余名代表参会。本次会议为参会代表提供了交流思想、促进合作、共谋发展的良好平台，为我国等离子体生物医学的研究和应用发展起到了重要推动作用。深挖行业应用，新品迭出本次会议现
2024-03-22 08:01:18
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Aigtek诚邀您参会2024年3月15-17日，Aigtek安泰电子将携一众明星产品及专业测试解决方案亮相第一届全国等离子体生物医学学术会议。在此，我们诚邀您莅临会议参观、洽谈与观摩！-时间
2024-03-07 08:01:05182 pcb等离子处理的5大作用
2024-03-05 10:24:4897 解决核聚变反应中过热等离子体不可预测性问题，是实现稳定电力产出的最大瓶颈之一。近期，美国普林斯顿等离子体物理实验室（简称 PPPL）取得重要进展，已经成功研发新型AI系统，可提前300毫秒预测聚变中等离子体的“撕裂”行为
2024-02-28 16:08:07250 双极性晶体管是利用两种离子导电，空穴和自由电子，但是对于一个实际存在的系统，其整体上是呈现电中性的，当其中的电子或者空穴移动形成电流时，与之对应的空穴或者电子为什么不会一起随着移动？
这个问题困扰
2024-02-21 21:39:24
共读好书 陈婷 周伟洁 王涛 （无锡中微高科电子有限公司） 摘要： 研究了微波等离子工艺影响导电胶形貌的机理，进一步分析了等离子清洗次数对电路可靠性的影响。结果表明，对装片后的电路进行 1 次等离子
2024-02-20 13:37:16125 
等离子发动机原理： 等离子发动机是一种利用电磁力将离子加速并喷射出来产生推力的发动机。它主要包括等离子体产生器、离子加速器和喷嘴等组成。下面将详细介绍等离子发动机的工作原理。 生成等离子体：等离子
2024-02-14 18:18:003168 。下面将详细介绍等离子显示器的特点和工作原理。 一、等离子显示器的特点： 1.较高的对比度：等离子显示器的对比度通常在5000:1到10000:1之间，相比之下，液晶显示器的对比度一般为1000:1到2000:1。高对比度可以提供更明亮和更黑的显示效果，使图像更生动逼真。 2
2024-02-03 10:00:17305 为实现碳化硅晶片的高效低损伤抛光，提高碳化硅抛光的成品率，降低加工成本，对现有的碳化硅化学机械抛光 技术进行了总结和研究。针对碳化硅典型的晶型结构及其微观晶格结构特点，简述了化学机械抛光技术对碳化硅
2024-01-24 09:16:36431 
。常见的干法刻蚀设备有反应离子刻蚀机（RIE）、电感耦合等离子体刻蚀机（ICP）、磁性中性线等离子体刻蚀机（NLD）、离子束刻蚀机（IBE），本文目的对各刻蚀设备的结构进行剖析，以及分析技术的优缺点。
2024-01-20 10:24:561106 
最后的抛光步骤是进行化学蚀刻和机械抛光的结合，这种形式的抛光称为化学机械抛光(CMP)。首先要做的事是，将晶圆片安装在旋转支架上并且要降低到一个垫面的高度，在然后沿着相反的方向旋转。垫料通常是由一种
2024-01-12 09:54:06358 
传统的手工抛光打磨存在劳动强度高、抛光效果不稳定、难以处理复杂形状、安全风险和无法满足高质量要求等痛点。因此，应用工业机器人进行自动化表面精加工的技术随之崛起。
2024-01-11 11:03:37196 卧式离子风机是一种电子设备，用于消除静电。它采用交流型静电消除器技术，通过产生正负离子来中和物体表面的静电荷，从而达到消除静电的目的。卧式离子风机通常具有大风量、可调节风量等特点，适用于宽泛的消除
2024-01-05 16:07:37143 
——利用在基板上的金属薄膜中产生的表面波来散热，是一个重要的突破。 韩国科学技术学院（KAIST）宣布，机械工程系Bong Jae Lee教授的研究小组在世界上首次成功测量了沉积在基板上的金属薄膜中“表面等离子体激元”（surface pla
2024-01-03 15:32:39184 特性进行更精确的分析氩离子抛光机可以实现平面抛光和截面研磨抛光这两种形式：半导体芯片氩离子截面切割抛光后效果图： 聚焦离子束FIB切割+SEM分析聚焦离子束FIB测试原理：聚焦离子束(FIB)系统
2024-01-02 17:08:51
的是单一的离子源。 凯仕德单头离子风机KF-06WR 相比之下，多头离子风机具有多个离子发生器和风扇，可以产生多个离子流。这种设计使得多头离子风机能够提供更广泛的覆盖范围，并能够更有效地中和大面积的静电。多头离子风机适用于
2023-12-28 15:40:54101 
CMP技术指的是在化学和机械的协同作用下，使得待抛光原料表面达到指定平面度的过程。化学药水与原料接触后，生成易于抛光的软化层，随后利用抛光垫以及研磨颗粒进行物理机械抛光，以清除软化层。
2023-12-28 15:13:06409 需要指出的是，CMP 技术通过化学与机械作用使得待抛光材料表面达到所需平滑程度。其中，抛光液中化学物质与材料表面发生化学反应，生成易于抛光的软化层。抛光垫和研磨颗粒则负责物理机械抛光，清除这一软化层。
2023-12-27 10:58:31335 
方向吹出，从而在更大的区域内消除静电。
KESD多头自动清洁型离子风机KF-60AR的特点：
①清洁时风扇反转，防止清洁的异物吹向产品。
②自动离子平衡系统，离子平衡可达：0±10V以内。
③可根据
2023-12-26 13:56:16
01、重点和难点 等离子体通常被认为是物质的第四态，除了固体、液体和气体之外的状态。等离子体是一种高能量状态的物质，其中原子或分子中的电子被从它们的原子核中解离，并且在整个系统中自由移动。这种状态
2023-12-26 08:26:29209 
功能，能够消除产品静电，避免静电对电子设备造成干扰和损坏。 凯仕德防静电离子风扇KF-10AW 凯仕德KESD小型高频防静电离子风扇KF-10AW的特点有： ①具备异常报警系统。 ②具有整机锁定功能。 ③自动离子平衡系统，离子平衡可达
2023-12-22 17:12:43299 
01、重点和难点 在硅材料加工和研究领域，皮秒脉冲激光激发的等离子体对于提高加工技术、开发创新设备以及加深对材料物理特性的理解都有重大研究意义。这种影响尤其体现在硅材料表面等离子体形态变化的研究
2023-12-19 10:53:11236 
众所周知，化合物半导体中不同的原子比对材料的蚀刻特性有很大的影响。为了对蚀刻速率和表面形态的精确控制，通过使用低至25nm的薄器件阻挡层的，从而增加了制造的复杂性。本研究对比了三氯化硼与氯气的偏置功率，以及气体比对等离子体腐蚀高铝含量AlGaN与AlN在蚀刻速率、选择性和表面形貌方面的影响。
2023-12-15 14:28:30227 
基于GaN的高电子迁移率，晶体管，凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度，应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言，GaN的相关材料，如AlGaN，凭借其物理和化学稳定性，为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24294 
或分子的集合。等离子体态可以用在半导体工艺流程中的工艺气体方面，由于其高能量的特点，可以应用于高能射频(RF)领域。它们在半导体技术中作为激励源，用于引起气体混合物中的化学反应。它们的优点之一是可以以更低的温度来输送能量，比传统的系统，如烤箱的对流加热温度要更低。
2023-12-08 09:47:18232 
改变我们生活的锂离子电池 | 第一讲：什么是锂离子电池？专家谈锂离子电池的工作原理和特点
2023-12-06 15:12:27245 
光捕获技术是提高太阳能电池光吸收率的有效方法之一，它可以减少材料厚度，从而降低成本。近年来，表面等离子体（SP）在这一领域取得了长足的进步。利用表面等离子体的光散射和耦合效应，可以大大提高太阳能电池的效率。
2023-12-05 10:52:27497 
CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化学机械抛光”，是为了克服化学抛光和机械抛光的缺点
2023-12-05 09:35:19416 
高压放大器在等离子体实验中有多种重要应用。等离子体是一种带电粒子与电中性粒子混合的物质，其具有多种独特的物理性质，因此在许多领域具有广泛的应用，例如聚变能源、等离子体医学、材料加工等。下面安泰电子将介绍高压放大器在等离子体实验中的应用。
2023-11-27 17:40:00189 
一种使用等离子体激元的新型成像技术能够以增强的灵敏度观察纳米颗粒。休斯顿大学纳米生物光子学实验室的石伟川教授和他的同事正在研究纳米材料和设备在生物医学、能源和环境方面的应用。该小组利用等离子
2023-11-27 06:35:23121 化学机械抛光（CMP）是目前最主流的晶圆抛光技术，抛光过程中，晶圆厂会根据每一步晶圆芯片平坦度的加工要求，选择符合去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）等指标要求的抛光液，来提高抛光效率和产品良率。
2023-11-16 16:16:35212 近日，深圳技术大学阮双琛教授和周沧涛教授团队在国际上首次提出基于超光速等离子体尾波场产生阿秒脉冲、亚周期相干光激波辐射的物理方案，并阐释了一种由电子集体作用主导的全新相干辐射产生机制。
2023-11-09 10:40:40307 
近年来，铜(Cu)作为互连材料越来越受欢迎，因为它具有低电阻率、不会形成小丘以及对电迁移(EM)故障的高抵抗力。传统上，化学机械抛光(CMP)方法用于制备铜细线。除了复杂的工艺步骤之外，该方法的一个显著缺点是需要许多对环境不友好的化学品，例如表面活性剂和强氧化剂。
2023-11-08 09:46:21188 
众所周知，倾斜光纤光栅可以激发众多的包层模式，并且对光纤表面周围环境敏感。当光纤包层模式与表面等离子共振相位匹配时，倾斜光纤光栅可以在金表面激发倏逝表面等离子体共振波。
2023-10-20 15:48:08330 
等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分，随着微电子技术的发展，等离子体清洗的优势越来越明显。文章介绍了等离子体清洗的特点和应用，讨论了它的清洗原理和优化设计方法。最后分析了等离子体清洗工艺的关键技术及解决方法。
2023-10-18 17:42:36447 
焊线连接：工艺通过使用氩离子进行物理撞击，移除基材上的微量污染和氧化物。这种工艺对于解决焊线接合力不足是一种非常有效的途径。主要优点包括焊线接合力具有显著的增长。焊线过程中对于设备输出压力值的需求降低可以提高生产能力。
2023-10-16 10:24:22799 
等离子表面处理机在PCB制程中扮演了关键的角色，它有助于提高了电路板的质量、可靠性和性能。这对于电子制造和各种应用中的PCB制程都非常重要。
2023-10-05 09:53:47384 
欧洲极紫外光刻（EUVL）技术利用波长为13.5纳米的光子来制造集成电路。产生这种光的主要来源是使用强大激光器产生的热锡等离子体。激光参数被调整以产生大多数在13.5纳米附近发射的锡离子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:50264 
基于电池供电的等离子打火机。制作新奇打印方式的等离子打印机！包含相关图文说明、代码、线路图
2023-09-22 07:54:27
为了提高等离子消融手术系统的频率输出,提出一种新型的全桥拓扑结构。应用LCR谐振原理,对传统的全桥逆变拓扑结构进行改进,当谐振电路工作在恰当的区域可以实现开关管的零电压的开通和近似零电压的关断,能
2023-09-20 07:38:22
纳米级[1] 。传统的平面化技术如基于淀积技术的选择淀积、溅射玻璃 SOG、低压 CVD、等离子体增强 CVD、偏压溅射和属于结构的溅射后回腐蚀、热回流、淀积 —腐蚀 —淀积等 , 这些技术在 IC
2023-09-19 07:23:03
背景 Adi Salomon 教授的实验室主要致力于了解纳米级分子与光的相互作用，并构建利用光传感分子的设备。该小组设计并制造了金属纳米结构，并利用它们通过与表面等离子体激元的相互作用来影响纳米
2023-09-19 06:28:29223 
得益于半导体业界的繁荣，世界cmp抛光液市场正在经历明显的增长。cmp抛光液是半导体制造中的关键成分，在实现集成电路制造的精度和效率方面发挥了关键作用。随着技术的发展，半导体的格局不断重新形成，对cmp抛光液的需求从来没有这么高过。
2023-09-14 10:28:36663 离子风蛇是一种坐立式静电消除器，可手动将蛇管变形使风蛇指向目标方向，让离子气流直流吹向目标表面，方便移动，适用于工厂车间、电子行业、半导体行业、薄膜、卷料、分切等行业。可安放于各种工作区域，除静电
2023-09-11 09:44:24382 
智能离子风棒联网监控静电消除器是一种应用了物联网技术的设备，用于监测和控制静电消除过程。下面是该设备的工作原理和特点： 工作原理： 1. 检测静电水平：智能离子风棒内置传感器，可以实时监测环境
2023-09-08 09:22:27337 
光学加工是一个非常复杂的过程。难以通过单一加工方法加工满足各种加工质量指标要求的光学元件。平面抛光机的基础是加工材料的微去除。实现这种微去除的方法包括研磨加工、微粉颗粒抛光和纳米材料抛光。根据
2023-08-28 08:08:59355 
来自斯图加特大学(德国)的 Harald Gießen 教授的团队正在致力于将光子学和纳米技术用于新的应用和设备。研究人员正在研究通过控制等离子体效应来创建显示器的技术。等离激元学研究光与金属纳米
2023-08-23 06:33:33215 
到需要清洁时，会自动启动清洁程序，通过扫描和清除沉积物，保持设备在高效工作状态。 自动清洁离子风机通常具有以下特点： 1. 自动感知：通过传感器监测空气质量，能够自动感知空气中的污染物浓度和沉积物情况。 2. 自动清洁
2023-08-11 09:32:30237 
等离子体显示器在对比度、视角和响应速度等方面的优势较为显著，适合用于娱乐和家庭影院等方面；而液晶显示器则在功耗、分辨率和便携性等方面有一定的优势，适合办公和移动设备等领域。选择时，可以根据使用需求和个人偏好来进行选择。
2023-08-10 14:38:36766 离子风蛇是一种坐立式静电消除器，可手动将蛇管变形使风蛇指向目标方向，让离子气流直流吹向目标表面，方便移动，适用于工厂车间、电子行业、半导体行业、薄膜、卷料、分切等行业。可安放于各种工作区域，除静电
2023-08-09 10:33:15329 随着社会的不断进步，在电子行业、生产车间、半导体行业用到防静电离子风棒越来越广泛。 离子风棒是一种固定式消除静电的专用设备。属于棒式除静电产品的一种。具有安装简易、工作稳定、消除静电速度快的特点
2023-08-09 10:30:49379 
20世纪60年代以前，半导体基片抛光还大都沿用机械抛光，得到的镜面表面损伤是极其严重的。1965年Walsh和Herzog提出SiO2溶胶和凝胶抛光后，以SiO2浆料为代表的化学机械抛光工艺就逐渐代替了以上旧方法。
2023-08-02 10:48:407522 
在常规离子注入中，三氟化硼常用于形成P型浅结的注入不是B,因为BF2+离子大且重。B10H14,B18H22和硼烷（C2B10&或CBH）是研究中的大分子。
2023-07-21 10:18:571397 
亿美元的三维多芯片集成封装项目稳步推进，跨入新的发展阶段。 首批搬入的设备涵盖了曝光、显影、电镀、清洗、等离子溅射、减薄抛光、检测量测等晶圆级先进封装主要工艺环节。值得一提的是，2015年盛合晶微创立之初，首条12英寸中段凸块（Bum
2023-07-20 19:12:591212 NanoFab 显微镜可在镓、氖及氦离子束之间实现无缝切换。 产品特点： 快速亚 10 nm 结构加工 使用氖和氦离子束加工有超高精度要求的精细亚 10 纳米结构。无论是使用溅射、气体辅助切割、气体
2023-07-19 15:45:07244 
1、产品简介： 放电等离子烧结 (SPS)是一种快速、低温、节能、环保的材料制备新技术，可用来制备金属、陶瓷、纳米材料、非晶材料、复合材料、梯度材料等
2023-07-16 23:06:19
与其他柔性光学汗液传感器相比，该汗液传感器结合了灵活性、纳米多孔性和等离子体效应的特点，并具备长期稳定性和良好的机械性能，且可重复利用以降低使用成本。
2023-07-12 09:43:03756 
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 14:27:42
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 12:18:07
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统, 实现小规模试验中 2-4 英寸硅片等半导体衬底表面的清洁, 确保样品表面清洁无污染, 满足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制备.
2023-07-07 14:55:44439 
来源：芯智讯，谢谢 编辑：感知芯视界 6月29日，据中国电子科技集团有限公司（以下简称“中国电科”）官方消息，该集团旗下中电科电子装备集团有限公司（以下简称“电科装备”）已实现国产离子注入机28纳米
2023-07-03 09:16:46649 脉冲离子风机是一种新型的气体离子发生器，它利用脉冲电场作用使气体分子电离并产生离子风，具有广泛的应用前景。本文将介绍脉冲离子风机的工作原理、特点及其在各领域的应用。
2023-07-01 09:40:29346 脉冲离子风棒是一种独特的清洁工具，它利用高能离子风的冲击力，可以快速而彻底地清洁物体表面静电。本文将介绍脉冲离子风棒的工作原理、特点以及其在清洁领域的应用。 脉冲离子风棒的工作原理是利用高能脉冲电场
2023-06-29 15:17:50538 
脉冲离子风机是一种新型的气体离子发生器，它利用脉冲电场作用使气体分子电离并产生离子风，具有广泛的应用前景。本文将介绍脉冲离子风机的工作原理、特点及其在各领域的应用。 脉冲离子风机的工作原理是利用高压
2023-06-28 09:46:28426 随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm，铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻，我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压，但大多数铝蚀刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
离子风枪广泛的应用于各行各业中，发挥其除静电作用。一般在使用一台设备的时候，是不是先去了解它的使用说明呢？这样不仅节约时间，对设备的使用寿命也起到一定的作用。那么，离子风枪有哪些使用说明呢？看看离子
2023-06-27 12:57:50798 近日，Nano Letters（《纳米快报》）在线发表武汉大学高等研究院梁乐课题组和约翰霍普金斯大学Ishan Barman课题组关于高效构建等离子增强NV色心的纳米器件研究进展，他们利用自下向上的DNA自组装方法开发了一种混合型独立式等离子体纳米金刚石
2023-06-26 17:04:52396 
电抛光smt钢网是什么工艺，它与其他smt钢网相比有哪些优点呢，今天我们为大家做深入的讲解，希望帮助大家在选购适合自己工厂真正需要的smt钢网。
2023-06-19 10:17:44568 交流电源板过载防护高电压气体放电管 气体放电管- GDT /气体等离子体避雷器 2R3600ML5 Gas Discharge
2023-06-14 17:30:02
在现代工业中，表面加工是至关重要的一环。为了达到所需的表面粗糙度、光洁度和平整度等要求，往往需要进行抛光处理。
2023-06-08 11:13:552652 
当质谱仪选择了所需的离子后，离子将进入后段加速区域，射束电流与最后的离子能量被控制在该区内，离子束电流利用可调整的叶片控制，而离子能量则由后段加速电极的电位控制。
2023-06-04 16:38:261180 
在化学腐蚀点处的浓度越高，腐蚀速率越快。在抛光过程中抛光液持续流动，我们假设在腐蚀点处的浓度可以保持初始时的浓度，腐蚀率以最快的速度发生，则抛光液不同的PH值对应一个腐蚀率，由此可见，去除速率与PH值有关，PH越高，速率越快。
2023-06-02 15:24:06344 
使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验，探究了滴液速率、抛光头转 速、抛光压力、抛光时长及晶片吸附方式等工艺参数对晶片表面粗糙度的影响，并对工艺参数进行了优化，最终 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子级光滑碳化硅晶片。
2023-05-31 10:30:062212 
速科德Kasite打磨抛光主轴主要对高精度零件的加工处理，如汽车零部件、光纤接插件陶瓷加工、义齿加工雕铣等行业。这些高精度零件如果在抛光打磨过程中稍有误差可能就会导致零件的报废，造成较大的经济损失，因此一款高精度高性能打磨抛光主轴就显得尤为重要。
2023-05-29 17:39:48743 
使用负偏压的萃取电极将离子从离子源内的等离子体中抽出，并将其加速到大约50keV的能量。
2023-05-29 09:37:59385 
高压直流电源用于加速离子，大约为200kV的DC电源供应系统被装配在注入机内。为了通过离子源产生离子，需要用热灯丝或射频等离子体源。热灯丝需要大电流和几百伏的供电系统，然而一个射频离子源需要大约
2023-05-26 14:44:171356 
金属银镀PTFE涂层等离子处理是指在金属镀银进行PTFE涂层，并在PTFE涂层上进行等离子处理的一种表面处理技术。该技术可以使金属表面具有一定的耐腐蚀性、耐磨性和耐高温性，同时还可以提高金属表面的润滑性和粘附性。
2023-05-25 15:54:14513 
为了形成高密度等离子体，需要有激发混合气体的射频（RF）源，并直接使高密度等离子体到达硅片表面。在HDP-CVD反应腔中，主要是由电感耦合等离子体反应器（ICP）来产生并维持高密度的等离子体。当射频电流通过线圈（coil）时会产生一个交流磁场
2023-05-22 15:47:373156 
PTFE表面等离子改性是一种有效的技术手段，可以改变PTFE表面的性质，增加其在各个领域的应用。通过引入亲水基团、改善表面形貌、形成致密的氟化物膜等方式，可以提高PTFE表面的粘附性、润湿性、抗腐蚀性、耐磨性、生物相容性和电性能。
2023-05-19 10:45:39628 
在天体物理学中，有许多天体都具有强大的磁场，例如恒星、行星和黑洞。这些天体周围通常有大量的等离子体，例如恒星风、行星际介质和吸积盘。
2023-05-17 09:24:16452 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准射频等离子体源 RF2100ICP Plasma Source上海伯东代理美国 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
芯片等离子活化技术是一种物理处理技术，通过改变材料表面的化学性质、物理性质和机械性能，实现对材料的表面处理和改性。芯片等离子活化技术具有处理效率高、处理精度高、无需添加剂、处理后材料性能稳定和应用范围广泛等优势。
2023-05-06 10:44:50651 
智能联网感测型离子风机STC-801GML-CC是新产品，在各项性能指标上可以和进口产品相媲美，完全可以替代进口离子风机，那么它有哪些特点呢？接下来为您详细介绍一下。
2023-05-05 16:15:43260 
通过金徕等离子体处理，可以提高金属表面的活性，改善金属表面的结合力、增强涂层附着力等性质，使得金属制品的质量和性能得到明显的改善和提升。此外，等离子体处理还可以改善金属表面的光洁度，使得金属表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23525 
一、自动抛光机的抛光效果因素自动抛光机的抛光效果取决于多个因素，除了自动抛光机本身的质量以外，还包括使用工艺、选用什么样的抛光辅料，要抛光物件材质，操作者的经验技术等，在条件都合适的情况下，自动
2023-05-05 09:57:03535 (6~10mm)、温度漂移等问题,无法满足发动机复杂机械内部非定常测量的需要。而在对新技术的探索中,等离子体技术由于其有着许多先天优势而引起了研究者们的关注，如其理论上有着高频率响应的特性、不受热惯性的限制、基于等离子体原理的探针结构尺寸小,可达毫米尺度。因此认为其具有十分优秀的发展潜力，有望突破高温高
2023-04-19 15:29:42260 
为满足集成电路中对纳米结构器件的尺寸及质量的高性能要求，有效地解决表面等离子体光刻技术中存在的near-field OPE问题，中国科学院大学集成电路学院教授韦亚一课题组通过对表面等离子体光刻特有的近场增强效应进行定量表征
2023-04-18 10:49:03473 设备所替代。 自动化抛光设备一般是针对特定工艺特定工件而设计的非标设备，可以进行高效率的抛光打磨工作，常见的设备便是工业机器人。物通博联工业智能网关可以采集各类打磨抛光设备、工业机器人内的控制器PLC数据，将各
2023-04-14 10:21:59337 
很早以前看过这样一个报道：德国、日本等国家的科学家耗时5年时间，花了近千万元打造了一个高纯度的硅-28材料制成的圆球，这个1kg纯硅球要求超精密加工研磨抛光、精密测量（球面度、粗糙度和质量），可谓
2023-04-13 14:24:341683 全硅等离子体色散效应环形谐振器调制器具有诱人的发展前景。然而，其性能目前受限于调制深度和开关速度之间的权衡。
2023-04-12 09:12:121594 大家目前对于等离子光谱仪的普遍使用早已见怪不怪了，这种相对来说较为细致的设备是一定要尽早的实施维修保养的，否则很容易就没办法运用或者机械设备产生情况，下面大家一起来看看等离子光谱仪需要进行哪种
2023-04-07 07:37:42124 
导读： 屏(也叫面板)，是等离子电视最重要的部件，占整机成本的六、七成。屏的好坏，直接决定着平板电视的优劣。目前世界上只有韩国LG、三星和日本的松下等少数厂商具备等离子屏的生产能力，其中LG的A3生产线被公认为最先进的等离子生产线。很大程度上，等离子电视的选择就是等离子屏的选择。
2023-03-30 15:56:10452 尤为重要了。 1：工业除静电离子风嘴的原理 工业除静电离子风嘴是一种高科技产品，它通过高压电场作用于材料表面，使其电离从而达到除尘的目的。常见的等离子体有CFO、PLAM-SINK及VESD等几种。高压电击产生巨大能量，能够将不良电荷中
2023-03-29 09:35:52367 
2RM3600A6L2 气体放电管- GDT /气体等离子体避雷器3600Discharge 2-Electrode Arrester 5.5*6 直流击穿电压3600V气体
2023-03-27 17:04:09
随着工业生产的不断发展，除静电离子风机已成为一种重要设备。然而，由于静电除离子风机具有较强的吸附能力和腐蚀性，其维护与保养工作尤为重要。 1：工业除静电离子风机的运作特性 工业除静电离子风机也被称为
2023-03-23 16:52:27445 
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