刻胶突围,日企垄断终松动

    量产到ArF浸没式验证,从树脂国产化到EUV原料突破,一场静默却浩荡的技术突围战已进入深水区。   例如在248nm波长的KrF光刻胶武汉太紫微的T150A以120nm分辨率和
    的头像 发表于 07-13 07:22 5645次阅读

    针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在晶圆上芯片制造工艺中,光刻胶剥离是承上启下的关键环节,其效果直接影响芯片性能与良率。同时,光刻图形的精确测量是保障工艺精度的重要手段。本文将介绍适用于晶圆芯片工艺的光刻胶剥离方法,并探讨白光
    的头像 发表于 06-25 10:19 725次阅读
    针对晶圆上芯片工艺的<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在显示面板制造的 ARRAY 制程工艺中,光刻胶剥离是关键环节。铜布线在制程中广泛应用,但传统光刻胶剥离液易对铜产生腐蚀,影响器件性能。同时,光刻图形的精准测量对确保 ARRAY 制程工艺精度
    的头像 发表于 06-18 09:56 610次阅读
    用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

        引言   在半导体制造领域,光刻胶剥离工艺是关键环节,但其可能对器件性能产生负面影响。同时,光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至关重要。本文将探讨减少光刻胶剥离工艺影响的方法,并介绍白光
    的头像 发表于 06-14 09:42 654次阅读
    减少<b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶产业国内发展现状

    ,是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照辐射,溶解度会发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中的关键材料。 从芯片生产的工艺流程上来说,光刻胶的应用处于芯片设计、制造、
    的头像 发表于 06-04 13:22 640次阅读

    光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

    引言 在半导体制造与微纳加工领域,光刻胶剥离液是光刻胶剥离环节的核心材料,其性能优劣直接影响光刻胶去除效果与基片质量。同时,精准测量光刻图形对把控工艺质量意义重大,白光干涉仪为此提供了
    的头像 发表于 05-29 09:38 968次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>剥离液及其制备方法及白光干涉仪在<b class='flag-5'>光刻</b>图形的测量

    光刻胶的类型及特性

    光刻胶类型及特性光刻胶(Photoresist),又称光致抗蚀剂,是芯片制造中光刻工艺的核心材料。其性能直接影响芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介绍了光刻胶类型和
    的头像 发表于 04-29 13:59 6882次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的类型及特性

    【「芯片通识课:一本书读懂芯片技术」阅读体验】了解芯片怎样制造

    TSMC,中芯国际SMIC 组成:核心:生产线,服务:技术部门,生产管理部门,动力站(双路保障),废水处理站(环保,循环利用)等。生产线主要设备: 外延炉,薄膜设备,光刻机,蚀刻
    发表于 03-27 16:38

    芯片制造:光刻工艺原理与流程

    光刻胶:   光掩膜:如同芯片的蓝图,上面印有每一层结构的图案。 ‍   ‍光刻机:像一把精确的画笔,能够引导光线在光刻胶上刻画出图案。   光刻胶:一种特殊的感光材料,通过
    的头像 发表于 01-28 16:36 3035次阅读
    芯片制造:<b class='flag-5'>光刻</b>工艺原理与流程

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 5702次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    光刻掩膜技术介绍

    。 掩膜版对下游行业生产线的作用主要体现为,利用掩膜版上已设计好的图案,通过透光与非透光的方式进行图像(电路图形)复制,将电路图案精确地转移到硅片上的光刻胶层。随后,经过蚀刻、掺杂等步骤,在硅片上形成所需的电路结构,从而实现批量生产
    的头像 发表于 01-02 13:46 4584次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>掩膜技术介绍

    光刻胶成为半导体产业的关键材料

    光刻胶是半导体制造等领域的一种重要材料,在整个电子元器件加工产业有着举足轻重的地位。 它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成。其中,感光树脂决定了光刻胶的感光度和分辨率等关键性能,增感剂有助于提高
    的头像 发表于 12-19 13:57 1774次阅读